技術(shù)編號(hào):7090386
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種上部電極板以及基板處理裝置,特別是涉及一種隔著處理空間與基板載置臺(tái)相向地配置的上部電極板。背景技術(shù)對(duì)作為基板的晶圓實(shí)施蝕刻處理的基板處理裝置具備收容晶圓且能夠減壓的腔室、配置在該腔室內(nèi)以載置晶圓的基板載置臺(tái)以及隔著處理空間與該基板載置臺(tái)相向地配置的上部電極板(CEL)。在減壓的腔室內(nèi)產(chǎn)生等離子體,該等離子體對(duì)晶圓進(jìn)行蝕刻。上部電極板經(jīng)由作為熱擴(kuò)散板而發(fā)揮功能的冷卻板而被電極支承體(UEL)支承。在對(duì)晶圓實(shí)施等離子體處理、例如蝕刻處理的情況下,...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。