技術(shù)編號：7057841
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請案涉及用于替換柵極流程的內(nèi)部L間隔件。通過移除犧牲柵極電介質(zhì)層(110)及犧牲柵極(112)以形成柵極腔(128)而形成集成電路(100)。在所述柵極腔(128)中形成保形電介質(zhì)第一襯里(132)且在所述第一襯里(132)上形成保形第二襯里(134)。第一蝕刻從所述柵極腔(128)的底部移除所述第二襯里(134)，而留下在所述柵極腔(128)的側(cè)壁(114)上的所述第二襯里(134)的材料。第二蝕刻從所述柵極腔(128)的所述底部移除由所述第二襯里(...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。