技術編號：7009931
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供了一種利用等離子體的基板處理裝置。該裝置包括室，其中具有處理空間；基板支撐組件，其定位在室中并且包括支撐基板的靜電卡盤；氣體供給單元，其將氣體供給到所述室中；以及電源，其施加功率以便由供給到室中的氣體產(chǎn)生等離子體。靜電卡盤包括電介質板，其包括通過使用靜電力吸附基板的電極；本體，其定位在電介質板下方并且包括高頻電源連接到其上的金屬板；以及結合單元，其定位在電介質板與本體之間并且將電介質板與本體緊固在一起。結合單元形成為多層結構。專利說明靜電卡盤與基...
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