技術(shù)編號(hào)：6871071
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造行業(yè)使用的設(shè)備，特別是一種氮?dú)獗Ｗo(hù)裝置。背景技術(shù)氮?dú)獗Ｗo(hù)罩(N2 shield)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種常用設(shè)備，其結(jié) 構(gòu)一般如圖1和圖2所示，包括蓋板3、多根排氣管2和多根進(jìn)氣管1， 蓋板3覆蓋在排氣管2上，進(jìn)氣管1穿入排氣管2中并和排氣管2通過(guò)螺 絲4連接，排氣管2上開(kāi)有密集的小孔。工作時(shí)，大量氮?dú)鈴倪M(jìn)氣管1 進(jìn)入排氣管2，然后從排氣管2上的小孔中排出形成氣簾。工作氣體，如 SiH4和02，可以在氣簾和蓋板包圍的空間中進(jìn)行工作，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。