技術(shù)編號(hào)：46767
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本實(shí)用新型涉及一種烤爐，用于加熱和干燥至少一基板。所述烤爐包括一操作腔室、一加熱板以及一多孔板。所述操作腔室具有至少一排氣孔用以排放所述操作腔室內(nèi)加熱的空氣。所述加熱板，設(shè)置于所述操作腔室底部，用以在所述操作腔室內(nèi)產(chǎn)生一加熱效果。所述多孔板，設(shè)置在所述加熱板的邊緣和一排氣孔上方。所述至少一基板設(shè)置于所述加熱板上。本實(shí)用新型通過設(shè)置所述多孔板，讓所述操作腔室中的加熱氣流較為均勻，進(jìn)而改善了加熱溫度不均勻現(xiàn)象。藉此，當(dāng)所述基板為一液晶顯示器基板(liquid crystal display substrate)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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