技術(shù)編號(hào)：4383411
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及TFT-IXD制作工藝設(shè)備，特別涉及一種基板搬運(yùn)裝置。 背景技術(shù)在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)制作工藝中，磁控物理濺射工藝被廣泛應(yīng)用，該工藝中當(dāng)前被廣泛使用的設(shè)備結(jié)構(gòu)中多處容易產(chǎn)生大量粉塵污染，對(duì)后續(xù)工序造成很嚴(yán)重的影響。如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)應(yīng)用于磁控物理濺射工藝過程中的基板搬送裝置結(jié)構(gòu)示意圖。該基板搬送裝置包括內(nèi)框架4、外框架2、固定...
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