技術(shù)編號(hào):40614910
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及電極箔化成浸泡的,尤其涉及一種低壓高比容電極箔生產(chǎn)的化成裝置及化成方法。背景技術(shù)、低壓高比容電極箔是指由正極鋁箔與負(fù)極銅箔制成的、用于鋰離子電池等儲(chǔ)能設(shè)備內(nèi)導(dǎo)電與儲(chǔ)能的材料,電極箔在生產(chǎn)時(shí)通常需要化成反應(yīng)將其電極材料激活,使其能夠進(jìn)行有效的電化學(xué)反應(yīng),其中化成過(guò)程主要包括電解液浸泡、充電與后處理;、現(xiàn)有化成裝置采用多種方式實(shí)現(xiàn)電極箔的浸泡,如公開號(hào)為cnb的中國(guó)發(fā)明專利就公開了一種電極箔化成裝置,包括化成槽,化成槽的上端一側(cè)設(shè)置有放卷輥,且化成槽的上端位于放卷輥的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。