技術(shù)編號(hào)：40613718
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種柔性供應(yīng)結(jié)構(gòu)和包括這種柔性供應(yīng)結(jié)構(gòu)的定位模塊。本發(fā)明還涉及一種包括定位模塊的光刻設(shè)備。背景技術(shù)、光刻設(shè)備是構(gòu)造成將期望的圖案施加到襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例如制造集成電路（ic）。光刻設(shè)備可以例如將圖案形成裝置（例如掩模）處的圖案投影到設(shè)置于襯底上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上。、為了將圖案投影于襯底上，光刻設(shè)備可以使用電磁輻射。該輻射的波長(zhǎng)確定可以形成于襯底上的特征的最小尺寸。相比于可以例如使用波長(zhǎng)為?nm的輻射的光刻設(shè)備，使用波長(zhǎng)在-?nm的范圍內(nèi)（例如....
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。