技術(shù)編號(hào)：3779380
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及二氧化硅膜和二氧化硅類膜、它們的制造方法以及該膜 作為抗反射涂層和/或抗霧化涂層和/或保護(hù)涂層的用途。特別是本發(fā)明涉 及二氧化硅膜和二氧化硅類膜的形態(tài)的控制。背景技術(shù)本發(fā)明人先前己發(fā)明了一種具有特別優(yōu)異的性能的二氧化硅膜。在其他可能有用的性能之中，該膜具有有用的抗霧化和抗反射性能。在2005 年6月2號(hào)公開的公開號(hào)為WO2005/049757的本發(fā)明人的也在申請階段 的國際專利申請中描述了一種形式的二氧化硅膜的一種制造方法。通常，低折射率薄膜通過...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。