技術(shù)編號(hào)：3710447
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種適合用于超微平版印刷的抗反射的聚合物、含有該聚合物的組合物及該聚合物的制備方法。更具體地，本發(fā)明涉及一種在超微平版印刷過程中可以用于抗反射涂層、以降低或阻止光的背反射和/或消除光刻膠層中的駐波影響的聚合物。本發(fā)明還涉及一種包含該聚合物的組合物及其使用方法。在大多數(shù)的超微平版印刷過程中，由于涂于基體上的較低層的光學(xué)性能和/或涂于其上的光敏(即光刻膠)膜的厚度變化，因此不可避免地出現(xiàn)駐波和/或光波的反射刻痕。另外，一般的超微平版印刷過程還會(huì)遇到因...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。