技術(shù)編號:3446284
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及ー種ニ氧化鈦納米片的制備方法,具體為ー種{001}面暴露的具有氧缺陷的可見光二氧化鈦納米片的合成エ藝。背景技術(shù)TiO2是ー種重要的半導(dǎo)體光催化劑,TiO2因?yàn)槠渚G色無毒、催化活性高、化學(xué)穩(wěn)定性好、價(jià)廉易得等受到青睞,成為典型的光催化劑。ニ氧化鈦的光催化性能主要取決于晶相、結(jié)晶度、比表面、結(jié)構(gòu)以及暴露的晶面。研究表明,銳鈦礦ニ氧化鈦晶體各晶面的平均表面能為0. 90J · πΓ2{001}>0· 53J · πΓ2{100}>0· 44...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。