技術(shù)編號：3416476
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)，特別是指一種沉積薄膜的方法、面板和顯示器。背景技術(shù)銦錫氧化物薄膜(簡稱ΙΤ0薄膜)因其具有優(yōu)良的透明、導(dǎo)電等性能而應(yīng)用廣泛，目前主要應(yīng)用于平板顯示、電子發(fā)光和太陽能電池等領(lǐng)域。氮化硅(SiNx)薄膜是一種物理和化學(xué)性能十分優(yōu)良的介質(zhì)膜，具有高的致密性、高的介電常數(shù)、良好的絕緣性能和優(yōu)良的抗堿離子(如Na+，K+)能力等，因此廣泛應(yīng)用于集成電路的保護膜、表面鈍化、層間絕緣、介質(zhì)電容等方面。目前在平板顯示、觸摸屏、半導(dǎo)體器件等領(lǐng)域經(jīng)常需要在...
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