技術(shù)編號:2925493
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用于限制充電效應(yīng)(effet de charge)的離子注入機電源。本發(fā)明的領(lǐng)域是以等離子體浸沒方式工作的離子注入機。因此,襯底的離子注入包括將所述襯底浸沒于等離子體中,并使襯底極化而帶上負電壓,從幾十伏到幾十千伏不等(一般低于100千伏),以形成一電場,所述電場能夠朝所述襯底方向加速所述等離子體中的離子。所述離子的穿透深度由其加速能量確定。所述穿透深度一方面取決于施加在所述襯底上的電壓,另一方面取決于所述離子和所述襯底各自的特性。注入的離子濃度...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。