技術(shù)編號：2741825
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于掩模板制造領(lǐng)域，尤其涉及半灰階掩模板半曝光區(qū)的設(shè)計方法及其制 造方法。背景技術(shù)隨著工藝技術(shù)的發(fā)展，為了提高效率，減少工藝步驟，目前很多TFT-LCD公司都從 五次光刻轉(zhuǎn)到四次光刻，又從四次光刻減化到三次光刻。相應(yīng)的，制造過程中使用的掩模板 (MASK)也從原來使用的兩張掩模板，轉(zhuǎn)化為使用一張灰階掩模板GTM(Gray Tone Mask)或 者半灰階掩模板(HTM =Half Tone Mask)。對于用于制造如TFT-LCD、OLED用半灰階掩...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。