技術(shù)編號：12690805
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于分子印跡材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及表面分子印跡聚合物的制備方法，尤其涉及地塞米松磁性分子印跡聚合物的制備方法。背景技術(shù)地塞米松是一種人工合成的長效糖皮質(zhì)激素，具有調(diào)節(jié)糖、脂肪和蛋白質(zhì)生物合成及代謝的作用。臨床上常用作抗炎、抗毒、抗過敏、抗風濕，可抑制纖維細胞增生，減少5-羥色胺形成。鑒于此，地塞米松常被添加于中藥制劑和保健品中，以提高短期療效，或是添加于化妝品中，達到祛斑美白作用。然而長期攝入或接觸含有地塞米松的中藥制劑或化妝品，會引起向心性肥胖、高血壓、腎臟感染性疾病、激素性糖尿病，以及激素...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。