技術(shù)編號(hào)：12057089
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及核技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域中鈾靶的制備方法，具體涉及要求在厚度30～100μm的鈹片上制備1～10mg的牢固、均勻、致密的鈾靶的電沉積技術(shù)，屬于分析化學(xué)技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域。背景技術(shù)235U在裂變中子譜主要能區(qū)0.5～3.5MeV的裂變截面變化比較平坦，非常適合用于脈沖中子總數(shù)測(cè)量；238U裂變反應(yīng)具有天然較高的閾值，適合于實(shí)現(xiàn)不同能段中子的卡閾測(cè)量。此外，為保證測(cè)量系統(tǒng)信噪比和靈敏度，裂變探測(cè)要求采用厚的鈾靶。裂變探測(cè)系統(tǒng)要求的厚鈾靶作為襯底材料既要薄，以利于離子穿過(guò)而無(wú)過(guò)多的能量損失，又要在照射后不生...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。