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具有壓力指示器的組織按壓裝置的制造方法

文檔序號:9915430閱讀:902來源:國知局
具有壓力指示器的組織按壓裝置的制造方法
【專利說明】具有壓力指示器的組織按壓裝置
[0001]相關申請
[0002]本申請根據35U.S.C§119要求美國臨時申請第61/895,940號,題為“具有多腔室囊體的組織按壓裝置”;美國臨時申請第61/895,953號,題為“具有壓力指示器的組織按壓裝置”;以及美國臨時申請第61/895,944號,題為“具有張力限制帶保持器的組織按壓裝置”的權益一以上所有文件提交于2013年10月25日并且在此以援引方式納入。
[0003]在此描述具有壓力指示器的組織按壓裝置以及使用所述裝置的方法。
【背景技術】
[0004]冠狀動脈疾病的診斷和治療現(xiàn)在經常應用血管遞送設備和技術來完成。血管遞送可以提供多種好處,這是因為到病人身體內的期望位置的入口可以不需要全身麻醉或更侵入性外科技術而獲得。到外周動脈的通道可以利用套管來實現(xiàn),該套管具有插入外周動脈的止血瓣膜。導管或其它裝置可以這樣通過所述套管被引入病人的脈管以到達脈管內的期望位置。
[0005]這些經皮冠狀動脈手術的入口可以通過病人的橈動脈獲得。通過橈動脈的入口可以提供很多好處,包括提高病人的活動性和降低成本。遠端橈動脈的利用可以,例如允許按壓直接施加到動脈以獲得和維持止血。
[0006]與任何動脈入口隨之而來的一個潛在的困難是,在手術中和/或手術后實現(xiàn)止血。動脈血液流動在本質上是搏動的,并且可能對任何尋求在動脈入口處取得止血的醫(yī)師來說具有挑戰(zhàn)性。在手術完成時和導管或其它位于入口處的裝置移除后,壓力會被施加到入口處以獲得止血并關閉入口處。在入口處或在入口處稍微上游的一點施加壓力是一個可以用來獲得止血的技術。在很多情況下,需要持續(xù)的壓力以在入口處獲得止血。雖然保持壓力恒定是有好處的,但是在一些情況下,在初始的更高的壓力水平施加到入口處以后,所施加的壓力水平的減小會是有好處的。按壓壓力的逐漸減小可以允許血液流過入口處的動脈以允許血液從入口處到達下游組織。流經動脈的血液可以在一些情況下提高凝血以獲得止血,而不需要持續(xù)地應用按壓。

【發(fā)明內容】

[0007]在此描述具有壓力指示器的組織按壓裝置以及使用所述裝置的方法。
[0008]本文所述的組織按壓裝置相對于施加到病人身上所選位置的所選組織的壓力(如在橈動脈上施加的壓力,以協(xié)助使用者施加用于在入口處獲得止血的期望的壓力的量)為使用者提供反饋。盡管本文所述的組織按壓裝置和方法可以用于將壓力施加到病人身上任何所選位置的所選組織,所述組織按壓裝置可以特別地很好地適于將壓力施加到包含橈動脈或其它血管的組織,在一個或多個實施例中,其會被用于冠狀動脈手術的入口。
[0009]在一個或多個實施例中,本文所述的組織按壓裝置可以包括環(huán)形指示器,其當所選量的壓力施加在入口處時在兩個構造中運動,例如凹陷構造和凸出構造。在一個或多個實施例中,所述環(huán)形指示器可以包括指示器表面,其只有在一個構造中可見。另外,在一個或多個實施例中,環(huán)形指示器可以當它在本文所述的凹陷和凸出構造之間運動時提供聲音的指示。
[0010]除了結合本文所述的組織按壓裝置的一個或多個說明性實施例描述的環(huán)形指示器以外,其它可以在本文使用和描述的壓力指示器包括,例如在殼體中包括波紋管的壓力指不器等。
[0011]在一個或多個實施例中,本文所述的組織按壓裝置可以包括旋轉機構(例如轉盤),通過該旋轉機構由囊體施加到入口處的壓力的量可以逐漸地變化,以使得使用者有能力如所需增大或減小壓力。
[0012]在第一個方面,如本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例可以包括:基座,包括底表面和頂表面,其中所述基座包括穿過基座從底表面到頂表面的囊體孔口;保持結構,其附連于基座,所述保持結構構造成在所選位置上保持基座,其中當基座保持在所選位置上時,所述基座的底表面構造成在所選位置上面向所選組織,并且其中所述基座的頂表面構造成背對所選組織;囊體,其可操作地附連于基座,其中當保持結構將基座保持在所選位置上時,所述囊體的下表面面向所選組織,并且其中所述囊體的上表面背對所述囊體的下表面;環(huán)形指示器,位于囊體的上表面之上并與之接觸,其中所述環(huán)形指示器為凹陷構造,其中通過囊體的上表面施加在環(huán)形指示器上的力將環(huán)形指示器從凹陷構造到凸出構造移動,并且其中當環(huán)形指示器在凸出構造時,指示器環(huán)的內邊緣相比于當環(huán)形指示器在凹陷構造時更加遠離基座的底表面;其中當基座通過保持結構保持在所選位置上時,所述組織按壓裝置限定了按壓軸線,其延伸穿過囊體的上表面、基座中的囊體孔口以及囊體的下表面。
[0013]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,環(huán)形指示器構造成當囊體中的流體壓力達到所選水平時從凹陷構造向凸出構造運動。
[0014]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,環(huán)形指示器包括背對囊體的上表面的指示器表面和面向囊體的上表面并與之接觸的接觸表面,其中當環(huán)形指示器在凹陷構造時指示器表面面向按壓軸線并且其中當環(huán)形指示器在凸出構造時指示器表面背對按壓軸線。在一個或多個實施例中,環(huán)形指示器包括指示顏色,其與囊體的上表面的顏色對比。
[0015]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,所述裝置還包括附連于基座的轉盤,并且其中環(huán)形指示器附連于轉盤。
[0016]在本文所述的包括轉盤的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,所述裝置還包括多個轉盤柱,其從基座的頂表面延伸出來,其中所述多個轉盤柱布置成圍繞囊體孔口的圍繞囊體孔口的外周界,其中多個轉盤柱的每個柱都包括面向囊體孔口的內表面和背對囊體孔口的外表面;其中所述轉盤安裝在多個轉盤柱上,所述轉盤包括轉盤通道,其包括面向基座的頂表面的開口,面向多個轉盤柱的內表面的內壁,以及面向多個轉盤柱的外表面的外壁;在多個轉盤柱的內表面和轉盤通道的內壁上的配合特征構造成當轉盤在第一方向上繞按壓軸線旋轉時將轉盤朝向基座的頂表面移動,也構造成當在第二方向上繞按壓軸線旋轉時將轉盤遠離基座的頂表面移動。在一個或多個實施例中,所述配合特征包括在多個轉盤柱的內表面上突出的肋部和形成在轉盤通道的內壁內的凹槽,其中所述突出的肋部位于凹槽內。在一個或多個實施例中,轉盤包括轉盤孔口,并且其中囊體的上表面通過轉盤孔口可見。在一個或多個實施例中,環(huán)形指示器包括背對囊體的上表面的指示器表面和面對囊體的上表面并且與之接觸的接觸表面,其中當環(huán)形指示器為凹陷構造時指示器表面面向按壓軸線并且其中當環(huán)形指示器為凸出結構時指示器表面背對按壓軸線,并且其中當環(huán)形指示器為凹陷構造時,環(huán)形指示器的指示器表面沿著按壓軸線穿過轉盤孔口對于觀察囊體的上表面的觀察者可見。在一個或多個實施例中,囊體的上表面形成彎曲的表面,當轉盤按壓囊體的上腔室時,所述彎曲的表面向上凸起遠離基座的頂表面,和/或其中囊體的上表面包括糖面光潔度(matte finish) ο
[0017]在如本文所述的包括轉盤的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,所述裝置還包括從基座的頂表面延伸出來的停止構件,其中停止構件位于轉盤的通道中;形成在通道的外壁中的多個凹槽,其中所述停止構件構造成與所述多個凹槽配合,以在不存在作用于將停止構件移出與多個凹槽的配合的力的情況下,阻止轉盤繞按壓軸線的旋轉;停止構件釋放桿,其可操作地連接于停止構件,其中停止構件釋放桿構造成停止構件釋放桿的運動將停止構件移出與轉盤通道的外壁內的多個停止件的配合,由此轉盤可以繞按壓軸線旋轉。在一個或多個實施例中,所述裝置還包括從基座的頂表面延伸出來的第二停止構件,其中所述第二停止構件位于轉盤的通道中,其中所述第二停止構件構造成與所述多個凹槽配合,以在不存在作用于將第二停止構件移出與多個凹槽的配合的力的情況下,阻止轉盤繞按壓軸線的旋轉;第二停止構件釋放桿,其可操作地連接于第二停止構件,其中第二停止構件釋放桿構造成第二停止構件釋放桿的運動將第二停止構件移出與轉盤通道的外壁內的多個凹槽的配合,由此轉盤可以繞按壓軸線旋轉。
[0018]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,包括囊體的上表面的囊體的第一部分位于基座的頂表面之上,并且其中包括囊體下表面的囊體的第二部分位于基座的底表面和基座在其上保持的肢體之間。
[0019]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,囊體包括毗鄰放置的上腔室與下腔室,其中上腔室位于基座的頂表面之上并且下腔室位于基座的底表面之下。在一個或多個實施例中,囊體包括在上腔室和下腔室之間的開口,其中上腔室中的流體可以通過所述開口流入或流出下腔室,并且其中囊體的膨脹將囊體的頂層遠離基座的頂表面移動并且也將囊體的底層遠離基座的底表面移動。
[0020]在包括具有如本文所述的上和下腔室的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,上腔室的外周界和下腔室的外周界大于囊體孔口,如在橫向于按壓軸線的平面中測量的。
[0021]在包括具有如本文所述的上和下腔室的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,當投影在橫向于所述按壓軸線的平面中時,所述上腔室的外周界具有與所述下腔室的外周界的形狀不同的形狀。
[0022]在包括具有如本文所述的上和下腔室的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,上腔室包括第一上腔室并且其中囊體進一步包括位于第一上腔室和基座的頂表面之間的第二上腔室,其中第一上腔室中的流體在移動進入下腔室時穿過第二上腔室。
[0023]在包括具有如本文所述的上和下腔室的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,下腔室包括第一下腔室并且其中囊體進一步包括位于第一下腔室和基座的底表面之間的第二下腔室,其中第一下腔室中的流體在移動進入上腔室時穿過第二下腔室。
[0024]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,囊體包括端口,其與囊體流體連通并且構造成允許流體遞送進囊體。
[0025]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,囊體包括栗,其構造成向囊體內遞送流體。
[0026]在第二個方面,監(jiān)測如本文所述的組織按壓裝置的囊體內的壓力的方法的一個或多個實施例可以包括將組織按壓裝置保持在所選位置,其中所述組織按壓裝置包括:囊體,其包括上表面,所述上表面位于組織按壓裝置的基座的頂表面之上并與其背對;環(huán)形指示器,其位于囊體的上表面之上并與其接觸,其中囊體的上表面位于環(huán)形指示器和囊體的頂表面之間,并且其中所述環(huán)形指示器為凹陷構造。所述方法可以進一步包括增加囊體內流體壓力以致使囊體的上表面向環(huán)形指示器施加足以將環(huán)形指示器從凹陷構造向凸出構造移動的力,其中當環(huán)形指示器在凸出構造時,指示器環(huán)的內邊緣相比于當環(huán)形指示器在凹陷構造時更加遠離基座的底表面。
[0027]在本文所述的一個或多個實施例中,環(huán)形指示器構造成當囊體中的流體壓力達到所選水平時從凹陷構造向凸出構造運動。
[0028]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,增大囊體內流體壓力包括增加囊體內流體的體積。
[0029]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,所述組織按壓裝置包括附連于基座的轉盤,并且其中環(huán)形指示器附連于轉盤,并且進一步地其中增大囊體內壓力包括將轉盤在第一方向上繞延伸穿過囊體的上表面的軸線旋轉,以將轉盤朝向基座的頂表面移動來按壓囊體。在一個或多個實施例中,所述方法進一步包括通過在第二方向上繞軸線旋轉轉盤將轉盤遠離基座的頂表面移動以減小囊體內流體壓力。
[0030]在第三個方面,本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例可以包括:基座和附連于基座的保持結構,所述保持結構構造成將基座保持在所選位置的所選組織上;囊體,其可操作地附連于基座,其中當保持結構將基座保持在所選位置上時,所述囊體的下表面面向所選組織,并且其中所述囊體的上表面背對所述囊體的下表面;壓力指示器,其位于囊體的上表面上,其中所述壓力指示器包括:包括頂表面的波紋管腔室,其構造成當囊體中的壓力減小時靠近囊體的上表面移動并且當囊體中的壓力增大時遠離囊體的上表面移動,以及指示器殼體,其中所述波紋管腔室位于指示器殼體中,并且通過指示器殼體可見,其中在指示器殼體中的波紋管表面的頂表面的位置指示囊體中的壓力。
[0031]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,指示器殼體包括沿側表面排列的可見標記,其中可見標記指示囊體中的壓力。
[0032]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,指示器殼體附連于囊體的上表面。
[0033]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,基座包括底表面和頂表面,其中基座包括囊體孔口,其穿過基座從底表面到頂表面形成,其中波紋管腔室和壓力指示器的指示器殼體位于囊體孔口的周界內。在一個或多個實施例中,所述裝置限定了按壓軸線,其當基座通過保持結構保持在所選位置上時延伸穿過囊體的上表面,基座中的囊體孔口,以及囊體的下表面,并且其中波紋管腔室的頂表面在囊體中的壓力減小或增大時沿著按壓軸線運動。
[0034]在第四方面,如本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例可以包括基座和附連于基座的保持結構,其中保持結構構造成將基座保持在所選位置的所選組織上,并且其中基座包括底表面,頂表面以及穿過基座從底表面到頂表面形成的囊體孔口;囊體,其可操作地附連于基座,其中當保持結構將基座保持在所選位置上時,所述囊體的下表面面向所選組織,并且其中所述囊體的上表面背對所述囊體的下表面;以及附連于基座的囊體窗口,其中囊體窗口位于囊體孔口和囊體的上表面之上,其中囊體的上表面和囊體窗口構造成當囊體中的壓力達到所選壓力時囊體的上表面的部分接觸囊體窗口,其中當囊體中的壓力增大時囊體的上表面的更大部分接觸囊體窗口,并且其中當囊體中的壓力減小時囊體的上表面的更小部分接觸囊體窗口。
[0035]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,囊體窗口位于附連于基座的轉盤的轉盤孔口中,其中所述轉盤構造成繞按壓軸線旋轉,所述按壓軸線延伸穿過轉盤孔口,囊體孔口,囊體的上表面,以及囊體的下表面。在一個或多個實施例中,所述裝置進一步包括:多個轉盤柱,其從基座的頂表面延伸出來,其中所述多個轉盤柱布置成圍繞囊體孔口的周界,其中多個轉盤柱的每個柱都包括面向囊體孔口的內表面和背對囊體孔口的外表面;其中所述轉盤安裝在多個轉盤柱上,所述轉盤包括轉盤通道,其包括面向基座的頂表面的開口,面向多個轉盤柱的內表面的內壁,以及面向多個轉盤柱的外表面的外壁;在多個轉盤柱的內表面和轉盤通道的內壁上的配合特征構造成當轉盤在第一方向上繞按壓軸線旋轉時將轉盤朝向基座的頂表面移動,也構造成當在第二方向上繞按壓軸線旋轉時將轉盤遠離基座的頂表面移動。在一個或多個實施例中,所述配合特征包括在多個轉盤柱的內表面上突出的肋部和形成在轉盤通道的內壁內的凹槽,其中所述突出的肋部位于凹槽內。
[0036]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,所述裝置進一步包括可見的標記,其指示囊體的上表面接觸囊體窗口的部分的尺寸。
[0037]在本文所述的組織按壓裝置的一個或多個實施例中,囊體窗口的上表面包括構造成減少來自上表面的鏡面反射的表面。在一個或多個實施例中,囊體窗口的上表面包括糙面光潔度。在一個或多個實施例中,囊體窗口的上表面包括防反射涂層。在一個或多個實施例中,囊體窗口的上表面包括曲率,其構造成減少由觀察囊體的上表面的觀察者體驗到的鏡面反射。
[0038]如本說明書和權利要求書中所采用的,單數(shù)形式“一”和“所述”包括復數(shù)含義,除非文中另有清楚表示。這樣,例如參考“一”或“所述”部件可以包括為本領域技術人員所知的一個或多個部件或其等同物。另外,術語“和/或”意指一個或所有所列的元素或任何兩個或更多所列元素的組合。
[0039]應當注意,術語“包括”和其變型在這些術語出現(xiàn)參照描述的地方不具有限制意義。另外,“一”,“所述”,“至少一個”以及“一個或多個”在本文中可互換使用。
[0040]上述
【發(fā)明內容】
不是意在描述每個實施例或本文所述的組織按壓裝置或方法的每個實施方式。而是,通過參照下面的說明性實施例的描述和考慮到附圖的權利要求書,本發(fā)明的更全面的理解會變得明顯和可理解。
【附圖說明】
[0041]圖1是本文所述的組織按壓裝置的一說明性實施例的側視圖。
[0042]圖2是在圖1所示組織按壓裝置的俯視圖,為清楚起見,拉伸結構(例如在這個說明性實施例中的條帶)從視圖中去除了。
[0043]圖3是在圖1所示組織按壓裝置的仰視圖,為清楚起見,拉伸結構和囊體從視圖中去除了。
[0044]圖4是去除轉盤的圖1所示組織按壓裝置的立體圖。
[0045]圖5是在圖3所示組織按壓裝置的截面圖,截面圖取自圖3中沿5-5線(為清楚起見,囊體被去除了)。
[0046]圖6是在圖1所示組織按壓裝置說明性實施例的轉盤的截面圖,截面圖取自圖1中沿6-6線。
[0047]圖7是位于圖5所示組織按壓裝置基座內的囊體的放大的截面圖,環(huán)形指示器為凹陷構造
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