專利名稱:一種可吸收剩余電子束的輻照裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及輻射加工技術(shù)領(lǐng)域：
，特別是以電子束加速器為輻射源的輻照裝置。
背景技術(shù)：
電子束輻照處理技術(shù)是利用電子束的電離能力和軔致輻射效應(yīng)，使受照物品產(chǎn)生某些生物和物理效應(yīng)，從而進(jìn)行殺菌除蟲或改變物品物理特性的處理技術(shù)?，F(xiàn)有技術(shù)中，一般應(yīng)用加速器產(chǎn)生一定能量的電子束，并由鈦窗引出，這些加速器包括行波或駐波電子直線加速器，直流高壓型加速器，高頻高壓加速器等。被輻照物品由束下機(jī)械傳輸裝置將物品勻速地通過由鈦窗引出的電子束區(qū)域，完成輻照。為了保證輻照劑量分布的均勻性，電子束不能全部被受輻照物吸收。電子束流的能量主要在2MeV～20MeV，輸出功率范圍從1kW到幾百kW，剩余電子束的能量和功率也相當(dāng)高。這些剩余電子束如果打在鐵、銅質(zhì)部件或者鉛、混凝土等防護(hù)物上都將產(chǎn)生大量X射線，帶來非常大的輻射防護(hù)難度。目前在電子束輻照裝置中主要采用敞口水箱或者摻碳的工程塑料作為剩余電子束的吸收材料。但是敞口水箱不適于用于移動型輻照設(shè)備，而摻碳工程塑料導(dǎo)電導(dǎo)熱性能較差，在大功率的電子束輻照設(shè)備中短時間內(nèi)局部的電荷與熱量累積非常大，易形成高壓高熱區(qū)，產(chǎn)生很大的破壞作用。

發(fā)明內(nèi)容為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明的目的是提供一種可吸收剩余電子束的輻照裝置。它不僅能有效地降低電子束輻照裝置中X射線的產(chǎn)額，而且導(dǎo)電導(dǎo)熱性能很好，可防止電荷與熱量在局部區(qū)域的累積，可適用于固定式和移動式電子束輻照設(shè)備。
為了達(dá)到上述的發(fā)明目的，本發(fā)明的技術(shù)方案以如下方案實現(xiàn)一種可吸收剩余電子束的輻照裝置，它包括電子直線加速器，與電子直線加速器連接的電子束漂移掃描架，置于電子束漂移掃描架下方、可放置受輻照物的機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)特點是，所述電子束漂移掃描架的正下方、機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)的底部置有電子束吸收器。電子束吸收器與電子直線加速器之間通過導(dǎo)線連接構(gòu)成電子學(xué)回路。
按照上述的技術(shù)方案，所述電子束吸收器是由鋁質(zhì)材料制成的帶散熱翹片的吸收座和置于吸收座旁的風(fēng)機(jī)構(gòu)成。
按照上述的技術(shù)方案，所述電子束吸收器是由鋁質(zhì)材料制成的帶可與外部水冷系統(tǒng)連接的入水口和出水口的密封箱體構(gòu)成。
本發(fā)明由于采用了上述的結(jié)構(gòu)，在機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)的底部放置電子吸收器，電子吸收器是以導(dǎo)電導(dǎo)熱性能良好的低原子序數(shù)材料作為剩余電子束的吸收物質(zhì)。這種物質(zhì)可以是金屬鋁、鋁鎂合金等。它可以有效地降低X射線的產(chǎn)額，同時具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，可防止電荷與熱量的局部累計。本發(fā)明可使電子束輻照裝置輻射防護(hù)層的厚度降低，節(jié)省成本，有利于系統(tǒng)的小巧輕便化。適用于固定式和移動式電子束輻照設(shè)備。
圖1為本發(fā)明的一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明的另一種實施方式結(jié)構(gòu)示意圖。
下面結(jié)合附圖及具體實施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
具體實施方式實施例1參看圖1，本發(fā)明輻照裝置包括電子直線加速器1，與電子直線加速器1連接的電子束漂移掃描架2，置于電子束漂移掃描架2下方、可放置受輻照物3的機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)4。在電子束漂移掃描架2的正下方、機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)4的底部置有電子束吸收器5。電子束吸收器5與電子直線加速器1之間通過導(dǎo)線連接構(gòu)成電子學(xué)回路。電子束吸收器5是由鋁質(zhì)材料制成的帶散熱翹片的吸收座9和置于吸收座9旁的風(fēng)機(jī)8構(gòu)成。通過風(fēng)機(jī)8產(chǎn)生的風(fēng)對吸收座9散熱，同時可以排除臭氧。本發(fā)明既可以有效降低X射線產(chǎn)額，又能防止大功率加速器中剩余電子束在局部產(chǎn)生高壓高熱區(qū)域，利用排除臭氧的風(fēng)機(jī)8對剩余電子束的吸收座9進(jìn)行冷卻，結(jié)構(gòu)簡單，實用性強(qiáng)。
實施例2參看圖2，本發(fā)明輻照裝置包括電子直線加速器1，與電子直線加速器1連接的電子束漂移掃描架2，置于電子束漂移掃描架2下方、可放置受輻照物3的機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)4。在電子束漂移掃描架2的正下方、機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)4的底部置有電子束吸收器5。電子束吸收器5與電子直線加速器1之間通過導(dǎo)線連接構(gòu)成電子學(xué)回路。電子束吸收器5采用鋁質(zhì)材料制成密封箱體結(jié)構(gòu)，箱體上設(shè)有入水口6及出水口7，通過與外部水冷系統(tǒng)連接對電子束吸收器5進(jìn)行冷卻。本發(fā)明既可以有效降低X射線產(chǎn)額，又能防止大功率加速器中剩余電子束在局部產(chǎn)生高壓高熱區(qū)域。
權(quán)利要求
1.一種可吸收剩余電子束的輻照裝置，它包括電子直線加速器(1)，與電子直線加速器(1)連接的電子束漂移掃描架(2)，置于電子束漂移掃描架(2)下方、可放置受輻照物(3)的機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)(4)，其特征在于，所述電子束漂移掃描架(2)的正下方、機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)(4)的底部置有電子束吸收器(5)，電子束吸收器(5)與電子直線加速器(1)之間通過導(dǎo)線連接構(gòu)成電子學(xué)回路。
2.按照權(quán)利要求
1所述的可吸收剩余電子束的輻照裝置，其特征在于，所述電子束吸收器(5)是由鋁質(zhì)材料制成的帶散熱翹片的吸收座(9)和置于吸收座(9)旁的風(fēng)機(jī)(8)構(gòu)成。
3.按照權(quán)利要求
1所述的可吸收剩余電子束的輻照裝置，其特征在于，所述電子束吸收器(5)是由鋁質(zhì)材料制成的帶可與外部水冷系統(tǒng)連接的入水口(6)和出水口(7)的密封箱體構(gòu)成。
專利摘要
本發(fā)明公開了一種可吸收剩余電子束的輻照裝置，屬于輻射加工技術(shù)領(lǐng)域：
。它包括電子直線加速器，與電子直線加速器連接的電子束漂移掃描架，置于電子束漂移掃描架下方、可放置受輻照物的機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)特點是，在電子束漂移掃描架的正下方、機(jī)械傳送機(jī)構(gòu)的底部置有電子束吸收器。電子束吸收器與電子直線加速器之間通過導(dǎo)線連接形成電子學(xué)回路，使熱量傳導(dǎo)。使用本發(fā)明，可降低電子束輻照裝置中防護(hù)層的厚度，節(jié)省成本，減小體積與重量，防止電荷與熱量的局部累積，實現(xiàn)電子束輻照裝置的自屏蔽和小型化，可進(jìn)一步擴(kuò)大電子束輻照裝置的應(yīng)用范圍。
文檔編號G21K5/00GK1992097SQ200510136316
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月31日
發(fā)明者唐華平, 劉耀紅, 張東生, 閻忻水, 高建軍, 高峰, 劉晉升, 賈瑋, 印煒, 張丹, 谷沖 申請人:清華大學(xué), 清華同方威視技術(shù)股份有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan