專利名稱:化學(xué)除污裝置以及化學(xué)除污方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種使用臭氧的化學(xué)除污技術(shù)。具體而言，本發(fā)明涉及一種化學(xué)除污裝置，其通過化學(xué)溶解除污對(duì)象表面上粘附或形成的氧化物膜來實(shí)施除污，除污對(duì)象例如反應(yīng)堆主系統(tǒng)如反應(yīng)堆設(shè)備、管路等之中的反應(yīng)堆構(gòu)造材料，而且還涉及一種化學(xué)除污方法。
背景技術(shù)：
許多涉及使用臭氧的化學(xué)除污技術(shù)的專利申請(qǐng)已提出。化學(xué)除污技術(shù)正被用于實(shí)際反應(yīng)堆的化學(xué)除污操作中。
專利文獻(xiàn)1 (日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)2000-81498)描述了一種化學(xué)除污技術(shù)， 其中臭氧水的PH被控制在5或更低，以便提高溶解的臭氧濃度。專利文獻(xiàn)2(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)2002-250794)描述了一種化學(xué)除污技術(shù)，其通過向臭氧水中添加至少一種氧化助劑(輔助劑)來抑制反應(yīng)堆構(gòu)造材料的腐蝕，該氧化助劑選自碳酸、碳酸鹽、硼酸、硼酸鹽、硫酸、硫酸鹽、磷酸和磷酸鹽。專利文獻(xiàn)3(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)2002-2^796) 描述了一種使用臭氧的化學(xué)除污技術(shù)，其中臭氧氣體通過多管中空纖維膜混合器提供，以便有效地將臭氧氣體溶解在水中。
專利文獻(xiàn)1中描述的化學(xué)除污技術(shù)包括將硝酸加入水中，形成PH為5或更低的臭氧水，在所得PH的水溶液中進(jìn)行氧化處理以溶解氧化物膜，并進(jìn)行化學(xué)除污。然而，由于加入水中的氧化助劑是硝酸，臭氧水溶液的氧化力變?nèi)酰也荒芤种瞥粞跛畬?duì)反應(yīng)堆構(gòu)造材料的腐蝕，這是有問題的。
專利文獻(xiàn)2描述了一種將磷酸作為氧化助劑來添加以抑制反應(yīng)堆構(gòu)造材料的腐蝕的技術(shù)。然而，由于磷酸接近于弱酸，所以磷酸作為氧化助劑加入僅產(chǎn)生小的氧化能力， 而且不能高效及有效地抑制反應(yīng)堆構(gòu)造材料的腐蝕。
為通過添加作為氧化助劑的磷酸來產(chǎn)生大的氧化能力，必須加入大量的磷酸。結(jié)果是，在除污后產(chǎn)生了大量的二次廢物，由此產(chǎn)生了新的問題，因?yàn)槎螐U物的處理需要更多的勞動(dòng)和成本。
專利文獻(xiàn)3中描述的使用多管中空纖維膜混合器的化學(xué)除污技術(shù)有缺陷。即，由于多管中空纖維膜混合器由樹脂制成，它容易損壞。
在核發(fā)電廠中，反應(yīng)堆設(shè)備和各種管路由鋼材制成，如不銹鋼、碳鋼等。當(dāng)反應(yīng)堆設(shè)備和管路內(nèi)表面接觸高溫水時(shí)會(huì)經(jīng)受腐蝕，并在其上形成氧化物膜。反應(yīng)堆水中的放射性(radioactivity)被暴露于高溫水的反應(yīng)堆設(shè)備和管路內(nèi)表面潤(rùn)濕部分上粘附的氧化物膜俘獲，從而使氧化物膜變?yōu)楸┞兜姆派湓础?br>反應(yīng)堆設(shè)備和各種管路內(nèi)表面潤(rùn)濕部分上形成的氧化物膜可通過化學(xué)除污技術(shù)化學(xué)溶解并去除。該化學(xué)除污技術(shù)是一種包括化學(xué)溶解氧化物膜的放射性去除技術(shù)，其適于具有復(fù)雜形狀和組件而難以拆卸、以及在除污后重復(fù)使用的除污對(duì)象的化學(xué)除污。近年來已經(jīng)有許多應(yīng)用化學(xué)除污的技術(shù)報(bào)道。
在化學(xué)除污中，溶解氧化鐵的除污劑與溶解氧化鉻的氧化劑一起被用來增強(qiáng)除污效果。作為氧化劑，使用高錳酸、高錳酸鉀溶液、臭氧水等。在臭氧水的情況下，由于臭氧的高自-分解性，臭氧水必須連續(xù)供給。
在除污對(duì)象具有較大尺度的情況下，如在反應(yīng)堆主系統(tǒng)內(nèi)部除污的情況下，臭氧的自-分解性可導(dǎo)致臭氧濃度在循環(huán)期間降低以及不夠好的除污效果。已報(bào)道除污所需的臭氧濃度為Ippm或更高。
為了對(duì)反應(yīng)堆相關(guān)設(shè)備的除污對(duì)象的金屬表面進(jìn)行除污，一種高效注入臭氧的方法的實(shí)例公開在例如專利文獻(xiàn)4(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)2003-98294)中，其中臭氧被注入反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)的再循環(huán)泵的入口。一種高效地將氣體混入水中的方法的實(shí)例公開在例如專利文獻(xiàn)5(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)2005-34760)中，其中使用噴射器 (ejector)將氣體吸入該噴射器中，然后混合。一種在下降流中注入臭氧，以便使臭氧溶解在水中的技術(shù)公開在例如專利文獻(xiàn)6(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào)8-192176)中。
一種在用于反應(yīng)堆構(gòu)造物的化學(xué)除污裝置內(nèi)使用離子交換樹脂，以便從反應(yīng)堆構(gòu)造物除去放射性污染物的技術(shù)公開在例如專利文獻(xiàn)7(日本未審查專利申請(qǐng)公開號(hào) 2001-91692)中。
在核發(fā)電廠中，除污對(duì)象如反應(yīng)堆設(shè)備和各種管路中循環(huán)的水的溫度較高。而除污溫度通常為70°C或更高。由于除污水是水和臭氧的氣-液混合流，將臭氧注入反應(yīng)堆再循環(huán)泵的泵上游一側(cè)可能在再循環(huán)泵的泵單元中導(dǎo)致泵氣蝕，由此可能損壞該泵。
在如專利文獻(xiàn)5中描述的氣體溶解裝置中，用于在反應(yīng)堆的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置上使用噴射器的技術(shù)、以及由此而得到的除污方法的應(yīng)用導(dǎo)致在反應(yīng)堆中為安裝噴射器而工作延遲，或?qū)е赂蓴_反應(yīng)堆構(gòu)造物的問題。因此，實(shí)施該技術(shù)較為困難。
為了簡(jiǎn)化和便于噴射器的安裝，形成臨時(shí)循環(huán)回路，并將噴射器安裝在該臨時(shí)循環(huán)回路內(nèi)。然而，在反應(yīng)堆主系統(tǒng)進(jìn)行內(nèi)部除污的情況下，整個(gè)系統(tǒng)容積較大。因此，臭氧的濃度必須高，而安全地達(dá)到并維持足夠高的臭氧濃度是困難的。
進(jìn)而，如專利文獻(xiàn)6中描述的在下降流中擴(kuò)散臭氧的技術(shù)也是可用的，但是難以將這種臭氧擴(kuò)散方法應(yīng)用到用于反應(yīng)堆的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置。在所述反應(yīng)堆中，產(chǎn)生內(nèi)部下降流的反應(yīng)堆壓力容器與圍筒(shroud)之間間隙內(nèi)的環(huán)狀部分(下降管部分)位于上法蘭之下至少幾米處，如約6m。因此，能經(jīng)得住大量如1600m3/h的爐內(nèi)流動(dòng)和噴出氣體的臭氧注入夾具(jig)是必需的。
專利文獻(xiàn)7描述的反應(yīng)堆構(gòu)造物的化學(xué)除污裝置需要逆洗型過濾器裝置或大型離子交換樹脂塔，以便除去放射性污染物。因此，裝置變得復(fù)雜。
本發(fā)明的發(fā)明人由化學(xué)除污技術(shù)的反復(fù)實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)，在使用臭氧的化學(xué)除污技術(shù)中，如果臭氧水的PH為3或更低，就能獲得充分的除污性能，在pH超過3時(shí)除污性能明顯降低。

發(fā)明內(nèi)容
4[0021]在上述情況下，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種使用臭氧的高性能化學(xué)除污裝置， 其具有改善的氧化物膜分解性能及除污性能，并在維持除污對(duì)象完好的同時(shí)改進(jìn)除污性能，本發(fā)明還提供了用該裝置的除污方法。
本發(fā)明的另一目的是提供一種化學(xué)除污裝置，其中臭氧水滿足PH為3或更低的條件，用于抑制除污對(duì)象如反應(yīng)堆構(gòu)造材料等腐蝕的添加劑被最優(yōu)化，從而使除污對(duì)象的腐蝕可得到高效且有效地抑制，而除污和清潔效果可增強(qiáng)，本發(fā)明還提供了用該裝置的除污方法。
本法明的又另一目的是提供一種堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中臭氧氣體被穩(wěn)定供給， 以獲得具有足夠臭氧濃度的臭氧水，除污效率得以提高，可經(jīng)得住爐內(nèi)流動(dòng)的臭氧擴(kuò)散管穩(wěn)定地布置在環(huán)狀部分的上部，通過連續(xù)和穩(wěn)定地注入臭氧氣體而獲得了合適的臭氧濃度，而除污效率由于臭氧擴(kuò)散管的安裝位置而提高，本發(fā)明還提供了用該裝置的除污方法。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種化學(xué)除污裝置，其用于在臭氧水中化學(xué)溶解除污對(duì)象表面上形成或粘附的含放射性物質(zhì)的氧化物膜，以進(jìn)行除污，該裝置包括
用于產(chǎn)生臭氧氣體的臭氧發(fā)生單元；
用于將產(chǎn)生的臭氧氣體供給到水中的臭氧供給單元的臭氧供給設(shè)備；以及
位于臭氧供給單元內(nèi)的燒結(jié)金屬元件，臭氧供給設(shè)備將臭氧氣體供給至該燒結(jié)金屬元件，
其中使從臭氧供給設(shè)備供給到燒結(jié)金屬元件內(nèi)的臭氧氣體流出所述元件而進(jìn)入水中，以生成臭氧水。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種化學(xué)除污裝置，其對(duì)反應(yīng)堆壓力容器或反應(yīng)堆主系統(tǒng)的內(nèi)部進(jìn)行化學(xué)除污通過在反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)設(shè)置堆芯圍筒，在堆芯圍筒和反應(yīng)堆壓力容器之間形成的下降管部分中設(shè)置噴射泵，以及設(shè)置了用于再循環(huán)反應(yīng)堆壓力容器的水的反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)，以便通過運(yùn)行反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)的再循環(huán)泵而在反應(yīng)堆壓力容器中產(chǎn)生水中的流動(dòng)，該化學(xué)除污裝置包括
用于產(chǎn)生臭氧氣體的臭氧發(fā)生單元；
用于將產(chǎn)生的臭氧氣體供給到接近噴射泵的入口、或供給到反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)的再循環(huán)管路內(nèi)的臭氧供給單元的臭氧供給設(shè)備；以及
位于臭氧供給單元中的燒結(jié)金屬元件，
其中使從臭氧供給設(shè)備供給到燒結(jié)金屬元件內(nèi)部的臭氧氣體流出所述元件而進(jìn)入水中，以便生成臭氧水。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種化學(xué)除污方法，其中在用臭氧水化學(xué)溶解除污對(duì)象表面上形成或粘附的含放射性物質(zhì)的氧化物膜而進(jìn)行除污時(shí)，該臭氧水被用作除污溶液，以便用臭氧水來化學(xué)溶解除污對(duì)象上的氧化物膜來進(jìn)行除污，該方法包括以下步驟
在水中加入抑制除污對(duì)象基體腐蝕的氧化助劑，以及提高除污溶液中溶解的臭氧濃度的PH調(diào)節(jié)劑；以及
隨后在水中溶解臭氧，以便制得臭氧水。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種化學(xué)除污方法，其用于以臭氧對(duì)反應(yīng)堆壓力容器和反應(yīng)堆主系統(tǒng)進(jìn)行化學(xué)除污通過設(shè)置用于強(qiáng)制循環(huán)在反應(yīng)堆壓力容器和位于所述反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)的堆芯圍筒之間的、下降管部分內(nèi)的反應(yīng)堆水的噴射泵，并通過運(yùn)轉(zhuǎn)反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)的再循環(huán)泵而再循環(huán)來自噴射泵的反應(yīng)堆水，以便產(chǎn)生臭氧水中的流動(dòng)，該方法包括以下步驟
將臭氧氣體供給到接近所述噴射泵的入口，或供給到反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)的再循環(huán)管路內(nèi)部，以及
將產(chǎn)生的臭氧氣體供給到水中，也將氧化助劑和pH調(diào)節(jié)劑加入水中，以便產(chǎn)生臭氧水。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其用于通過使用有機(jī)酸作為還原劑、臭氧水作為氧化劑來化學(xué)除污反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象，該裝置包括
用于向反應(yīng)堆主系統(tǒng)的反應(yīng)堆內(nèi)部供給除污溶液的除污溶液供給設(shè)備；
用于將臭氧氣體注入反應(yīng)堆主系統(tǒng)的反應(yīng)堆內(nèi)部的臭氧供給單元；
用于以注入的臭氧氣體產(chǎn)生臭氧水的臭氧水生成單元；以及
用于在反應(yīng)堆主系統(tǒng)中使產(chǎn)生的臭氧氣體循環(huán)的臭氧水循環(huán)單元，
其中所述臭氧供給設(shè)備包括用于擴(kuò)散臭氧氣體的臭氧擴(kuò)散管，所述臭氧擴(kuò)散管設(shè)置在所述臭氧水生成單元的入口側(cè)。
為克服前面所描述的問題，本發(fā)明提供了一種堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其用于通過使用有機(jī)酸作為還原劑、臭氧水作為氧化劑來化學(xué)除污反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象，其中，反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)由泵驅(qū)動(dòng)，產(chǎn)生反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)和反應(yīng)堆內(nèi)部之中的循環(huán)水流動(dòng)，臭氧氣體由位于反應(yīng)堆內(nèi)部環(huán)狀部分上部中的臭氧擴(kuò)散管注入，注入的臭氧氣體被供給至循環(huán)水中，以生成含有溶解的臭氧的臭氧水，而在反應(yīng)堆內(nèi)通過除污溶液供給設(shè)備供給的除污溶液與含有溶解的臭氧的臭氧水結(jié)合，來對(duì)反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象進(jìn)行化學(xué)除污。
根據(jù)上述本發(fā)明的化學(xué)除污裝置和除污方法的優(yōu)選實(shí)施方案，氧化物膜可被溶解，除污性能可得到增強(qiáng)，同時(shí)還保持了除污對(duì)象的完好。
根據(jù)本發(fā)明的化學(xué)除污裝置和除污方法的另一優(yōu)選實(shí)施方案，臭氧水滿足pH為3 或更低的條件，用于抑制除污對(duì)象如反應(yīng)堆構(gòu)造材料等的腐蝕的添加劑可以被最優(yōu)化，從而使除污對(duì)象的腐蝕可以得到高效和有效的抑制，而除污和清潔效果也可得到增強(qiáng)。
根據(jù)本發(fā)明化學(xué)除污裝置和除污方法的又一優(yōu)選實(shí)施方案，臭氧氣體被穩(wěn)定供給，以獲得具有足夠臭氧濃度的臭氧水，除污效率得以提高，可經(jīng)得住爐內(nèi)流動(dòng)的臭氧擴(kuò)散管穩(wěn)定地布置在環(huán)狀部分的上部，通過連續(xù)和穩(wěn)定地注入臭氧氣體而獲得了足夠的臭氧濃度，而除污效率由于臭氧擴(kuò)散管的安裝位置而提高。


圖1表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施方案使用臭氧的化學(xué)除污方法中的氧化物膜溶解量與PH值關(guān)系的曲線圖。
圖2表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施方案使用臭氧的化學(xué)除污方法中二次廢物生成量的曲線圖。
圖3表示根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方案的化學(xué)除污裝置的系統(tǒng)圖。
6[0053]圖4表示適于圖3所示化學(xué)除污裝置的臭氧溶解混合器的示意圖。
圖5表示適于本發(fā)明化學(xué)除污裝置的、使用臭氧的化學(xué)除污方法的溶解的臭氧濃度的分布圖。
圖6表示適于本發(fā)明化學(xué)除污裝置的、使用臭氧的化學(xué)除污方法的pH值與溶解臭氧的自分解速率常數(shù)之間的關(guān)系圖。
圖7表示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施方案用于除污沸水反應(yīng)堆(BWR)反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)部的化學(xué)除污的示意圖。
圖8表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第四實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
圖9表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第五實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
圖10表示在反應(yīng)堆內(nèi)各個(gè)位置測(cè)量的溶解的臭氧濃度的曲線圖。
圖11圖IlA和圖IlB是示意地表示反應(yīng)堆內(nèi)測(cè)量臭氧濃度的測(cè)量位置的圖。
圖12表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第六實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
圖13表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第七實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
圖14表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第八實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
圖15表示本發(fā)明堆內(nèi)化學(xué)除污裝置的第九實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)圖。
在圖11中
b 噴嘴入口的臭氧濃度，
C:噴嘴入口的臭氧濃度，
d 噴嘴入口的臭氧濃度，
e 噴嘴入口的臭氧濃度，
f 噴嘴入口的臭氧濃度，
g 反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)出口噴嘴處的臭氧濃度，
h:泵出口的臭氧濃度，
i:泵出口的臭氧濃度，
j:泵出口的臭氧濃度，
k:泵出口的臭氧濃度，
1:泵出口的臭氧濃度，
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖來描述本發(fā)明化學(xué)除污裝置的實(shí)施方案。
本發(fā)明的化學(xué)除污裝置使用pH為3或更低的臭氧水，通過高效地分解除污對(duì)象如反應(yīng)堆構(gòu)造材料表面上粘附的含有放射性物質(zhì)的氧化物膜來進(jìn)行化學(xué)除污，從而獲得改善的除污性能，同時(shí)保持反應(yīng)堆構(gòu)造材料的整體完好。
[第一實(shí)施方案]
根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施方案的化學(xué)除污方法例如適于反應(yīng)堆構(gòu)造材料的除污，以及例如抑制腐蝕。
該除污方法中，選用鎳基合金例如因科鎳合金182作為反應(yīng)堆構(gòu)造材料。將因科鎳合金測(cè)試塊浸入臭氧水中來進(jìn)行測(cè)試確定是否發(fā)生腐蝕。
作為除污對(duì)象的因科鎳合金182測(cè)試塊的尺寸為例如30X10X2mm3，測(cè)試塊的浸漬條件如下臭氧水中溶解的臭氧濃度3ppm，溫度80°C，浸漬時(shí)間10h。
使用以下測(cè)試參數(shù)進(jìn)行測(cè)試，用于確定因科鎳合金測(cè)試塊是否發(fā)生腐蝕
i)沒有加入氧化助劑或pH調(diào)節(jié)劑；
ii)加入20ppm的磷酸作為氧化助劑；
iii)加入40ppm的硝酸作為pH調(diào)節(jié)劑；
iv)加入20ppm的磷酸作為氧化助劑，加入40ppm的硝酸作為pH調(diào)節(jié)劑。
氧化助劑抑制了除污對(duì)象基體的腐蝕。pH調(diào)節(jié)劑提高了水(除污溶液)中溶解臭氧的濃度。
在浸入臭氧水之前和之后視覺觀察以及用光學(xué)顯微鏡觀察因科鎳合金測(cè)試塊的表面。因科鎳合金182測(cè)試塊臭氧水浸漬試驗(yàn)的結(jié)果示于表1。
[表 1]
權(quán)利要求
1.一種堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其用于通過使用有機(jī)酸作為還原劑、臭氧水作為氧化劑來化學(xué)除污反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象，該裝置包括用于向反應(yīng)堆主系統(tǒng)的反應(yīng)堆內(nèi)部供給除污溶液的除污溶液供給設(shè)備；用于將臭氧氣體注入反應(yīng)堆主系統(tǒng)的反應(yīng)堆內(nèi)部的臭氧供給單元；用于以注入的臭氧氣體產(chǎn)生臭氧水的臭氧水生成單元；以及用于在反應(yīng)堆主系統(tǒng)中使產(chǎn)生的臭氧氣體循環(huán)的臭氧水循環(huán)單元，其中所述臭氧供給設(shè)備包括用于擴(kuò)散臭氧氣體的臭氧擴(kuò)散管，所述臭氧擴(kuò)散管設(shè)置在所述臭氧水生成單元的入口一側(cè)。
2.權(quán)利要求
1的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中所述除污溶液供給設(shè)備包括位于反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)上部的臨時(shí)除污溶液噴射環(huán)，臭氧發(fā)生單元包括位于所述反應(yīng)堆壓力容器與堆芯圍筒之間環(huán)狀部分中的噴射泵，臭氧水循環(huán)單元包括反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)。
3.權(quán)利要求
1的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中所述臭氧供給設(shè)備的臭氧擴(kuò)散管包括多個(gè)臭氧擴(kuò)散管，其位于布置在反應(yīng)堆壓力容器與堆芯圍筒之間的環(huán)狀部分內(nèi)的多對(duì)噴射泵的附近和上方，或者位于噴射泵對(duì)之間的空間附近或上方。
4.權(quán)利要求
3的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中所述臭氧供給設(shè)備的每個(gè)臭氧擴(kuò)散管是布置在反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)的上部、以便在垂直方向上延伸的長(zhǎng)管，且所述臭氧供給管在垂直方向的多個(gè)位置處固定在反應(yīng)堆壓力容器內(nèi)。
5.權(quán)利要求
4的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中所述臭氧供給設(shè)備的臭氧擴(kuò)散管的下端部固定在堆芯圍筒的上部圍筒環(huán)上。
6.權(quán)利要求
4的堆內(nèi)化學(xué)除污裝置，其中所述臭氧供給設(shè)備的臭氧擴(kuò)散管的上部固定至給水噴灑器、堆芯噴射管路或除污溶液噴射環(huán)。
7.一種堆內(nèi)化學(xué)除污方法，其用于通過使用有機(jī)酸作為還原劑、臭氧水作為氧化劑來化學(xué)除污反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象，其中，反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)由泵驅(qū)動(dòng)，產(chǎn)生反應(yīng)堆再循環(huán)系統(tǒng)和反應(yīng)堆內(nèi)部之中的循環(huán)水流動(dòng)，臭氧氣體由位于反應(yīng)堆內(nèi)部環(huán)狀部分上部中的臭氧擴(kuò)散管注入，注入的臭氧氣體被供給至循環(huán)水中，以生成含有溶解的臭氧的臭氧水，而在反應(yīng)堆內(nèi)通過除污溶液供給設(shè)備供給的除污溶液與含有溶解的臭氧的臭氧水結(jié)合，來對(duì)反應(yīng)堆主系統(tǒng)的除污對(duì)象進(jìn)行化學(xué)除污。
8.權(quán)利要求
7的堆內(nèi)化學(xué)除污方法，其中從臭氧擴(kuò)散管注入的臭氧氣體由位于形成在反應(yīng)堆壓力容器和堆芯圍筒之間的環(huán)狀部分內(nèi)的多個(gè)噴射泵對(duì)附近和上方、或由噴射泵對(duì)之間的間隙附近和上方注入所述環(huán)狀部分的上部。
專利摘要
本發(fā)明的一種化學(xué)除污裝置，通過使用臭氧水化學(xué)溶解除污對(duì)象表面上形成或粘附的含放射性物質(zhì)的氧化物膜來進(jìn)行所述除污。該化學(xué)除污裝置包括用于產(chǎn)生臭氧氣體的臭氧發(fā)生單元，用于將產(chǎn)生的臭氧氣體供給到水中的臭氧供給單元的臭氧供給設(shè)備，以及位于臭氧供給單元內(nèi)的燒結(jié)金屬元件37，而且臭氧氣體由臭氧供給設(shè)備供給至該金屬元件。使從臭氧供給設(shè)備供給到燒結(jié)金屬元件內(nèi)部的臭氧氣體流出所述元件而進(jìn)入水中，以便生成臭氧水。本發(fā)明還提供了一種化學(xué)除污方法。
文檔編號(hào)G21F9/00GKCN102262909SQ201110193995
公開日2011年11月30日 申請(qǐng)日期2007年2月6日
發(fā)明者古井敏浩, 市川長(zhǎng)佳, 矢板由美, 稻見一郎, 遠(yuǎn)田正見, 金崎健, 金田雅之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan