專(zhuān)利名稱(chēng):一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬放射治療領(lǐng)域，涉及醫(yī)用電子直線(xiàn)加速器、調(diào)強(qiáng)放射治療、多葉準(zhǔn)直器。背景技術(shù)：
放射治療技術(shù)已進(jìn)入調(diào)強(qiáng)放射治療階段，現(xiàn)有的多種調(diào)強(qiáng)放射治療技術(shù)，在保證 精度的前提下，調(diào)強(qiáng)放射治療追求較高的治療效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，具有較高的調(diào)強(qiáng)效率。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案是
一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，由一組內(nèi)側(cè)與點(diǎn)光源發(fā)出的射線(xiàn)平行的射野邊界屏蔽體和 兩層多組每組兩個(gè)，四個(gè)側(cè)壁與點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)平行在等中心平面投影為矩形，在點(diǎn)光源 發(fā)出射線(xiàn)方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構(gòu)成， 其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個(gè)相對(duì)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器位置固定，另一 個(gè)可在兩個(gè)位置間換位，處于其中一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形 投影重合(5)，處于另一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影錯(cuò)開(kāi)(6) 且兩個(gè)矩形投影有一個(gè)邊重合；射野邊界屏蔽體和相對(duì)準(zhǔn)直器不動(dòng)的固體屏蔽體(2)規(guī) 則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)組成的 矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數(shù)目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射 野(3)總面積之和構(gòu)成矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器整 體相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置后，其射野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野 (3)可相互轉(zhuǎn)換；調(diào)強(qiáng)照射時(shí)可在兩個(gè)位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個(gè)固 體屏蔽體(2)投影面積重合位置時(shí)光束可從相鄰矩形射野(3)通過(guò)，通過(guò)劑量達(dá)到計(jì)劃要 求時(shí)移至與同組另一個(gè)固體屏蔽體(2)投影面積錯(cuò)開(kāi)位置，阻擋射線(xiàn)經(jīng)相鄰矩形射野(3) 通過(guò)；調(diào)強(qiáng)照射分兩次進(jìn)行，第一次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器處于初始位置，第二次照射在調(diào) 強(qiáng)準(zhǔn)直器相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進(jìn)行。
本發(fā)明采用上述方案后，提供了一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，在調(diào)強(qiáng)放射治療時(shí)一個(gè)照 射野只需要照射兩次，具有較高的調(diào)強(qiáng)效率。


圖1是本發(fā)明原理示意圖。
圖2是本發(fā)明中實(shí)施例示意圖
圖3是本發(fā)明中實(shí)施例示意圖
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例詳述本發(fā)明，但本發(fā)明不僅限于所述實(shí)施例。[0011]附圖中各數(shù)字含義說(shuō)明(1)射線(xiàn)源；(2)固體屏蔽體；(3)矩形射野；(4)矩形屏 蔽區(qū)；(5)矩形投影錯(cuò)開(kāi)；(6)矩形投影重合；(7)等中心平面處最大射野。
如圖1、2、3所示，一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，由一組內(nèi)側(cè)與點(diǎn)光源發(fā)出的射線(xiàn)平行的 射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個(gè)，四個(gè)側(cè)壁與點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)平行在等中心平面投影 為矩形，在點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體 屏蔽體(2)構(gòu)成，其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個(gè)相對(duì)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器 位置固定，另一個(gè)可在兩個(gè)位置間換位，處于其中一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中 心平面的矩形投影重合(5)，處于另一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形 投影錯(cuò)開(kāi)(6)且兩個(gè)矩形投影有一個(gè)邊重合；射野邊界屏蔽體和相對(duì)準(zhǔn)直器不動(dòng)的固體屏 蔽體(2)規(guī)則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野 (3)組成的矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數(shù)目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4) 與矩形射野(3)總面積之和構(gòu)成矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調(diào)強(qiáng) 準(zhǔn)直器整體相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置后(圖2、3所示矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器以射線(xiàn)源點(diǎn)到等中心點(diǎn) 的連接線(xiàn)為軸心旋轉(zhuǎn)(圖2所示旋轉(zhuǎn)180°、圖3所示旋轉(zhuǎn)90° (圖3所示矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直 器在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)為正方形))，其射 野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉(zhuǎn)換；調(diào)強(qiáng)照射時(shí)可在 兩個(gè)位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個(gè)固體屏蔽體(2)投影面積重合位置 時(shí)光束可從相鄰矩形射野(3)通過(guò)，通過(guò)劑量達(dá)到計(jì)劃要求時(shí)移至與同組另一個(gè)固體屏蔽 體(2)投影面積錯(cuò)開(kāi)位置，阻擋射線(xiàn)經(jīng)相鄰矩形射野(3)通過(guò)；調(diào)強(qiáng)照射分兩次進(jìn)行，第一 次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器處于初始位置，第二次照射在調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置 使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進(jìn)行。
如圖2、3所示，圖示中上圖為第一次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器在等中心處投影示意 圖，中圖為第二次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器在等中心處投影示意圖，下圖為兩次照射形成等 中心平面處最大射野(7)。
權(quán)利要求
一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，其特征在于所述的矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器由一組內(nèi)側(cè)與點(diǎn)光源發(fā)出的射線(xiàn)平行的射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個(gè)，四個(gè)側(cè)壁與點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)平行在等中心平面投影為矩形，在點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構(gòu)成，其中所述的每組上下排列的固體屏蔽體(2)中，一個(gè)相對(duì)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器位置固定，另一個(gè)可在兩個(gè)位置間換位，處于其中一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影重合(5)，處于另一個(gè)位置時(shí)，兩個(gè)固體屏蔽體(2)在等中心平面的矩形投影錯(cuò)開(kāi)(6)且兩個(gè)矩形投影有一個(gè)邊重合；射野邊界屏蔽體和相對(duì)準(zhǔn)直器不動(dòng)的固體屏蔽體(2)規(guī)則排列后，可在等中心平面形成由形狀面積相同的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)組成的矩陣，且矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)數(shù)目相同，總面積相同，矩形屏蔽區(qū)(4)與矩形射野(3)總面積之和構(gòu)成矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器在等中心平面處最大射野(7)，矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器整體相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置后，其射野范圍所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉(zhuǎn)換；調(diào)強(qiáng)照射時(shí)可在兩個(gè)位置間換位的固體屏蔽體(2)，處于與同組另一個(gè)固體屏蔽體(2)投影面積重合位置時(shí)光束可從相鄰矩形射野(3)通過(guò)，通過(guò)劑量達(dá)到計(jì)劃要求時(shí)移至與同組另一個(gè)固體屏蔽體(2)投影面積錯(cuò)開(kāi)位置，阻擋射線(xiàn)經(jīng)相鄰矩形射野(3)通過(guò)；調(diào)強(qiáng)照射分兩次進(jìn)行，第一次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器處于初始位置，第二次照射在調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進(jìn)行。
專(zhuān)利摘要
本發(fā)明的一種矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，由一組內(nèi)側(cè)與點(diǎn)光源發(fā)出的射線(xiàn)平行的射野邊界屏蔽體和兩層多組每組兩個(gè)，四個(gè)側(cè)壁與點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)平行在等中心平面投影為矩形，在點(diǎn)光源發(fā)出射線(xiàn)方向上下排列，在與等中心平面平行的平面上規(guī)則排列的固體屏蔽體(2)構(gòu)成，矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器整體相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置后，其在等中心平面射野范圍內(nèi)所形成的矩陣排布的矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)可相互轉(zhuǎn)換；調(diào)強(qiáng)放射治療時(shí)照射分兩次進(jìn)行，第一次照射時(shí)矩陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器處于初始位置，第二次照射在調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器相對(duì)自身移動(dòng)一個(gè)位置使其矩形屏蔽區(qū)(4)和矩形射野(3)互換后進(jìn)行。本發(fā)明屬放射治療領(lǐng)域，提供了一種點(diǎn)陣調(diào)強(qiáng)準(zhǔn)直器，在調(diào)強(qiáng)放射治療時(shí)一個(gè)照射野只需要照射兩次，具有較高的調(diào)強(qiáng)效率。
文檔編號(hào)G21K1/02GKCN101989468SQ200910109264
公開(kāi)日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2009年8月6日
發(fā)明者張遠(yuǎn)華, 張霄麗, 肖遠(yuǎn)念, 連衛(wèi)東, 高榮水, 黃文峰 申請(qǐng)人:連衛(wèi)東導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan