專利名稱:同氣源氣推閥裝置的制作方法
同氣源氣推閥裝置技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本發(fā)明涉及一種氣推閥裝置，特別是同氣源氣推閥裝置。[0002]背景技術(shù)[0003]參照?qǐng)D 3, "Aeroballistic and impact physics research at EMI-an historical overview, Int. J. Impact Engng, 1995, Vol. 17，785-805” 公開了一種具有快速 開啟閥的氣炮，該氣炮可用于Hopkinson桿系統(tǒng)的撞擊桿發(fā)射或驅(qū)動(dòng)，包括放氣閥1、進(jìn)氣 閥2、滑塊密封圈3、氣室筒4、炮管密封圈5、滑塊6、炮管7、第二進(jìn)氣閥8、發(fā)射氣室9和三 通接頭10。該裝置設(shè)有獨(dú)立的用于驅(qū)動(dòng)發(fā)射體的發(fā)射氣室9，該發(fā)射氣室9通過導(dǎo)氣管與 氣室簡(jiǎn)4相連通。氣室筒4外形為圓筒狀，內(nèi)部為一連續(xù)凹臺(tái)結(jié)構(gòu)，前部是一個(gè)錐形面，后 部固連有后法蘭盤11，炮管7—端與氣室筒4帶有錐度的一端固連，另一端放置于支架上并 開口于大氣中，氣室筒4內(nèi)有滑塊6，滑塊6后部的凸臺(tái)與氣室筒4后部?jī)?nèi)圓間隙配合，滑 塊6前部是錐臺(tái)形，該錐臺(tái)與氣室筒4的錐形面配合?；瑝K6的錐臺(tái)壓緊氣室筒4的錐形 面時(shí)，滑塊6后部與后法蘭盤11之間形成后氣室15，滑塊6中部與氣室筒4中部之間形成 前氣室16?；瑝K密封圈3用于發(fā)射氣室9與后氣室15之間的密封，炮管密封圈5用于發(fā)射 氣室9與氣室筒4之間的密封。后法蘭盤11上開有通氣管，通過三通接頭10接有放氣閥 1和進(jìn)氣閥2。工作時(shí)，先打開進(jìn)氣閥2，進(jìn)入后氣室15的高壓氣將滑塊6向炮管7方向推 動(dòng)，使滑塊6前部的錐臺(tái)與氣室筒4的錐形面貼合，同時(shí)滑塊密封圈3和炮管密封圈5被壓 緊，實(shí)現(xiàn)發(fā)射氣室9與后氣室15間的密封，以及發(fā)射氣室9與炮管7間的密封。然后關(guān)閉 進(jìn)氣閥2并打開第二進(jìn)氣閥8，向發(fā)射氣室9充氣，達(dá)到預(yù)定壓力時(shí)關(guān)閉第二進(jìn)氣閥8。當(dāng) 后氣室15作用于滑塊6的壓力大于發(fā)射氣室9內(nèi)氣體作用于滑塊6的壓力時(shí)，滑塊6將保 持緊壓在氣室筒4的錐形面上。發(fā)射時(shí)，打開放氣閥1，后氣室15的壓力迅速減小，滑塊6 向后法蘭盤11方向移動(dòng)，滑塊6前部的錐臺(tái)移開氣室筒4的錐形面，發(fā)射氣室9內(nèi)的高壓 氣體進(jìn)入炮管7，驅(qū)動(dòng)炮管7內(nèi)的發(fā)射體。[0004]這種發(fā)射裝置的缺點(diǎn)是氣室要嚴(yán)格密封且操作復(fù)雜，實(shí)驗(yàn)時(shí)需要對(duì)氣室的前后兩 部分分別充氣，且后氣室氣源壓力要高于前氣室氣源壓力，一旦發(fā)射氣室的氣壓過大，將導(dǎo) 致后氣室作用于滑塊的壓力小于發(fā)射氣室內(nèi)氣體作用于滑塊的壓力而出現(xiàn)誤發(fā)射。[0005]
發(fā)明內(nèi)容
[0006]為了克服現(xiàn)有技術(shù)容易出現(xiàn)誤發(fā)射、操作復(fù)雜的不足，本發(fā)明提供一種同氣源氣 推閥裝置，用同一氣源，通過氣室筒內(nèi)滑塊前后的壓差工作，只需一次充氣操作，可以節(jié)約 一個(gè)發(fā)射氣室，操作簡(jiǎn)單，可靠性高。[0007]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案一種同氣源氣推閥裝置，包括放氣閥、 進(jìn)氣閥、氣室筒、炮管密封圈、滑塊、炮管、三通接頭、后法蘭盤，后法蘭盤中心開有通孔，該 通孔與三通接頭的一端固連，三通接頭另外兩端分別與進(jìn)氣閥和放氣閥的一端相連，進(jìn)氣 閥的另一端與氣源相連，放氣閥的另一端開口于大氣，其特點(diǎn)是還包括前法蘭盤，所述氣室 筒是圓筒形狀，其兩端開口，前法蘭盤和后法蘭盤分別固定在氣室筒的兩端，與氣室筒一起 構(gòu)成氣室；氣室被滑塊分隔為后氣室和前氣室；所述炮管內(nèi)部為一貫穿通孔，其外部形狀為三級(jí)凸臺(tái)狀，其中兩級(jí)位于氣室筒內(nèi)，一級(jí)凸臺(tái)穿過前法蘭盤伸出氣室筒；中間凸臺(tái)卡于 前法蘭盤上，后凸臺(tái)與滑塊接觸的端面開有環(huán)形凹槽，炮管密封圈鑲嵌于槽內(nèi)；圓柱形滑塊 位于炮管末端的后凸臺(tái)與后法蘭盤之間，且與氣室筒同軸間隙配合，并能在氣室筒內(nèi)的炮 管末端后凸臺(tái)與后法蘭盤之間前后移動(dòng)；圓柱狀撞擊桿固定在尼龍制成的環(huán)形彈托上，彈 托位于炮管內(nèi)，于炮管同軸，并可沿炮管內(nèi)壁滑動(dòng)，實(shí)驗(yàn)前處于氣室筒內(nèi)的炮管后部。[0008]本發(fā)明的有益效果是由于滑塊的設(shè)計(jì)，在實(shí)驗(yàn)時(shí)，用同一氣源，通過滑塊前后的 壓差工作，只需一次充氣操作，所以，節(jié)約了一個(gè)發(fā)射氣室，而且操作簡(jiǎn)單，可靠性高，發(fā)射 時(shí)滑塊移動(dòng)快，高壓氣體進(jìn)入炮管的初始開口量大，保證高壓氣體進(jìn)入炮管推動(dòng)撞擊桿是 一個(gè)恒壓恒加速過程。[0009]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)說明。[0010]
[0011]圖1是本發(fā)明同氣源氣推閥裝置結(jié)構(gòu)圖。[0012]圖2是本發(fā)明同氣源氣推閥裝置工作狀態(tài)結(jié)構(gòu)圖。[0013]圖3是現(xiàn)有技術(shù)發(fā)射裝置的結(jié)構(gòu)圖。[0014]圖中，1-放氣閥；2-進(jìn)氣閥；3-滑塊密封圈；4-氣室筒；5-炮管密封圈；6_滑塊； 7-炮管；8-第二進(jìn)氣閥；9-發(fā)射氣室；10-三通接頭；11-后法蘭盤；12-前法蘭盤；13-彈 托；14-撞擊桿；15-后氣室；16-前氣室。[0015]具體實(shí)施方式
[0016]參照?qǐng)D1 2。同氣源氣推閥裝置包括放氣閥1、進(jìn)氣閥2、氣室筒4、炮管密封圈 5、滑塊6、炮管7、三通接頭10、后法蘭盤11、前法蘭盤12和撞擊桿14。氣室筒4是鋼制圓 筒形狀，其兩端開口，鋼制的前法蘭盤12和后法蘭盤11分別固定在氣室筒4兩端，與氣室 筒4 一起構(gòu)成氣室。氣室由滑塊6分隔為后氣室15和前氣室16?；瑝K6與前法蘭盤12之 間的部分稱為前氣室16，滑塊6和后法蘭盤11之間的部分稱為后氣室15。炮管7內(nèi)部為 一貫穿通孔，其外部形狀為三級(jí)凸臺(tái)狀，其中兩級(jí)位于氣室筒4內(nèi)，一級(jí)穿過前法蘭盤12伸 出氣室筒4。中間凸臺(tái)卡于前法蘭盤12上，后凸臺(tái)與滑塊6接觸的端面開有環(huán)形凹槽，炮 管密封圈5鑲嵌于槽內(nèi)。位于氣室筒4內(nèi)的炮管部分與氣室筒4同軸。炮管密封圈5是普 通的“0”型橡膠密封圈。由鋁合金制成的圓柱形滑塊6位于炮管7末端的后凸臺(tái)與后法蘭 盤11之間，且與氣室筒4同軸間隙配合，滑動(dòng)6可在氣室筒4內(nèi)的炮管7末端后凸臺(tái)與后 法蘭盤11之間前后移動(dòng)。后法蘭盤11中心開有通孔，該通孔與三通接頭10的一端固連。 三通接頭10另外兩端分別與進(jìn)氣閥2和放氣閥1的一端相連，進(jìn)氣閥2的另一端與氣源相 連，放氣閥1的另一端開口于大氣。撞擊桿14是鋼制圓柱狀，固定在尼龍制成的環(huán)形彈托 13內(nèi)，彈托13位于炮管7內(nèi)，于炮管7同軸，并可沿炮管7內(nèi)壁滑動(dòng)，實(shí)驗(yàn)前處于氣室筒4 內(nèi)的炮管7后部。[0017]工作時(shí)，首先關(guān)閉放氣閥1并打開進(jìn)氣閥2，向氣室筒4內(nèi)充氣，氣體首先進(jìn)入后氣 室15，在后氣室15內(nèi)的高壓氣體作用下，滑塊6向炮管7末端移動(dòng)并緊壓在炮管7末端后 凸臺(tái)的炮管密封圈5上。隨著進(jìn)入后氣室15的高壓氣體增加，部分氣體在高壓的作用下通 過滑塊6與氣室筒4之間的間隙進(jìn)入前氣室16，由于后氣室15內(nèi)高壓氣體作用于滑塊6上 壓力大于滑塊6另一側(cè)的氣體壓力，因此滑塊6仍然緊壓在炮管7末端的后凸臺(tái)上，由于炮 管密封圈5的存在，前氣室16與炮管7內(nèi)部不連通。當(dāng)達(dá)到預(yù)定壓力時(shí)關(guān)閉進(jìn)氣閥2。發(fā)射時(shí)，打開放氣閥1，后氣室15內(nèi)的高壓氣體快速向空氣中釋放，后氣室15內(nèi)的氣體壓力快 速降低，作用于滑塊6端面的壓力迅速減小，當(dāng)該壓力小于作用于滑塊6另一端的氣體壓力 時(shí)，滑塊6向后快速移動(dòng)，前氣室16與炮管7內(nèi)部連同，高壓氣進(jìn)入炮管7驅(qū)動(dòng)處于炮管7 內(nèi)的撞擊桿14。
權(quán)利要求
1.一種同氣源氣推閥裝置包括放氣閥、進(jìn)氣閥、氣室筒、炮管密封圈、滑塊、炮管、三通 接頭、后法蘭盤，后法蘭盤中心開有通孔，該通孔與三通接頭的一端固連，三通接頭另外兩 端分別與進(jìn)氣閥和放氣閥的一端相連，進(jìn)氣閥的另一端與氣源相連，放氣閥的另一端開口 于大氣，其特征在于還包括前法蘭盤，所述氣室筒是圓筒形狀，其兩端開口，前法蘭盤和后 法蘭盤分別固定在氣室筒的兩端，與氣室筒一起構(gòu)成氣室；氣室被滑塊分隔為后氣室和前 氣室；所述炮管內(nèi)部為一貫穿通孔，其外部形狀為三級(jí)凸臺(tái)狀，其中兩級(jí)位于氣室筒內(nèi)，一 級(jí)凸臺(tái)穿過前法蘭盤伸出氣室筒；中間凸臺(tái)卡于前法蘭盤上，后凸臺(tái)與滑塊接觸的端面開 有環(huán)形凹槽，炮管密封圈鑲嵌于槽內(nèi)；圓柱形滑塊位于炮管末端的后凸臺(tái)與后法蘭盤之間， 且與氣室筒同軸間隙配合，并能在氣室筒內(nèi)的炮管末端后凸臺(tái)與后法蘭盤之間前后移動(dòng)； 圓柱狀撞擊桿固定在尼龍制成的環(huán)形彈托上，彈托位于炮管內(nèi)，于炮管同軸，并可沿炮管內(nèi) 壁滑動(dòng)，實(shí)驗(yàn)前處于氣室筒內(nèi)的炮管后部。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的同氣源氣推閥裝置，其特征在于所述的炮管與氣室筒同軸。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的同氣源氣推閥裝置，其特征在于所述的炮管密封圈是“0”型 橡膠密封圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的同氣源氣推閥裝置，其特征在于所述的滑塊，其材料是鋁合金ο
專利摘要
本發(fā)明公開了一種同氣源氣推閥裝置，包括放氣閥、進(jìn)氣閥、氣室筒、炮管密封圈、滑塊、炮管、三通接頭、后法蘭盤，其特點(diǎn)是還包括前法蘭盤，所述氣室筒是圓筒形狀，其兩端開口，前法蘭盤和后法蘭盤分別固定在氣室筒的兩端，與氣室筒一起構(gòu)成氣室；所述炮管內(nèi)部為一貫穿通孔，其外部形狀為三級(jí)凸臺(tái)狀，其中兩級(jí)位于氣室筒內(nèi)，一級(jí)凸臺(tái)穿過前法蘭盤伸出氣室筒；圓柱形滑塊位于炮管末端的后凸臺(tái)與后法蘭盤之間，且與氣室筒同軸間隙配合，圓柱狀撞擊桿固定在炮管內(nèi)的環(huán)形彈托上，并可沿炮管內(nèi)壁滑動(dòng)。由于滑塊的設(shè)計(jì)，在實(shí)驗(yàn)時(shí)，用同一氣源，通過滑塊前后的壓差工作，只需一次充氣操作，所以，節(jié)約了一個(gè)發(fā)射氣室，而且操作簡(jiǎn)單，可靠性高。
文檔編號(hào)F41B11/32GKCN101338993SQ200810150607
公開日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2008年8月13日
發(fā)明者李玉龍, 索濤, 郭偉國 申請(qǐng)人:西北工業(yè)大學(xué)導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan專利引用 (5),