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密封組合結(jié)構(gòu)、移動終端和密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法與流程

文檔序號:11254154閱讀:1442來源:國知局
密封組合結(jié)構(gòu)、移動終端和密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法與流程

本發(fā)明涉及密封組合結(jié)構(gòu)領(lǐng)域,具體地涉及一種密封組合結(jié)構(gòu)、移動終端和密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法。



背景技術(shù):

隨著電子行業(yè)的發(fā)展,目前對手機等移動終端防水性能的要求越來越高,而防水主要通過密封件的密封來實現(xiàn),因此,密封件的密封性能是影響電子設(shè)備防水性能的關(guān)鍵因素。然而現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中,個體零件本身存在公差,裝配過程中也存在公差,容易導(dǎo)致密封件的密封性能不穩(wěn)定。

但是在實際組裝中,由于各零部件本身生產(chǎn)制造后的尺寸有公差,各零部件之間配合存在配合公差,導(dǎo)致公差累積大。當(dāng)凸筋高度尺寸為負公差或者其他零部件尺寸負公差,導(dǎo)致凸筋與電池蓋過盈量變小或者沒有過盈量,最終導(dǎo)致密封效果不穩(wěn)定。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種密封組合結(jié)構(gòu),包括密封件以及采用形狀記憶合金制成的支撐件,所述支撐件存在高溫相和低溫相;所述密封件的外側(cè)壁設(shè)有凸筋,所述密封件的內(nèi)側(cè)壁設(shè)有低溫相的支撐件;所述支撐件受熱后向高溫相變形并抵頂所述密封件的內(nèi)側(cè)壁。

本發(fā)明還提供了一種移動終端,包括:電池蓋、功能部件、主板上蓋和密封組合結(jié)構(gòu),所述密封組合結(jié)構(gòu)包括密封件以及采用形狀記憶合金制成的支撐件,所述支撐件存在高溫相和低溫相;所述密封件的外側(cè)壁設(shè)有凸筋,所述密封件的內(nèi)側(cè)壁設(shè)有低溫相的支撐件;所述支撐件受熱后向高溫相變形并抵頂所述密封件的內(nèi)側(cè)壁。

本發(fā)明還提供了一種密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法,包括:

制備密封件,所述密封件的外側(cè)壁設(shè)有凸筋;

采用形狀記憶合金制備低溫相支撐件;

將所述低溫相支撐件設(shè)置于密封件的內(nèi)側(cè)壁,得到所述密封組合結(jié)構(gòu);

對所述密封組合結(jié)構(gòu)加熱,通過所述支撐件受熱后向高溫相變形的過程中產(chǎn)生的應(yīng)力恰好抵住所述密封件的凸筋向下或向內(nèi)變形。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點:

本發(fā)明提供了一種密封組合結(jié)構(gòu),該密封組合結(jié)構(gòu)包括密封件和采用形狀記憶合金制成的支撐件,通過在密封件的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置采用形狀記憶合金制成的低溫相的支撐件,利用形狀記憶合金的特性,該支撐件受熱后,產(chǎn)生向高溫相變形的應(yīng)力,該應(yīng)力使支撐件抵頂密封件,減少密封件公差累積,阻止密封件外側(cè)壁的凸筋向支撐件的方向變形,從而達到密封效果。

這樣,采用上述密封組合結(jié)構(gòu)的移動終端,在低溫狀態(tài)下對密封組合結(jié)構(gòu)和其他零件進行組裝,組裝完成后,對移動終端加熱處理,支撐件向高溫相變形過程中產(chǎn)生的應(yīng)力恰好抵頂密封件外側(cè)壁的凸筋向支撐件的方向變形,進而使得密封件與移動終端的其他零件配合更加緊密,補償各個零件和密封件累積公差,從而達到密封效果。

附圖說明

圖1本發(fā)明提供的一種密封組合結(jié)構(gòu)簡圖;

圖2本發(fā)明提供的一種高溫相支撐件;

圖3本發(fā)明提供的一種低溫相支撐件;

圖4本發(fā)明提供的另一種密封組合結(jié)構(gòu)簡圖;

圖5本發(fā)明提供的另一種高溫相支撐件;

圖6本發(fā)明提供的另一種低溫相支撐件;

圖7本發(fā)明提供的一種移動終端實施例的密封件裝配圖;

圖8本發(fā)明提供的一種密封組合結(jié)構(gòu)加工方法流程圖。

具體實施方式

下文描述了本發(fā)明的具體實施方式,該實施方式為示意性的,旨在揭示本發(fā)明的具體工作過程,不能理解為對權(quán)利要求的保護范圍的進一步限定。

實施例一

參照圖1所示,其為本發(fā)明提供的一種密封組合結(jié)構(gòu)簡圖。該密封組合結(jié)構(gòu)包括密封件12和支撐件,所述支撐件存在高溫相和低溫相兩種狀態(tài),其中,高溫相支撐件21參照圖2所示,低溫相支撐件22的形狀參照圖3所示。

優(yōu)選地,所述支撐件由有形狀記憶效應(yīng)的記憶合金制成。該形狀記憶合金(shapememoryalloys,簡稱sma),是一種原子排列很有規(guī)則、體積變?yōu)樾∮?.5%的馬氏體相變合金,其在外力作用下會產(chǎn)生變形,當(dāng)把外力去掉,在一定的溫度條件下能恢復(fù)原來的形狀,例如在加熱升溫后能完全消除其在較低的溫度下發(fā)生的變形,恢復(fù)其變形前原始形狀的合金材料,即擁有“記憶”效應(yīng)的合金。其中,該形狀記憶合金包括如下三類:1)單程記憶效應(yīng)的合金:形狀記憶合金在較低的溫度下變形,加熱后可恢復(fù)變形前的形狀,這種只在加熱過程中存在的形狀記憶現(xiàn)象稱為單程記憶效應(yīng);2)雙程記憶效應(yīng):某些合金加熱時恢復(fù)高溫相形狀,冷卻時又能恢復(fù)低溫相形狀,稱為雙程記憶效應(yīng);3)全程記憶效應(yīng):加熱時恢復(fù)高溫相形狀,冷卻時變?yōu)樾螤钕嗤∠蛳喾吹牡蜏叵嘈螤?,稱為全程記憶效應(yīng)。本發(fā)明實施例可選用的形狀記憶合金包括鎳-鈦合金、金-鎘合金、銅-鋅合金等。

在本發(fā)明的實施例中,上述密封件12可以是密封硅膠套,主要套設(shè)于電子設(shè)備零部件的外表,以實現(xiàn)防塵防水的效果。該密封件12的外側(cè)壁周圈設(shè)置有凸筋15,密封件12的內(nèi)側(cè)壁上與所述凸筋15對應(yīng)部位設(shè)有上述支撐件。其中,該支撐件優(yōu)選采用鎳-鈦記憶合金制成,其成品樣式通常為管狀、棒狀或板狀,用于制備抵頂硅膠套的支撐件無需增加加工步驟,節(jié)約生產(chǎn)的經(jīng)濟成本和時間成本。并且,鎳-鈦材質(zhì)的記憶合金還具有無磁性、耐磨耐蝕、無毒性的優(yōu)點,由其制成的支撐件連同密封硅膠套非常適用套設(shè)于電子設(shè)備的耳機插座等需要防磁性干擾的部位。

在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中,由于該支撐件主要用于支撐抵頂硅膠密封件,該支撐件優(yōu)選為鈑金沖壓件,因此優(yōu)先選用板狀的鎳-鈦合金,該板狀的鎳鈦合金是在低溫(-15℃)下通過沖壓工藝碾壓成平板狀的,無需增加工藝步驟,節(jié)約生產(chǎn)的經(jīng)濟成本和時間成本。再次,上述板狀鎳-鈦合金的厚度范圍在0.10mm-20mm,由其制成的支撐件可減少占用密封組合結(jié)構(gòu)的內(nèi)部空間。其次,上述支撐件優(yōu)選單程記憶效應(yīng)的鎳鈦合金,該鎳鈦合金在低溫下變形形成板狀,加熱后恢復(fù)變形前的形狀;由于其具有單程記憶效應(yīng),即使將該密封組合結(jié)構(gòu)再次置于降溫環(huán)境(例如從高溫回復(fù)常溫)中,支撐件也不會恢復(fù)低溫相的平板形狀,以保證密封組合結(jié)構(gòu)的密封性。此外,為了保證電子設(shè)備的功能和外觀穩(wěn)定,電子設(shè)備的整體溫度有標(biāo)準限定,例如手機的整機溫度要求保持在-30℃~80℃,而本實施例優(yōu)選的單程記憶效應(yīng)鎳鈦合金低溫相溫度為-15℃左右,高溫相溫度為55℃左右,滿足手機等電子設(shè)備對溫度的限制要求。

進一步地,如圖3所示,上述形狀記憶合金在低溫下制成平板狀的低溫相支撐件22;其加熱后形成高溫相的支撐件21,呈波浪形狀,其中波浪形狀支撐件21的波谷部位的位置高于支撐件21的兩末端位置,如圖2所示。

進一步地,如圖1和圖7所示,上述密封件12的外側(cè)壁設(shè)置有凸筋15,該凸筋15可以縱向設(shè)置或周圈設(shè)置;密封件12的內(nèi)側(cè)壁上與所述凸筋15對應(yīng)的部位設(shè)有上述支撐件。優(yōu)選地,密封件12的內(nèi)側(cè)壁為平展?fàn)畈⒃O(shè)有上述低溫相的支撐件22。當(dāng)對所述密封組合結(jié)構(gòu)加熱時,低溫相的支撐件22受熱并向高溫相的支撐件21變形。但是由于空間限制,低溫相支撐件22不能完全變?yōu)楦邷叵嘀渭?1的形狀,只是有向高溫相變形的應(yīng)力,應(yīng)力方向如圖1箭頭所示。由于該應(yīng)力的存在,支撐件抵住密封件12的內(nèi)側(cè)壁,防止密封件12外側(cè)壁上的凸筋15移動易位,同時也防止密封件12變形。尤其當(dāng)密封件12由于公差累積,凸筋15的尺寸處于公差下限時,該應(yīng)力可以有效的阻止凸筋15移動易位,減少公差累積。

本發(fā)明實施例中的密封組合結(jié)構(gòu)包括以下優(yōu)點:通過在密封件的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置采用形狀記憶合金制成的低溫相的支撐件,利用形狀記憶合金的特性,該支撐件在受熱后產(chǎn)生向高溫相變形的應(yīng)力,該應(yīng)力使支撐件抵頂密封件,減少密封件公差累積,阻止密封件外側(cè)壁的凸筋向支撐件的方向變形,從而達到密封效果。

實施例二

參照圖4所示,其為本發(fā)明提供的另一種密封組合結(jié)構(gòu)簡圖,該密封組合結(jié)構(gòu)包括密封件12和支撐件,所述支撐件存在高溫相和低溫相兩種狀態(tài),其中,高溫相支撐件21參照圖5所示,低溫相支撐件22的形狀參照圖6所示。

關(guān)于支撐件的選材和厚度如上實施例一所述,在此不再贅述。

在本發(fā)明的實施例中,上述密封件12可以是密封硅膠套,主要套設(shè)于電子設(shè)備零部件的外表,以實現(xiàn)防塵防水的效果。該密封件12的外側(cè)壁周圈設(shè)置有凸筋15,該凸筋15可以縱向設(shè)置或周圈設(shè)置;密封件12的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置凹臺,所述凹臺上與所述凸筋15對應(yīng)的部位設(shè)有上述支撐件。優(yōu)選地,密封件12內(nèi)側(cè)壁的凹臺部位設(shè)有上述低溫相的支撐件22,所述低溫相支撐件22的中間部分通過沖壓工藝碾壓為平板狀,兩端通過彎折工藝加工為向同向彎折狀,且與所述密封件內(nèi)側(cè)壁相配合部分(例如:凹臺部位)的彎曲角度一致,參照圖6和圖7所示。

當(dāng)對所述密封組合結(jié)構(gòu)加熱時,低溫相的支撐件22受熱并向高溫相的支撐件21變形,高溫相支撐件21的形狀參照圖5所示,其中間部分為波浪形狀,兩端部分為反向平板狀。其中,所述波浪形狀支撐件21的波谷部位的位置高于支撐件21的兩末端位置。但是由于空間限制,低溫相支撐件22不能完全變?yōu)楦邷叵嘀渭?1的形狀,只是有向高溫相變形的應(yīng)力,應(yīng)力方向如圖4箭頭所示:低溫相支撐件22中間的平面部位有向高溫相支撐件21中間部分波浪形狀變形的應(yīng)力,低溫相支撐件22兩端的彎折部有向高溫相支撐件21兩端的平板狀變形的應(yīng)力。由于該應(yīng)力的存在,支撐件抵住密封件12的內(nèi)側(cè)壁,防止密封件12外側(cè)壁上的凸筋15移動易位,同時也防止密封件12變形,減少公差累積。

本發(fā)明實施例中的密封組合結(jié)構(gòu)包括以下優(yōu)點:通過在密封件的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置采用形狀記憶合金制成的低溫相的支撐件,利用形狀記憶合金的特性,該支撐件在受熱后產(chǎn)生向高溫相變形的應(yīng)力,該應(yīng)力使支撐件抵頂密封件,減少密封件公差累積,阻止密封件外側(cè)壁的凸筋向支撐件的方向變形,從而達到密封效果。

實施例三

參照圖7,為本發(fā)明提供的一種移動終端實施例的密封件裝配圖,該移動終端包括電池蓋11、功能部件13、主板上蓋14和上述密封組合結(jié)構(gòu)。所述電池蓋11與主板上蓋14圍合形成容納空間,所述密封組合結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述容納空間內(nèi)部,所述功能部件13位于所述密封組合結(jié)構(gòu)內(nèi)部。該密封組合結(jié)構(gòu)包括上述密封件12和支撐件,所述支撐件存在高溫相和低溫相兩種狀態(tài)。關(guān)于支撐件的選材和厚度如上實施例一所述,關(guān)于支撐件與密封件12的位置關(guān)系如上實施例一和實施例二所述,在此不再贅述。

其中,上述電池蓋11用于支撐整機結(jié)構(gòu)和外形;所述功能部件13可以是耳機座子等;主板上蓋14、功能部件13與電池蓋11相配合以實現(xiàn)整機功能,但三者之間存在縫隙。本發(fā)明實施例在功能部件13外面套設(shè)組裝密封件12,來密封上述三個部件之間存在的縫隙;該密封件12可以是硅膠套,硬度在50a-60a,密封件12外側(cè)壁有凸筋15,同時凸筋15與電池蓋11過盈配合實現(xiàn)密封,過盈量為0.07-0.15mm。

進一步地,本發(fā)明實施例在密封件12的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置支撐件來實現(xiàn)凸筋與電池蓋之間的過盈配合。具體地,移動終端的上述各部件在常溫下進行組裝,此時低溫相支撐件22為平板狀或呈“冂”狀。低溫相支撐件22壓設(shè)于密封件12的內(nèi)側(cè)壁,或者密封件12套設(shè)在支撐件上,支撐件與密封件12之間存在公差導(dǎo)致的縫隙。該支撐件的材質(zhì)優(yōu)選單向記憶鎳鈦合金,在55-65℃的溫度范圍內(nèi)采用高溫氣槍對密封組合結(jié)構(gòu)進行加熱;此時,低溫相的支撐件22受熱并向高溫相的支撐件21變形。但由于空間限制,低溫相支撐件22不能完全變?yōu)楦邷叵嘀渭?1的形狀,只是有向高溫相變形的應(yīng)力,應(yīng)力方向如圖1、圖4或圖7的箭頭所示。由于該應(yīng)力的存在,支撐件抵住密封件12的內(nèi)側(cè)壁,防止密封件12外側(cè)壁上的凸筋15移動易位,同時也防止密封件12變形。補償各個零件和密封件的累積公差,進而保證電池蓋11與密封件12配合的過盈量,也有效地實現(xiàn)了功能部件13與電池蓋11、主板上蓋14之間配合間隙的密封效果。

本發(fā)明實施例的移動終端包括以下優(yōu)點:通過在移動終端的密封件的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置采用形狀記憶合金制成的低溫相的支撐件,將包括上述密封件和支撐件的密封組合結(jié)構(gòu)與移動終端的其他零件配合,然后采用高溫加熱;支撐件在受熱后,產(chǎn)生向高溫相變形的應(yīng)力,該應(yīng)力使支撐件抵頂密封件,阻止密封件外側(cè)壁的凸筋向支撐件的方向變形,補償移動終端各個零件和密封件的累積公差,從而達到密封效果,實現(xiàn)防水性能。

實施例四

參照圖8,為本發(fā)明提供的一種密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法流程圖。

步驟100,制備密封件,該密封件的外側(cè)壁設(shè)有凸筋。

優(yōu)選地,所述密封件可以是硅膠套,該硅膠套的內(nèi)腔體積與功能部件相匹配。優(yōu)選地,該密封件的內(nèi)側(cè)壁還可預(yù)留與凸筋相對應(yīng)的用于設(shè)支撐件的位置或凹臺。

步驟200,采用形狀記憶合金制備低溫相支撐件。

優(yōu)選地,本步驟采用板狀的具有單程記憶效應(yīng)的鎳鈦合金來制備低溫相支撐件,在低溫狀態(tài)(-15℃)下,通過沖壓方法將鎳鈦合金制成平板狀的低溫相支撐件;或者,將所述板狀鎳鈦合金的中間部分在低溫狀態(tài)下通過沖壓方法制成平板狀,兩端部分通過彎折成型工藝制成同向彎折狀,支撐件兩端的彎曲角度與所述密封件配合部分彎曲角度一致。

具體的,所述支撐件為選用具有單程記憶效應(yīng)的鎳鈦合金制成的鈑金沖壓件。

步驟300,將所述低溫相支撐件設(shè)置于密封件的內(nèi)側(cè)壁,得到所述密封組合結(jié)構(gòu)。

在其中一個優(yōu)選實施例中,所述低溫相支撐件設(shè)置于密封件的內(nèi)側(cè)壁上且與外側(cè)壁的凸筋相對應(yīng)的位置。

在另一個優(yōu)選實施例中,可在密封件的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置凹臺,所述凹臺上與所述凸筋對應(yīng)的部位設(shè)有上述低溫相支撐件,所述低溫相支撐件的中間部分為平板狀,兩端為向同向彎折狀,且與所述凹臺的彎曲角度一致。

步驟400,對所述密封組合結(jié)構(gòu)加熱。

采用高溫氣槍加熱,溫度為55℃-65℃。所述低溫相支撐件受熱后向高溫相變形的過程中產(chǎn)生了應(yīng)力,所述應(yīng)力恰好使所述支撐件抵住所述密封件的內(nèi)側(cè)壁,防止密封件外側(cè)壁上的凸筋移動易位,同時也防止密封件變形,減少公差累積。

本發(fā)明實施例提供的一種密封組合結(jié)構(gòu)加工方法具有以下優(yōu)點:采用具有單程記憶效應(yīng)的鎳鈦合金制成的鈑金沖壓件作為支撐件,通過對包括上述支撐件和密封件的密封組合結(jié)構(gòu)加熱,該支撐件受熱后產(chǎn)生向高溫相變形的應(yīng)力,該應(yīng)力使支撐件抵頂密封件,減少密封件公差累積,阻止密封件凸筋向支撐件的方向變形,從而達到密封效果。

盡管已描述了本發(fā)明實施例的優(yōu)選實施例,但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念,則可對這些實施例做出另外的變更和修改。所以,所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本發(fā)明實施例范圍的所有變更和修改。

以上對本發(fā)明所提供的一種中密封組合結(jié)構(gòu)、移動終端和密封組合結(jié)構(gòu)的加工方法,進行了詳細介紹,本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想;同時,對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實施方式及應(yīng)用范圍上均會有改變之處,綜上所述,本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。

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