專利名稱：暗曝光控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于控制設(shè)置在數(shù)碼相機中的成像裝置的曝光的裝置，并且更具體地涉及一種控制暗曝光的裝置，以便檢測由成像裝置產(chǎn)生的暗電流導(dǎo)致的圖像信號的噪
聲分量。
背景技術(shù)：
當(dāng)成像裝置未接收光時，在成像裝置中產(chǎn)生暗電流。曝光時間越長，對拍攝的圖像的影響越大。傳統(tǒng)上，如在USP5，729，288中所公開的，存在如下的已知裝置:每次執(zhí)行主曝光，就進(jìn)行暗曝光，并且從通過主曝光而獲得的圖像數(shù)據(jù)中減去通過暗曝光而獲得的圖像數(shù)據(jù)，以減少暗電流的影響。在暗曝光中，當(dāng)僅關(guān)閉快門時對光的阻斷可能是不充分的。例如，當(dāng)汽車經(jīng)過正進(jìn)行天文攝影的地方時，如果來自前燈的強光通過攝影鏡頭進(jìn)入相機機身，光可能通過關(guān)閉的快門泄露到成像裝置的光接收表面。在傳統(tǒng)的單反相機中，進(jìn)行暗曝光的同時向下移動反光鏡，并且通過攝影鏡頭的光被反光鏡部分阻斷。因此，進(jìn)入成像裝置的光的量相對較小。相反地，在無反光鏡型相機(其是最近的發(fā)展)中，通過攝影鏡頭的光直接打到快門，并因此光可能容易地進(jìn)入成像裝置。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種暗曝光控制裝置，該裝置能夠顯著減少進(jìn)入成像裝置的光的量，甚至在進(jìn)行暗曝光時強光進(jìn)入攝影鏡頭的情況下。根據(jù)本發(fā)明，提供一種暗曝光控制裝置，該裝置設(shè)置在具有成像裝置和用于控制成像裝置的曝光的快門的相機中，暗曝光控制裝置包括暗曝光執(zhí)行處理器、孔徑光闌和孔徑光闌驅(qū)動處理器。暗曝光執(zhí)行處理器檢測當(dāng)快門被關(guān)閉時成像裝置產(chǎn)生的圖像信號。孔徑光闌調(diào)節(jié)入射在成像裝置上的光的量?？讖焦怅@驅(qū)動處理器調(diào)節(jié)當(dāng)暗曝光執(zhí)行處理器被操作時孔徑光闌的開放程度，使其小于針對主曝光設(shè)定的開放程度。


根據(jù)參考附圖的下面的描述中，將會更好地理解本發(fā)明的目標(biāo)和優(yōu)點，附圖中:圖1是單反相機的框圖，其對本發(fā)明的第一到第三實施方式是通用的。圖2是第一實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程圖；圖3是第一實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖；圖4是第二實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程圖；圖5是第二實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖；圖6是第三實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程
圖7是第三實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖。
具體實施例方式下面將參考附圖描述本發(fā)明的實施方式。圖1是單反相機的總體結(jié)構(gòu)的框圖，其對本發(fā)明的第一到第三實施方式是通用的?？讖焦怅@13設(shè)置在攝影鏡頭11和攝影鏡頭12之間，并且反光鏡14、快門簾幕15和成像裝置16設(shè)置在攝影鏡頭11和攝影鏡頭12的后方。棱鏡17安裝在反光鏡14的上方。聚焦屏18設(shè)置在棱鏡17的下方，并且物鏡19設(shè)置在棱鏡17的后方。在光軸上的攝影鏡頭11和攝影鏡頭12的位置由鏡頭控制電路21控制，以便能夠執(zhí)行調(diào)焦和變焦操作?？讖焦怅@的開放程度由孔徑光闌驅(qū)動電路22調(diào)節(jié)，以便入射在成像裝置16上的光的量能夠被調(diào)節(jié)。反光鏡14由反光鏡驅(qū)動電路23轉(zhuǎn)動，并且快門簾幕15由快門驅(qū)動電路24打開并關(guān)閉。攝影鏡頭11和攝影鏡頭12的對焦?fàn)顟B(tài)由AF傳感器25檢測，并且被拍物體的亮度由測光傳感器26檢測。由AF傳感器25和測光傳感器26所檢測到的信號輸入至CPU31。根據(jù)這些信號，鏡頭控制電路21、孔徑光闌驅(qū)動電路22、反光鏡驅(qū)動電路23和快門驅(qū)動電路24得以控制，并因此而進(jìn)行拍攝。包括快門按鈕、模式旋鈕等等的操作構(gòu)件32和狀態(tài)指示裝置33 (比如，液晶顯示器)連接至CPU31。通過操作操作構(gòu)件32，不僅確定了拍攝模式，還設(shè)定了快門速度和孔徑值，并且執(zhí)行了拍攝。在對操作構(gòu)件32操作時設(shè)定的拍攝模式、快門速度和孔徑值顯示在狀態(tài)指示裝置33上。溫度傳感器28附接至成像裝置16的基板，以便成像裝置16的溫度能夠被檢測并被輸入至CPU31。成像裝置16的成像操作，即圖像信號的電荷存儲操作和讀取操作，由圖像處理電路(DSP)41控制，以便在DSP41中對拍攝期間由成像裝置16產(chǎn)生的圖像信號進(jìn)行預(yù)定圖像處理。存儲器42、卡接 口 43和監(jiān)視接口 44連接至DSP41。液晶顯示器驅(qū)動電路45連接至監(jiān)視接口 44，并且液晶顯示器(IXD) 46和背光47連接至液晶顯示器驅(qū)動電路45。被進(jìn)行圖像處理之后的圖像信號存儲在存儲器42中。其也可以記錄在連接至卡接口 43的卡存儲器(未示出)中，并且指示在IXD46上。圖2是第一實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程圖。在步驟101中，應(yīng)用操作構(gòu)件32設(shè)定拍攝條件，比如成像裝置16的感光度和快門速度(Tv)。當(dāng)快門按鈕被完全壓下時，執(zhí)行步驟102來啟動拍攝。在步驟103中，根據(jù)此時設(shè)定的拍攝條件，確定是否需要長曝光NR (S卩，降噪)過程。注意，拍攝條件包括曝光時間(或快門速度)、成像裝置16的感光度和成像裝置16的溫度。還需注意，長曝光NR過程是以超過十秒的曝光時間(例如，當(dāng)快門簾幕15被關(guān)閉時(即，暗曝光))執(zhí)行拍攝時，為從圖像信號去除由成像裝置16產(chǎn)生的暗電流導(dǎo)致的噪聲分量，而進(jìn)行的控制過程。即，噪聲分量是不能僅通過DSP41降低的像素缺陷，而應(yīng)該由長曝光NR過程校正。當(dāng)在步驟103中確定長曝光NR過程不是必要的時，執(zhí)行步驟104并且僅進(jìn)行主曝光。即，不執(zhí)行暗曝光，進(jìn)行正常拍攝。在步驟105中，從成像裝置16輸出圖像信號，并且在DSP41中對圖像信號進(jìn)行圖像處理，并因此完成拍攝。相反地，當(dāng)在步驟103中確定需要長曝光NR過程時，程序進(jìn)行到步驟106，在步驟106中進(jìn)行主曝光，使孔徑光闌13的開放程度最小化，并且執(zhí)行暗曝光。更具體地，主曝光之后，完全關(guān)閉快門簾幕15并且使孔徑光闌13的開放程度最小化，以便能夠檢測快門簾幕15被關(guān)閉時由成像裝置16產(chǎn)生的噪聲分量的圖像信號并將該圖像信號輸出至DSP41。注意，盡管暗曝光時間可能與主曝光的曝光時間相同，但是可能的是，暗曝光比主曝光短，并且可以通過計算得到對應(yīng)于主曝光時間的噪聲分量。在步驟107中，在DSP41中校正主曝光的圖像數(shù)據(jù)，其中從主曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的圖像數(shù)據(jù)(即，噪聲分量)。然后執(zhí)行步驟105來完成拍攝。圖3是第一實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖。在步驟201中，通過應(yīng)用操作構(gòu)件32設(shè)定成像裝置16的感光度。當(dāng)快門按鈕被完全壓下時，執(zhí)行步驟202來啟動拍攝或?qū)崿F(xiàn)主曝光。只要用戶持續(xù)壓下快門按鈕，主曝光就持續(xù)，并且當(dāng)釋放快門按鈕時，在步驟203結(jié)束主曝光。在步驟204中，根據(jù)拍攝條件，確定是否需要長曝光NR過程。在該步驟中，如果主曝光時間超過預(yù)定值，長曝光NR過程一定是必要的。即，與圖2中示出的正常拍攝模式不同，僅根據(jù)成像裝置16的曝光時間確定是否執(zhí)行暗曝光。當(dāng)確定不需要長曝光NR過程時，控制例程進(jìn)行到步驟205，在步驟205中，從成像裝置16輸出圖像信號，并且在DSP41中執(zhí)行圖像處理，以結(jié)束拍攝操作。相反地，當(dāng)在步驟204中確定長曝光NR過程是必要的時，控制例程進(jìn)行到步驟206，在步驟206中，使孔徑光闌13的開放程度最小化，并且執(zhí)行暗曝光。暗曝光期間由成像裝置16產(chǎn)生的圖像信號被檢測并被輸出至DSP41。在步驟207中，在DSP41中校正主曝光的圖像數(shù)據(jù)，其中從主曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的圖像數(shù)據(jù)。然后執(zhí)行步驟205來完成拍攝。如上所述，在圖2中示出的正常曝光中，根據(jù)成像裝置16的曝光時間、成像裝置16的感光度和成像裝置16的溫度，確定是否執(zhí)行長曝光NR過程。相反地，在圖3中示出的B擋拍攝模式中，僅根據(jù)成像裝置16的曝光時間在步驟204中確定是否執(zhí)行長曝光NR過程。

曝光時間是確定長曝光NR過程的必要性的主要因素，然后是成像裝置16的感光度和溫度，感光度和溫度較曝光時間次要。支配長曝光NR過程的必要性的參數(shù)以表格的格式存儲在設(shè)置在相機中的存儲器中。表格的內(nèi)容布置成使得，即使當(dāng)曝光時間超過30秒時，仍然進(jìn)行長曝光NR過程，而不管感光度和溫度，但是也每當(dāng)溫度上升時進(jìn)行長曝光NR過程，即使在感光度恒定并且曝光時間少于30秒的條件下。如上所述，在第一實施方式中，由于在暗曝光中使孔徑光闌13的開放程度最小化，即當(dāng)執(zhí)行長曝光NR時，即使光從相機的后面進(jìn)入，幾乎所有的光也被孔徑光闌13阻斷，并且通過關(guān)閉的快門簾幕15到達(dá)成像裝置16的光的量顯著減少。這種效果在無反射鏡型相機中尤其顯著，并且通過長曝光拍攝獲得的拍攝的圖像的質(zhì)量顯著改善。圖4是第二實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程圖。在步驟301中，通過應(yīng)用操作構(gòu)件32來設(shè)定拍攝條件，比如成像裝置16的感光度和快門速度(Tv)。當(dāng)快門按鈕被完全壓下時，執(zhí)行步驟302來啟動拍攝。在步驟303中，根據(jù)拍攝條件，確定是否需要長曝光NR。當(dāng)在步驟303中確定不需要長曝光NR時，執(zhí)行步驟304以僅進(jìn)行主曝光。在步驟305中，從成像裝置16輸出圖像信號，并且在DSP41中對圖像信號進(jìn)行圖像處理，并因此完成拍攝。相反地，當(dāng)在步驟303中確定長曝光NR是必要的時，控制例程進(jìn)行到步驟306，在步驟306中，確定成像裝置16的感光度是否高于預(yù)定值(例如，IS01600)。當(dāng)成像裝置16的感光度小于或等于預(yù)定值時，即當(dāng)感光度相對較低時，由成像裝置16產(chǎn)生的暗電流一定相對較低，并且控制例程進(jìn)行到步驟307，在步驟307中，進(jìn)行主曝光，然后執(zhí)行暗曝光，同時保持孔徑光闌13的開放程度。在步驟308中，在DSP41中從主曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的圖像數(shù)據(jù)。然后執(zhí)行步驟305來完成拍攝。當(dāng)在步驟306中確定成像裝置16的感光度高于預(yù)定值時，控制例程進(jìn)行到步驟309，在步驟309中，進(jìn)行主曝光，使孔徑光闌13的開放程度最小化，并執(zhí)行暗曝光。然后執(zhí)行步驟308和305，并且結(jié)束拍攝。與第一實施方式類似的是，盡管暗曝光時間可能與主曝光的曝光時間相同，但是可能的是，暗曝光時間比主曝光的曝光時間短，并且可以通過計算得到對應(yīng)于主曝光的曝光時間的噪聲分量。圖5是第二實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖。在步驟401中，通過應(yīng)用操作構(gòu)件32設(shè)定成像裝置16的感光度，并且當(dāng)快門按鈕被完全壓下時，控制例程進(jìn)行到步驟402，在步驟402中拍攝以主曝光開始。當(dāng)快門按鈕被釋放時，控制例程進(jìn)行到步驟403，在步驟403中，主曝光結(jié)束。在步驟404中，根據(jù)拍攝條件(即主曝光的曝光時間)，確定是否需要長曝光NR。當(dāng)曝光時間相對較短并且確定長曝光NR不是必要的時，控制例程進(jìn)行到步驟405，在步驟405中，從成像裝置16輸出圖像信號，并且在DSP41中執(zhí)行圖像處理，以結(jié)束拍攝。當(dāng)在步驟404中確定需要長曝光NR時，控制例程進(jìn)行到步驟406，在步驟406中，確定成像裝置16的感光度是否大于預(yù)定值(例如，IS01600)。當(dāng)成像裝置16的感光度小于或等于預(yù)定值時，由成像裝置16產(chǎn)生的暗電流一定相對較低，并且控制例程進(jìn)行到步驟407，在步驟407中，執(zhí)行暗曝光，同時保持針對主曝光設(shè)定的孔徑光闌13的開放程度。然后控制例程進(jìn)行到步驟408和405，以完成拍攝。相反地，當(dāng)在步驟406中確定成像裝置16的感光度高于預(yù)定值時，控制例程進(jìn)行到步驟409，在步驟409中，使孔徑光闌13的開放程度最小化，并執(zhí)行暗曝光。同時，由成像裝置16產(chǎn)生的圖像信號被檢測并被輸出至DSP41?？刂评踢M(jìn)行到步驟408和405并且拍攝結(jié)束。`如上所述，在第二實施方式中，在步驟306和步驟406中檢查成像裝置16的感光度的值。當(dāng)成像裝置16的感光度相對較高時，通過快門簾幕15泄露的光的量一定在成像裝置16中產(chǎn)生足夠大以影響圖像質(zhì)量的暗電流，并因此使孔徑光闌13的開放程度最小化。換句話說，當(dāng)成像裝置16的感光度相對較低時，使孔徑光闌13的開放程度保持在與主曝光的開放程度相同的程度，從而使得驅(qū)動孔徑光闌13的頻率降低。其他的操作和效果與第一實施方式相同。圖6是第三實施方式中的正常拍攝模式的控制例程的流程圖。步驟501-505與圖4中示出的第二實施方式中的步驟301-305相同。當(dāng)在步驟503中確定需要長曝光NR時，控制例程進(jìn)行到步驟506，在步驟506中，確定是否執(zhí)行分離曝光(separate exposure)。分離曝光是通過電子劃分曝光時間來執(zhí)行的成像裝置16的曝光。例如,單一(single)曝光時間設(shè)定為10秒,并且每當(dāng)完成單一曝光就從成像裝置16輸出電荷信號。根據(jù)成像裝置16的曝光時間、成像裝置16的感光度和成像裝置16的溫度確定分離曝光的必要性。例如，采用包含感光度和溫度的預(yù)定計算公式設(shè)定曝光時間的閾值，并且然后能夠采用閾值確定是否需要分離曝光。 當(dāng)在步驟506中確定不需要分離曝光時，控制例程進(jìn)行到步驟507，在步驟507中，進(jìn)行主曝光，并且然后執(zhí)行暗曝光，同時保持孔徑光闌13的開放程度。在步驟508中，在DSP41中從主曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的圖像數(shù)據(jù)。然后控制例程進(jìn)行到步驟505，以完成拍攝。當(dāng)在步驟506中確定需要分離曝光時，控制例程進(jìn)行到步驟511，在步驟511中，以分離曝光模式進(jìn)行主曝光。盡管將通過將曝光時間劃分與主曝光相同的數(shù)量以分離曝光模式執(zhí)行暗曝光，但是僅在步驟511中執(zhí)行一次暗曝光的分離曝光。以分離曝光模式的暗曝光的曝光時間比以分離曝光模式的主曝光的曝光時間短，并且通過計算得到對應(yīng)于主曝光中的一個分離曝光的圖像數(shù)據(jù)(即，噪聲分量)。在步驟512中，在DSP41中檢查對應(yīng)于以分離曝光模式第一次在步驟511中執(zhí)行的暗曝光的圖像數(shù)據(jù)，以確定光是否泄漏到成像裝置16上。更具體地，當(dāng)像素的數(shù)量(其中，像素值超過預(yù)定閾值)大于預(yù)定值時，確定光泄漏到成像裝置16上。當(dāng)在步驟512中確定光未泄漏到成像裝置16上時，控制例程進(jìn)行到步驟513，在步驟513中，以分離曝光模式進(jìn)行暗曝光，直到分離曝光的數(shù)量變得與主曝光的相同為止。在步驟508中，從主曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的圖像數(shù)據(jù)，并且基于對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行減法運算。例如，從主曝光的第二分離曝光的圖像數(shù)據(jù)中減去暗曝光的第二分離曝光的圖像數(shù)據(jù)。然后控制例程進(jìn)行到步驟505，以結(jié)束拍攝。相反地，當(dāng)在步驟512中確定光泄漏到成像裝置16上時，控制例程進(jìn)行到步驟514，在步驟514中，使孔徑光闌13的開放程度最小化，以匹配來自以分離曝光模式的第二暗曝光的最小開放程度。然后控制例程依次進(jìn)行到步驟513、508和505，以結(jié)束拍攝。圖7是第三實施方式中的B擋拍攝模式的控制例程的流程圖。在步驟601中，通過采用操作構(gòu)件32設(shè)定成像裝置16的感光度，并且當(dāng)快門按鈕被完全壓下時，控制例程進(jìn)行到步驟602以啟動拍攝。在步驟603中，確定是否曝光時間超過執(zhí)行分離曝光需要的時間。因為僅根據(jù)成像裝置16的曝光時間確定是否需要分離曝光，所以步驟603與第二實施方式的步驟506不同。例如，確定的參考值是30秒。當(dāng)曝光時間小于或等于參考值時，控制例程進(jìn)行到步驟604，在步驟604中，確定主曝光是否完成。相反地，當(dāng)主曝光未完成時，控制例程返回到步驟603。即，當(dāng)進(jìn)行B擋拍攝時，控制例程反復(fù)返回到步驟603和604，其反復(fù)執(zhí)行，直到在步驟604中確定主曝光結(jié)束為止，然后控制例程進(jìn)行到步驟605，在步驟605中，根據(jù)拍攝條件確定是否需要長曝光NR。當(dāng)確定長曝光NR不必要時，控制例程進(jìn)行到步驟606，在步驟606中，從成像裝置16輸出圖像信號，并且在DSP41中對圖像信號進(jìn)行圖像處理，以結(jié)束拍攝。當(dāng)在步驟605中根據(jù)拍攝條件(比如，曝光時間、感光度、溫度等等)確定不需要長曝光NR時，控制例程進(jìn)行到步驟607，在步驟607中，執(zhí)行暗曝光，同時保持針對主曝光的孔徑光闌13的開放程度?？刂评踢M(jìn)行到步驟608和606，以結(jié)束拍攝。當(dāng)在步驟603中確定曝光時間超過參考值時，控制例程進(jìn)行到步驟611，在步驟611中，開始分離曝光。即，持續(xù)進(jìn)行主曝光，并且持續(xù)執(zhí)行步驟611，同時持續(xù)壓下快門按鈕。當(dāng)快門按鈕被釋放時，控制例程進(jìn)行到步驟612，在步驟612中，以分離曝光模式開始暗曝光。即，在B擋拍攝模式中，當(dāng)需要分離曝光時，應(yīng)該進(jìn)行長曝光NR。另一方面，通過將曝光時間劃分與主曝光相同的數(shù)量以B擋拍攝模式執(zhí)行暗曝光，但是與圖6的步驟511類似，僅在步驟612中進(jìn)行一次暗曝光的分離曝光。暗曝光的分離曝光的時間比主曝光的時間短，并且以與步驟511類似的方式通過計算得到暗曝光的圖像數(shù)據(jù)。在步驟613中，以與步驟512類似的方式，在DSP41中檢查對應(yīng)于以分離曝光模式第一次在步驟612中執(zhí)行的暗曝光的圖像數(shù)據(jù)，以確定光是否泄漏到成像裝置16上。當(dāng)在步驟613中確定光未泄漏到成像裝置16上時，控制例程進(jìn)行到步驟614，在步驟614中，以分離曝光模式進(jìn)行暗曝光，直到分離曝光的數(shù)量變得與主曝光的相同為止。然后控制例程依次進(jìn)行到步驟608和606，以結(jié)束拍攝。相反地，當(dāng)在步驟613中確定光泄漏到成像裝置16上時，控制例程進(jìn)行到步驟615，在步驟615中，使孔徑光闌13的開放程度最小化，以匹配來自以分離曝光模式的第二暗曝光的最小開放程度。控制例程依次進(jìn)行到步驟614、608和606，以結(jié)束拍攝。如上所述，根據(jù)第三實施方式，與第一和第二實施方式類似，能夠限制泄漏到成像裝置16上的光，以便改善通過暗曝光控制過程最終獲得的所拍攝圖像的圖像質(zhì)量。注意，在步驟512和613中，根據(jù)暗曝光中的第一分離曝光中光泄露的確定結(jié)果，確定是否使孔徑光闌13的開放程度最小化，可以使孔徑光闌13的開放程度最小化而不管是否存在泄露的光。另外，盡管在步驟513和614中利用通過暗曝光中的第一分離曝光獲得的圖像數(shù)據(jù)，但是可能的是，當(dāng)光泄漏到成像裝置16上時，刪除第一分離曝光的圖像數(shù)據(jù)，并且使孔徑光闌13的開放程度最小化以重新獲得第一分離曝光的圖像數(shù)據(jù)。而且，盡管在第一到第三實施方式中使孔徑光闌13的開放程度最小化，但是本發(fā)明不限制于該操作。例如，可以使孔徑光闌13的開放空間少于對主曝光設(shè)定的開放空間的一半，或可以使孔徑光闌13的開放空間減少多于對主曝光設(shè)定的開放程度。

盡管本文已經(jīng)參考附圖描述了本發(fā)明的實施方式，但是顯然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以做出許多修改和改變，而不脫離本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種暗曝光控制裝置，所述暗曝光控制裝置設(shè)置在具有成像裝置和控制所述成像裝置的曝光的快門的相機中，所述暗曝光控制裝置包括: 暗曝光執(zhí)行處理器，所述暗曝光執(zhí)行處理器檢測當(dāng)所述快門被關(guān)閉時所述成像裝置產(chǎn)生的圖像信號； 孔徑光闌，所述孔徑光闌調(diào)節(jié)入射在所述成像裝置上的光的量；以及 孔徑光闌驅(qū)動處理器，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器調(diào)節(jié)所述孔徑光闌的開放程度，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器降低當(dāng)所述暗曝光執(zhí)行處理器被操作時所述孔徑光闌的開放程度，使所述孔徑光闌的開放程度小于針對主曝光設(shè)定的開放程度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，其中，當(dāng)所述暗曝光執(zhí)行處理器被操作時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器減少所述孔徑光闌的開放空間，使所述孔徑光闌的開放空間小于針對主曝光設(shè)定的開放空間的一半。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，其中，當(dāng)所述暗曝光執(zhí)行處理器被操作時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器使所述孔徑光闌的開放程度最小化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，還包括第一暗曝光確定處理器，其根據(jù)所述成像裝置的曝光時間、所述成像裝置的感光度和所述成像裝置的溫度，確定是否操作所述暗曝光執(zhí)行處理器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的暗 曝光控制裝置，其中，當(dāng)所述第一暗曝光確定處理器確定所述成像裝置的感光度高于預(yù)定值時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器減少所述孔徑光闌的開放程度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，還包括第二暗曝光確定處理器，其僅根據(jù)所述成像裝置的曝光時間，確定是否操作所述暗曝光執(zhí)行處理器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，還包括第一分離曝光確定處理器，其確定是否應(yīng)該以分離曝光模式執(zhí)行主曝光，其中，在分離曝光模式中，通過根據(jù)所述成像裝置的曝光時間、所述成像裝置的感光度和所述成像裝置的溫度電子劃分曝光時間來執(zhí)行曝光，當(dāng)所述第一分離曝光確定處理器確定應(yīng)該以所述分離曝光模式執(zhí)行主曝光時，所述暗曝光執(zhí)行處理器通過將曝光時間劃分與主曝光相同的數(shù)量以所述分離曝光模式執(zhí)行暗曝光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的暗曝光控制裝置，其中，當(dāng)以所述分離曝光模式執(zhí)行所述暗曝光時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器使所述孔徑光闌的開放程度最小化。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的暗曝光控制裝置，進(jìn)一步包括泄露光檢測處理器，其確定當(dāng)以所述分離曝光模式第一次執(zhí)行所述暗曝光時光是否泄漏到所述成像裝置上，當(dāng)所述泄露光檢測處理器確定光泄漏到所述成像裝置上時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器從以所述分離曝光模式的第二暗曝光開始使所述孔徑光闌的開放程度最小化到最小開放程度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗曝光控制裝置，進(jìn)一步包括第二分離曝光確定處理器，其確定是否應(yīng)該以分離曝光模式執(zhí)行主曝光，其中，在分離曝光模式中，通過僅根據(jù)所述成像裝置的曝光時間電子劃分曝光時間來執(zhí)行曝光，當(dāng)所述第二分離曝光確定處理器確定應(yīng)該以所述分離曝光模式執(zhí)行主曝光時，所述暗曝光執(zhí)行處理器通過將曝光時間劃分與主曝光相同的數(shù)量以所述分離曝光模式執(zhí)行暗曝光。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的暗曝光控制裝置，其中，當(dāng)以所述分離曝光模式執(zhí)行所述暗曝光時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器使所述孔徑光闌的開放程度最小化。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的暗曝光控制裝置，進(jìn)一步包括泄露光檢測處理器，其確定當(dāng)以所述分離曝光模式第一次執(zhí)行所述暗曝光時，光是否泄漏到所述成像裝置上，當(dāng)所述泄露光檢測處理器確定光泄漏到所述成像裝置上時，所述孔徑光闌驅(qū)動處理器在第一分離曝光之后使所述孔 徑光闌的開放程度最小化。
全文摘要
一種暗曝光控制裝置，該裝置包括暗曝光執(zhí)行處理器、孔徑光闌和孔徑光闌驅(qū)動處理器。暗曝光執(zhí)行處理器檢測當(dāng)快門被關(guān)閉時成像裝置產(chǎn)生的圖像信號?？讖焦怅@調(diào)節(jié)入射在成像裝置上的光的量?？讖焦怅@驅(qū)動處理器調(diào)節(jié)當(dāng)暗曝光執(zhí)行處理器被操作時孔徑光闌的開放程度，使其小于針對主曝光設(shè)定的開放程度。
文檔編號H04N5/361GK103248835SQ20131004570
公開日2013年8月14日 申請日期2013年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月8日
發(fā)明者朝倉直人, 木村吉孝, 小迫幸圣 申請人:賓得理光映像有限公司