遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層及其制造方法、電加熱盤和烹飪器具的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層及其制造方法、電加熱盤和烹飪器具，其中，采用包含二氧化錳、三氧化二鎳和三氧化二鉻的混合物在高溫500～600度絕緣基體的表面經(jīng)處理工藝制成遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，而后使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和絕緣基體再經(jīng)退火成膜工藝處理來使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在絕緣基體上。本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法簡(jiǎn)單、操作方便，制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，可降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求。
【專利說明】
遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層及其制造方法、電加熱盤和烹飪器具
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及家電領(lǐng)域，更具體而言，涉及一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法、一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層、一種電加熱盤和一種烹飪器具。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，國(guó)內(nèi)外電熱電器產(chǎn)品(如電磁爐、電飯煲等烹飪器具)基本上都是采用傳統(tǒng)的電烙絲加熱技術(shù)和電磁加熱技術(shù)，然而，該技術(shù)的電-熱轉(zhuǎn)換能效比較低，不能完全滿足國(guó)家節(jié)能環(huán)保要求，造成了大量的能源浪費(fèi)。
[0003]因此，如何提高電熱電器產(chǎn)品的電-熱轉(zhuǎn)換能效比來提高能源的利用率，使其更好地滿足于國(guó)家節(jié)能環(huán)保的要求是本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)前亟需解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。
[0005]為此，本發(fā)明提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，采用該方法制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用可提高電-熱轉(zhuǎn)換能效比，實(shí)現(xiàn)了節(jié)能的目的，更好地符合國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求，其實(shí)用性顯著。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明一個(gè)方面的實(shí)施例提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，采用包含二氧化錳、三氧化二鎳和三氧化二鉻的混合物在絕緣基體的表面經(jīng)處理工藝制成遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，而后使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和絕緣基體再經(jīng)退火成膜工藝處理來使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在所述絕緣基體上。
[0007]本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法簡(jiǎn)單、操作方便，制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，可降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求。
[0008]另外，本發(fā)明上述實(shí)施例提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法還具有如下附加的技術(shù)特征:
[0009]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為54?62:15?23:19?27，可以提高遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的光譜發(fā)射率和熱輻射效率，其實(shí)用性更好。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量百分比為58:19:23，采用該參數(shù)制備的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用，其光譜發(fā)射率和熱輻射效率好，熱利用率高，其熱利用率可達(dá)到96%以上。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理工藝包括蒸鍍工藝、沉積工藝、噴涂工藝中的至少一種。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述處理工藝包括磨料工藝、煅燒工藝、噴涂工藝和干燥工藝。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述退火成膜工藝的處理溫度為500?600度，所述退火成膜工藝的處理時(shí)間為15?25min ;采用上述參數(shù)制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的穩(wěn)定性和電性能好、熱利用率尚。
[0014]本發(fā)明第二方面的實(shí)施例提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層采用上述任一實(shí)施例所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法制成。
[0015]本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用，可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，并降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求，其制成的烹飪器具實(shí)用性更顯著。
[0016]本發(fā)明第三方面的實(shí)施例提供了一種電加熱盤，包括:盤體；和熱膜層，附設(shè)在所述盤體上；其中，所述熱膜層包括電熱膜層和上述實(shí)施例所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層。
[0017]本發(fā)明提供的電加熱盤，熱膜層在使用過程中將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)鍋具溫度的迅速提高，并降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，其熱效率可以達(dá)到96%以上，達(dá)到了節(jié)能的目的，同時(shí)滿足國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求，其制成的烹飪器具實(shí)用性更顯著。
[0018]另外，本發(fā)明上述實(shí)施例提供的電加熱盤還具有如下附加的技術(shù)特征:
[0019]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述盤體包括:上盤體，所述電熱膜層附設(shè)在所述上盤體的下盤面上，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在所述電熱膜層的下膜面上；和下盤體，位于所述上盤體的下方、并與所述上盤體相組裝；以更好地利用熱能，快速加熱放置于下盤體上盤面上的鍋體。
[0020]當(dāng)然，熱膜層也可附設(shè)在上盤體的上盤面上，或者是附設(shè)在下盤體的上盤面或下盤面上等；均可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，其宗旨未脫離本發(fā)明的設(shè)計(jì)思想，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0021]遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層也可附設(shè)在上盤體的下盤面上，電熱膜層附設(shè)在遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的下層面上；也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，其宗旨未脫離本發(fā)明的設(shè)計(jì)思想，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述電加熱盤還包括:電極膜，所述電極膜附設(shè)于所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和所述電熱膜層之間；和電極，安裝在所述下盤體的上盤面，且所述電極的上端與所述電極膜相電連接、下端穿過所述下盤體而向下伸出而與供電源相連接，通過所述供電源來向所述電熱膜層供電；也可以是通過所述供電源來向所述電熱膜層和所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層供電。
[0023]當(dāng)然，也可將電極膜替換成電源線等導(dǎo)電體，也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述下盤體的上盤面上具有階梯孔，所述電極的下端穿過所述階梯孔而向下伸出，所述電極的上端支撐在所述階梯孔的階梯面上；其中，所述電極的上端與所述階梯孔的階梯面之間設(shè)置有彈簧，所述彈簧支撐所述電極的上端、以使其壓緊在所述電極膜上，避免電極與電極膜之間出現(xiàn)虛接觸的問題，其實(shí)電連接性能更好。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述熱膜層呈環(huán)形狀，所述電極膜、所述電極和所述階梯孔均包括對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)，且兩個(gè)所述電極膜的內(nèi)端位于所述熱膜層的內(nèi)邊處、外端位于所述熱膜層的外邊處，兩所述電極的上端面對(duì)應(yīng)壓緊在兩所述電極膜的外邊處，以利用整個(gè)電熱膜層來通電工作，實(shí)現(xiàn)其最大化利用。
[0026]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述上盤體為玻璃載體，所述下盤體為陶瓷載體。
[0027]也可以是:所述下盤體為玻璃載體，所述上盤體為陶瓷載體；也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，兩所述電極膜通過掩膜濺射工藝制成，且其厚度均為3?10 μπι ;所述熱膜層按內(nèi)邊處0.5um厚度到外邊處1.5um厚度的一次函數(shù)變化規(guī)律進(jìn)行噴涂，且每平方厘米的噴涂功率為3?5瓦，以免影響加熱面溫度不均衡的問題。
[0029]且合金薄膜的電極膜與電極的上端面的連接處，總電流及所能承受的工作電流密度應(yīng)大于或等于電熱膜層總功率的3.0倍以上；階梯面以上的電極上部的厚度為1.0毫米，在通過彈簧彈力作用下，使彈簧頂起電極與電極膜的緊密接觸，實(shí)現(xiàn)電極與電極膜的接觸連接，電極的下端再與供電源緊密連接在一起，這樣就可提高(納米遠(yuǎn)紅外)電加熱盤電源連接的安全性、穩(wěn)定性和可靠性問題。
[0030]該條件下制備的電熱膜層的電阻率達(dá)4X10 4Ω.cm，可見光透過率高于90%，功率密度平均可達(dá)32W/cm2，保證了遠(yuǎn)紅外電熱盤功率穩(wěn)定性和可靠性。
[0031]其中，本申請(qǐng)的電加熱盤為納米遠(yuǎn)紅外式的電加熱盤，S卩:電熱膜層為納米遠(yuǎn)紅外式的電熱膜層。
[0032]本發(fā)明第四方面的實(shí)施例提供了一種烹飪器具，包括有上述任一實(shí)施例所述的電加熱盤。
[0033]其中，所述烹飪器具包括電磁爐、電飯煲和電壓力鍋等，且所述烹飪器具具備上述任一實(shí)施例的全部?jī)?yōu)點(diǎn)，在此不再贅述。
[0034]本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述部分中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
【附圖說明】
[0035]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0036]圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所述的電加熱盤的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖2是圖1所示的電加熱盤的部分分解結(jié)構(gòu)示意圖，其中，電熱膜層附設(shè)在上盤體的下盤面上。
[0038]其中，圖1和圖2中附圖標(biāo)記與部件名稱之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:
[0039]I遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，2上盤體，3下盤體，4電極膜，5電極，6階梯孔，7彈簧。
【具體實(shí)施方式】
[0040]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0041]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是，本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的方式來實(shí)施，因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。
[0042]下面結(jié)合附圖描述本發(fā)明一些實(shí)施例所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法。
[0043]本發(fā)明第一個(gè)方面的實(shí)施例提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，采用包含二氧化錳、三氧化二鎳和三氧化二鉻的混合物在絕緣基體的表面經(jīng)處理工藝制成遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，而后使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和絕緣基體再經(jīng)退火成膜工藝處理來使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在所述絕緣基體上。
[0044]本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法簡(jiǎn)單、操作方便，制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，可降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求。
[0045]采用此方法制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，在與電熱膜層配合使用時(shí)，其整體阻抗隨溫度的升高而膜阻降低，能夠有效提高遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和電熱膜層膜阻的穩(wěn)定性，從而解決該遠(yuǎn)紅外電熱膜層和電熱膜層功率穩(wěn)定性問題。
[0046]另外，本發(fā)明上述實(shí)施例提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法還具有如下附加的技術(shù)特征:
[0047]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為54?62:15?23:19?27，可以提高遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的光譜發(fā)射率和熱輻射效率，其實(shí)用性更好。
[0048]優(yōu)選地，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量百分比為58:19:23，采用該參數(shù)制備的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用，其光譜發(fā)射率和熱輻射效率好，熱利用率高，其熱利用率可達(dá)到96%以上。
[0049]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述處理工藝包括蒸鍍工藝、沉積工藝、噴涂工藝中的至少一種。
[0050]具體地，所述處理工藝包括磨料工藝、煅燒工藝、噴涂工藝和干燥工藝，制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層穩(wěn)定性和電性能均較好。
[0051]另外，所述退火成膜工藝的處理溫度為500?600度，所述退火成膜工藝的處理時(shí)間為15?25min ;采用上述參數(shù)制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的穩(wěn)定性和電性能好、熱利用率高。
[0052]本發(fā)明的第一個(gè)具體實(shí)施例中，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為54:15:19，所述退火成膜工藝的處理溫度為500度、處理時(shí)間為15min，分別采用噴涂法、沉積法和蒸鍍法制備電熱膜層。
[0053]本發(fā)明的第二個(gè)具體實(shí)施例中，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為62:23:27，所述退火成膜工藝的處理溫度為600度、處理時(shí)間為25min，分別采用噴涂法、沉積法和蒸鍍法制備電熱膜層。
[0054]本發(fā)明的第三個(gè)具體實(shí)施例中，所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為58:19:23，所述退火成膜工藝的處理溫度為550度、處理時(shí)間為20min，分別采用噴涂法、沉積法和蒸鍍法制備電熱膜層。
[0055]采用上述三種方法制備的電熱膜層，均可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，并降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，其能效利用率均高達(dá)90%以上。
[0056]本發(fā)明第二方面的實(shí)施例提供了一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層采用上述任一實(shí)施例所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法制成。
[0057]本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用，可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，并降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求，其制成的烹飪器具實(shí)用性更顯著。
[0058]本發(fā)明第三方面的實(shí)施例提供了一種電加熱盤，如圖1和圖2所示，包括:盤體；和熱膜層，附設(shè)在所述盤體上；其中，所述熱膜層包括電熱膜層和上述實(shí)施例所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層。
[0059]本發(fā)明提供的電加熱盤，熱膜層在使用過程中將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)鍋具溫度的迅速提高，并降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，其熱效率可以達(dá)到96%以上，達(dá)到了節(jié)能的目的，同時(shí)滿足國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求，其制成的烹飪器具實(shí)用性更顯著。
[0060]采用此方法制成的電加熱盤，其熱膜層阻抗隨溫度的升高而膜阻降低，能夠有效提高熱膜層膜阻的穩(wěn)定性，從而解決該熱膜層功率穩(wěn)定性問題。
[0061]另外，本發(fā)明上述實(shí)施例提供的電加熱盤還具有如下附加的技術(shù)特征:
[0062]本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1和圖2所示，所述盤體包括:上盤體2，所述電熱膜層附設(shè)在所述上盤體2的下盤面上，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在所述電熱膜層的下膜面上；和先盤體3，位于所述上盤體2的下方、并與所述上盤體2相組裝；以更好地利用熱能，快速加熱放置于先盤體3上盤面上的鍋體。
[0063]當(dāng)然，熱膜層也可附設(shè)在上盤體2的上盤面上，或者是附設(shè)在先盤體3的上盤面或下盤面上等；均可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，其宗旨未脫離本發(fā)明的設(shè)計(jì)思想，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0064]遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層I也可附設(shè)在上盤體2的下盤面上，電熱膜層附設(shè)在遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層I的下層面上；也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，其宗旨未脫離本發(fā)明的設(shè)計(jì)思想，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本申請(qǐng)的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0065]進(jìn)一步地，如圖1和圖2所示，所述電加熱盤還包括:電極膜4，所述電極膜4附設(shè)于所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和所述電熱膜層之間；和電極5，安裝在所述先盤體3的上盤面，且所述電極5的上端與所述電極膜4相電連接、下端穿過所述先盤體3而向下伸出而與供電源相連接，通過所述供電源來向所述電熱膜層供電；也可以是通過所述供電源來向所述電熱膜層和所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層I供電。
[0066]當(dāng)然，也可將電極膜4替換成電源線等導(dǎo)電體，也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的，在此不再贅述，但應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0067]再進(jìn)一步地，如圖1和圖2所示，所述先盤體3的上盤面上具有階梯孔6，所述電極5的下端穿過所述階梯孔6而向下伸出，所述電極5的上端支撐在所述階梯孔6的階梯面上；其中，所述電極5的上端與所述階梯孔6的階梯面之間設(shè)置有彈簧7，所述彈簧7支撐所述電極5的上端、以使其壓緊在所述電極膜4上，避免電極5與電極膜4之間出現(xiàn)虛接觸的問題，其實(shí)電連接性能更好。
[0068]其中，所述熱膜層呈環(huán)形狀，所述電極膜4、所述電極5和所述階梯孔6均包括對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)，且兩個(gè)所述電極膜4的內(nèi)端位于所述熱膜層的內(nèi)邊處、外端位于所述熱膜層的外邊處，兩所述電極5的上端面對(duì)應(yīng)壓緊在兩所述電極膜4的外邊處，以利用整個(gè)電熱膜層來通電工作，實(shí)現(xiàn)其最大化利用。
[0069]另外，優(yōu)選地，所述上盤體2為玻璃載體，所述先盤體3為陶瓷載體。
[0070]也可以是:所述先盤體3為玻璃載體，所述上盤體2為陶瓷載體；也可實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)的目的。
[0071]具體地，兩所述電極5的上端的橫截面均呈8.0mm*10.0mm的橢圓形狀；兩所述電極膜4通過掩膜濺射工藝制成，且其厚度均為6.0 μ m、寬度為10.0mm、長(zhǎng)度為46.0?56.0mm ;所述熱膜層按內(nèi)邊處0.5um厚度到外邊處1.5um厚度的一次函數(shù)變化規(guī)律進(jìn)行噴涂，且每平方厘米的噴涂功率為3?5瓦，以免影響加熱面溫度不均衡的問題。
[0072]且合金薄膜的電極膜4與電極5的上端面的連接處，總電流及所能承受的工作電流密度應(yīng)大于或等于電熱膜層總功率的3.0倍以上；階梯面以上的電極5上部的厚度為
1.0毫米，在通過彈簧7彈力作用下，使彈簧7頂起電極5與電極膜4的緊密接觸，實(shí)現(xiàn)電極5與電極膜4的接觸連接，電極5的下端再與供電源緊密連接在一起，這樣就可提高(納米遠(yuǎn)紅外)電加熱盤電源連接的安全性、穩(wěn)定性和可靠性問題。
[0073]該條件下制備的電熱膜層的電阻率達(dá)4X10 4Ω.cm，可見光透過率高于90%，功率密度平均可達(dá)32W/cm2，保證了遠(yuǎn)紅外電熱盤功率穩(wěn)定性和可靠性。
[0074]其中，本申請(qǐng)的電加熱盤為納米遠(yuǎn)紅外式的電加熱盤，S卩:電熱膜層為納米遠(yuǎn)紅外式的電熱膜層。
[0075]本發(fā)明第四方面的實(shí)施例提供了一種烹飪器具，包括有上述任一實(shí)施例所述的電加熱盤。
[0076]其中，所述烹飪器具包括電磁爐、電飯煲和電壓力鍋等，且所述烹飪器具具備上述任一實(shí)施例的全部?jī)?yōu)點(diǎn)，在此不再贅述。
[0077]綜上所述，本發(fā)明提供的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法簡(jiǎn)單、操作方便，制成的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層與電熱膜層配合使用可將輻射熱能轉(zhuǎn)換成遠(yuǎn)紅外熱能，實(shí)現(xiàn)溫度的迅速提高，可降低排潮損失的溫度、增強(qiáng)被加熱能吸收的速度、減少熱能損失，從而有效提高輻射熱傳導(dǎo)效率，達(dá)到節(jié)能的目的，并使其更好地滿足于國(guó)家對(duì)于產(chǎn)品節(jié)能的要求。
[0078]在本發(fā)明的描述中，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等均應(yīng)做廣義理解，例如，“連接”可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。
[0079]在本說明書的描述中，術(shù)語“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“具體實(shí)施例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說明書中，對(duì)上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或?qū)嵗６?，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0080]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于，采用包含二氧化錳、三氧化二鎳和三氧化二鉻的混合物在絕緣基體的表面經(jīng)處理工藝制成遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，而后使所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和絕緣基體再經(jīng)退火成膜工藝處理。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于， 所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量比為54?62:15?23:19?27。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于， 所述二氧化錳、所述三氧化二鎳和所述三氧化二鉻的質(zhì)量百分比為58:19:23。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于， 所述處理工藝包括蒸鍍工藝、沉積工藝、噴涂工藝中的至少一種。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于， 所述處理工藝包括磨料工藝、煅燒工藝、噴涂工藝和干燥工藝。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法，其特征在于， 所述退火成膜工藝的處理溫度為500?600度，所述退火成膜工藝的處理時(shí)間為15?25min07.—種遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層，其特征在于，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層采用如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層的制造方法制成。8.一種電加熱盤，其特征在于，包括: 盤體；和 熱膜層，附設(shè)在所述盤體上； 其中，所述熱膜層包括電熱膜層和如權(quán)利要求7所述的遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電加熱盤，其特征在于，所述盤體包括: 上盤體，所述電熱膜層附設(shè)在所述上盤體的下盤面上，所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層附設(shè)在所述電熱膜層的下膜面上；和 下盤體，位于所述上盤體的下方、并與所述上盤體相組裝。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電加熱盤，其特征在于，還包括: 電極膜，所述電極膜附設(shè)于所述遠(yuǎn)紅外發(fā)射膜層和所述電熱膜層之間；和電極，安裝在所述下盤體的上盤面，且所述電極的上端與所述電極膜相電連接、下端穿過所述下盤體而向下伸出。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電加熱盤，其特征在于， 所述下盤體的上盤面上具有階梯孔，所述電極的下端穿過所述階梯孔而向下伸出，所述電極的上端支撐在所述階梯孔的階梯面上； 其中，所述電極的上端與所述階梯孔的階梯面之間設(shè)置有彈簧，所述彈簧支撐所述電極的上端、以使其壓緊在所述電極膜上。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電加熱盤，其特征在于， 所述熱膜層呈環(huán)形狀，所述電極膜、所述電極和所述階梯孔均包括對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)，且兩個(gè)所述電極膜的內(nèi)端位于所述熱膜層的內(nèi)邊處、外端位于所述熱膜層的外邊處，兩所述電極的上端面對(duì)應(yīng)壓緊在兩所述電極膜的外邊處。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電加熱盤，其特征在于， 所述上盤體為玻璃載體，所述下盤體為陶瓷載體。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電加熱盤，其特征在于， 兩所述電極膜通過掩膜濺射工藝制成，且其厚度均為3?10 μm所述熱膜層按內(nèi)邊處0.5um厚度到外邊處1.5um厚度的一次函數(shù)變化規(guī)律進(jìn)行噴涂，且每平方厘米的噴涂功率為3?5瓦。15.一種烹飪器具，其特征在于，包括有如權(quán)利要求8至14中任一項(xiàng)所述的電加熱盤。
【文檔編號(hào)】H05B3/26GK105992404SQ201510077182
【公開日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2015年2月11日
【發(fā)明人】尹善章, 房振, 王新元, 張建亮, 張貴林
【申請(qǐng)人】佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司, 美的集團(tuán)股份有限公司