1.一種生成由電子回旋共振(ECR)的場(chǎng)中的微波能激發(fā)的等離子體以執(zhí)行在絲狀部件(F)周圍的表面處理或涂覆的方法，根據(jù)所述方法，
-絲狀部件(F)被連續(xù)線性地移動(dòng)穿過(guò)彼此相對(duì)地并環(huán)繞構(gòu)成處理室的管(3)布置的磁偶極子(1)和(2)，
-所述微波能被引入到至少兩個(gè)磁偶極子(1)和(2)之間。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述表面處理具體是清潔、酸洗、功能化、接枝。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂覆通過(guò)PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)得到。
4.一種在被連續(xù)線性地驅(qū)動(dòng)的絲狀部件(F)周圍生成等離子體的設(shè)備，且該設(shè)備包括在回旋共振的場(chǎng)中的微波能的產(chǎn)生裝置，其中，所述設(shè)備包括由兩個(gè)磁偶極子(1)和(2)組成的至少一個(gè)模塊，所述兩個(gè)磁偶極子(1)和(2)彼此相對(duì)地布置并環(huán)繞構(gòu)成處理室的管(3)安裝，且待處理的所述絲狀部件(F)線性地移動(dòng)穿過(guò)所述兩個(gè)磁偶極子(1)和(2)，微波施加器被安裝在所述兩個(gè)偶極子之間。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述磁偶極子(1)和(2)是環(huán)形磁體。
6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述環(huán)形磁體是永磁體。
7.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述環(huán)形磁體是電磁體線圈。
8.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述微波施加器(4)被布置成垂直于所述管(3)的中心軸。
9.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述管(3)構(gòu)成三通管，中間分支(3a)接收所述微波施加器，而其它兩個(gè)分支(3b)和(3c)接收在所述中間分支(3a)兩側(cè)的所述磁體(1)和(2)。
10.如權(quán)利要求4到9中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備包括串聯(lián)地且線性對(duì)齊地安裝并由密封環(huán)(5)連接在一起的幾個(gè)模塊。
11.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，每個(gè)環(huán)(5)充當(dāng)被連接到氣體泵送收集器的泵送區(qū)。
12.如權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，可選地，所述環(huán)(5)充當(dāng)氣體泵送區(qū)并充當(dāng)氣體注入?yún)^(qū)。
13.如權(quán)利要求4到12中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所述絲狀部件(F)被電極化以允許所述等離子體的離子轟擊。