本申請要求在2014年2月28日提交的美國發(fā)明專利申請的權(quán)益，其通過引用的方式將其全文合并于此。

技術(shù)領(lǐng)域

公開的主題涉及一種用于極紫外光源的自適應(yīng)激光器系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

例如具有約50nm或更小波長(有時也稱作軟x射線)并且包括在約13nm波長下的光的極紫外(“EUV”)光可以用于光刻工藝以在例如硅晶片的襯底中產(chǎn)生極其細微的特征。

用于產(chǎn)生EUV光的方法包括但不限于，將具有在EUV范圍中的發(fā)射線的例如氙、鋰或錫元素的材料轉(zhuǎn)換為等離子體狀態(tài)。在通常稱作激光產(chǎn)生的等離子體(“LPP”)的一個這樣的方法中，所需的等離子體可以通過以能夠稱作驅(qū)動激光的放大光束照射靶材料而產(chǎn)生，該靶材料例如以材料的微滴、板片、條帶、束流或簇的形式出現(xiàn)。對于該工藝，等離子體通常在密封容器中產(chǎn)生，諸如真空腔室，并且使用各種類型度量設(shè)備監(jiān)控。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

在一個一般方面中，極紫外(EUV)光源包括產(chǎn)生放大光束的源，源包括兩個或更多光學放大器，每個包括位于光束路徑上的增益介質(zhì)，并且每個光學放大器被配置為在輸入端處接收沿著光束路徑傳播的輸入光束，并且在輸出端處發(fā)射輸出光束并發(fā)至光束路徑上；一個或多個自適應(yīng)光學元件，位于光束路徑上，自適應(yīng)光學元件為響應(yīng)于反饋信號可調(diào)節(jié)的；以及反饋系統(tǒng)，被耦合至一個或多個自適應(yīng)光學元件，反饋系統(tǒng)包括被定位以接收在光束路徑中傳播的輻射的傳感器，并且反饋系統(tǒng)被配置為基于由傳感器感測到的性質(zhì)而產(chǎn)生反饋信號；真空腔室；靶材料輸送系統(tǒng)，引導(dǎo)靶材料朝向在所述真空腔室的內(nèi)部的靶位置并且接收所述放大光束，靶材料包括當轉(zhuǎn)換至等離子體時發(fā)射極紫外光的材料；以及在所述真空腔室的內(nèi)部的收集器，收集器被定位以接收并引導(dǎo)所發(fā)射的極紫外光。

實施方式可以包括一個或多個以下特征。一個或多個自適應(yīng)光學元件可以包括，至少一個自適應(yīng)光學元件，其包括：包含在第一側(cè)處以及與第一側(cè)熱連通的第二側(cè)處的可變形反射表面的光學元件；流體路徑，包括與光學元件的第二側(cè)熱連通的第一管道，第一管道被配置為接收導(dǎo)熱流體；以及壓力路徑，包括與第一管道流體連通的第二管道并且具有被配置為從第一管道提供并移除壓力的壓力致動器。

一個或多個自適應(yīng)光學元件中的至少一個可以被定位在兩個或多個光學放大器中的兩個光學放大器之間的光束路徑上。

EUV光源也可以包括被定位在所述光學放大器的至少一個的輸出端處的空間濾波器。

至少一個自適應(yīng)光學元件可以響應(yīng)于反饋信號改變光束路徑的長度。

在另一一般方面中，用于保持用于產(chǎn)生極紫外光的放大光束的性質(zhì)的方法包括，將光學放大器定位在光束路徑上，光學放大器包括在光束路徑上的增益介質(zhì)；將自適應(yīng)光學元件定位在所述光束路徑上；從光學放大器發(fā)射與占空比相關(guān)聯(lián)的放大光束；確定放大光束的性質(zhì)；調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件以由此保持放大光束的性質(zhì)而不論放大光束占空比的改變；以及將所述放大光束提供至接收靶材料的靶位置以生成極紫外光。

實施方式可以包括一個或多個以下特征。調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件可以包括調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件的曲率半徑以進而調(diào)節(jié)放大光束的光束散度。

自適應(yīng)光學元件可以響應(yīng)于反饋信號而可調(diào)節(jié)，并且方法也可以包括基于所確定的放大光束的功率而生成反饋信號；以及向自適應(yīng)光學元件提供反饋信號。

確定放大光束的性質(zhì)可以包括以下中的一個或多個：測量放大光束的功率、確定光束大小、以及確定放大光束的束腰位置。

放大光束的性質(zhì)可以包括光束腰位置，并且調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件以保持光束腰位置包括調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件以改變光束路徑的長度。

放大光束的性質(zhì)可以在光學放大器的內(nèi)部的位置處確定。

放大光束可以在提供至靶位置之前提供至光束路徑上的第二光學放大器。

在另一一般方面中，用于極紫外(EUV)光源的系統(tǒng)包括光學放大器，其包括位于光束路徑上的增益介質(zhì)，光學放大器被配置為在輸入端處接收光束并且在輸出端處產(chǎn)生用于EUV光源的輸出光束；反饋系統(tǒng)，測量輸出光束的性質(zhì)并且基于所測量的性質(zhì)產(chǎn)生反饋信號；以及自適應(yīng)光學元件，被定位在光束路徑中并且被配置為接收反饋信號并且響應(yīng)于反饋信號而調(diào)節(jié)輸出光束的性質(zhì)。

實施方式可以包括一個或多個以下特征。反饋信號可以測量以下中的一個或多個：輸出光束的功率、輸出光束的形狀、以及輸出光束的大小。

系統(tǒng)也可以包括包含增益介質(zhì)的第二光學放大器，并且自適應(yīng)光學元件可以被定位在第二光學放大器與光學放大器之間。

自適應(yīng)光學元件可以包括可變半徑反射鏡(VRM)。

系統(tǒng)可以進一步包括第二自適應(yīng)光學元件，并且自適應(yīng)光學元件和第二自適應(yīng)光學元件中的每一個包括可變半徑反射鏡(VRM)。

系統(tǒng)也可以包括在光束路徑上并且在第二光學放大器與光學放大器之間的空間濾波器。

系統(tǒng)也可以包括真空腔室；靶材料輸送系統(tǒng)，引導(dǎo)靶材料朝向真空腔室中的靶位置，靶位置接收輸出光束，并且靶材料包括了當被轉(zhuǎn)換至等離子體時發(fā)射極紫外光的材料；以及收集器，接收并且引導(dǎo)發(fā)射的極紫外光。

性質(zhì)可以是輸出光束的光束腰的位置，并且自適應(yīng)光學元件是被配置為響應(yīng)于反饋信號改變光束路徑長度的光束路徑長度調(diào)節(jié)器。

以上所述任何技術(shù)的實施方式可以包括用于激光產(chǎn)生等離子體EUV光源的自適應(yīng)激光器系統(tǒng)，EUV光源，用于改型現(xiàn)有EUV光源的驅(qū)動激光器的自適應(yīng)元件，方法，過程，裝置，存儲在計算機可讀媒介上的可執(zhí)行指令，或者設(shè)備。在以下附圖和說明書中闡述一個或多個實施方式的細節(jié)。其他特征將通過說明書和附圖以及權(quán)利要求變得明顯。

附圖說明

圖1是示例性的激光產(chǎn)生等離子體極紫外(EUV)光源的方框圖。

圖2是用于EUV光源的示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖3是用于EUV光源的另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖4A和圖4B是用于EUV光源的示例性驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖5是用于保持放大光束性質(zhì)的示例性過程的流程圖。

圖6是示例性可變半徑反射鏡(VRM)的方框圖。

圖7是包括了圖6的VRM的用于EUV光源的示例性驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖8和圖9是包括一個或多個VRM的其他示例性驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖10是另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖11A是在壓縮狀態(tài)下示例性的光束路徑長度調(diào)節(jié)器的平視圖。

圖11B是在延展狀態(tài)下圖11A的光束路徑長度調(diào)節(jié)器的平視圖。

圖11C是沿著圖11A的線11C-11C獲取的圖11A的光束路徑調(diào)節(jié)器的剖視圖。

圖12是另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。

圖13是示例性的激光產(chǎn)生等離子體極紫外(EUV)光源的方框圖。

具體實施方式

公開了用于控制從光學放大器發(fā)射和/或輸入至光學放大器中的光束的光學性質(zhì)諸如光束散度的技術(shù)。

參照圖1，光學放大器106形成了用于驅(qū)動激光產(chǎn)生等離子體(LPP)極紫外(EUV)光源100的自適應(yīng)光學源105(驅(qū)動源或驅(qū)動激光器)的至少一部分。光學源105產(chǎn)生提供至靶位置130的放大光束110。靶位置130接收靶材料120諸如錫微滴，并且在放大光束110和靶材料120之間的相互作用產(chǎn)生了發(fā)射EUV光或輻射150的等離子體。光收集器155收集并且引導(dǎo)EUV光150朝向光學設(shè)備165諸如光刻工具。

光束輸送系統(tǒng)125可以包括使放大光束110在焦點位置145處聚焦的聚焦組件140。部件135可以包括光學元件，諸如透鏡和/或鏡面，其通過折射和/或反射而引導(dǎo)放大光束110。部件135也可以包括控制和/或移動部件135的元件。例如，部件135可以包括可控制以使得光束輸送系統(tǒng)125的光學元件移動的致動器。

放大光束110具有占空比，其是放大光束導(dǎo)通期間時間的一部分或百分比。在相對較高占空比(例如70％或更多的占空比)下操作EUV光源100可以導(dǎo)致產(chǎn)生更多EUV光。然而，在高占空比下，放大光束110的每脈沖能量以及在時間上的功率可以低于采用低占空比(例如低于70％的占空比)獲得的放大光束的結(jié)果。例如，在90％占空比下放大光束110的功率可以僅是具有相對較低占空比的放大光束功率的70％。

控制光束的光學性質(zhì)可以減輕該效應(yīng)。例如，光學源105可以包括設(shè)置作為放大器鏈(chain)的多個光學放大器106，每個放大器被定位以進一步放大前一個光學放大器的輸出。由后續(xù)光學放大器接收的光束具有光束大小(或光束寬度)，其是在垂直于光束傳播方向的平面中的光束截面的直徑，以及具有散度，其是光束寬度隨著光束遠離最小大小(光束腰)傳播而增大的度量。當被提供至鏈中后續(xù)光學放大器時，與比具有較大光束寬度的光束相比，具有相對較小光束寬度的光束與光學放大器的增益介質(zhì)的較小體積相互作用，導(dǎo)致較小放大并且較低功率的放大光束110。占空比的改變可以影響光束寬度和光束散度。例如，在高占空比下，由光學放大器106輸出的光束可以具有光束寬度，其比由在低占空比下光學放大器106輸出光束的光束寬度小大約20％。同樣地，控制從光學放大器發(fā)射的光束的散度或者控制光束腰的位置以在向后續(xù)放大器提供之前確保光束寬度足夠，這可以減輕在高占空比下的功率損失。

在此所公開的技術(shù)采用在光學源105中一個或多個自適應(yīng)光學元件108以控制光束的散度，和/或保持恒定、或近似恒定的光束寬度和束腰位置而不論占空比的變化。自適應(yīng)光學元件108可以放置在光學放大器106內(nèi)，在光學放大器106的輸出端處，或光學放大器106的輸入端處。

參照圖2，示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)205的方框圖。驅(qū)動激光器系統(tǒng)205產(chǎn)生引導(dǎo)朝向靶位置230的放大光束210。驅(qū)動激光器系統(tǒng)205可以用作光源100的驅(qū)動激光器系統(tǒng)105(圖1)。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)205包括光學放大器206，其包括增益介質(zhì)207，以及自適應(yīng)光學元件208。光學放大器206接收輸入光束204并且產(chǎn)生輸出光束。增益介質(zhì)207通過泵浦接收能量，并且向輸入光束204提供能量以放大輸入光束204以形成放大光束210。在圖2的示例中，放大光束210是輸出光束。

放大光束210具有帶有脈沖寬度214的脈沖212。在周期211期間，放大光束210對于等于脈沖寬度214的時間是導(dǎo)通的，并且放大光束210具有關(guān)斷時間213。放大光束210的占空比是在此期間光束導(dǎo)通的周期211的一部分(在該示例中脈沖寬度214)。在圖2的示例中，周期211包括一個脈沖212，然而，在其他示例中，周期211可以包括額外的脈沖。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)205也包括自適應(yīng)光學元件208。自適應(yīng)光學元件208是響應(yīng)于從反饋系統(tǒng)215接收反饋信號219而修改放大光束210的性質(zhì)的光學元件。自適應(yīng)光學元件208可以例如是可變半徑反射鏡(VRM)?？勺儼霃椒瓷溏R具有可變形反射表面，具有可變的曲率半徑。曲率半徑的存在引起入射在反射表面上光束散度的改變。散度改變的量取決于曲率半徑，其采用反饋系統(tǒng)215而可調(diào)節(jié)并可控制。以下參照圖8、圖9和圖12討論在自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)中使用VRM的示例。

在另一示例中，自適應(yīng)光學元件208可以是光束路徑長度調(diào)節(jié)器，其響應(yīng)于反饋信號219而增長或縮短在光學放大器206與驅(qū)動激光器系統(tǒng)205的其他元件之間的光學路徑。光學路徑長度的改變改變了在特定位置處的光束大小以及光束腰的位置。以該方式，光束路徑長度調(diào)節(jié)器修改放大光束210的性質(zhì)。以下參照圖10和圖12討論在自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)中光束路徑長度調(diào)節(jié)器的示例。

自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)205也包括反饋系統(tǒng)215。反饋系統(tǒng)215包括測量模塊216，電子存儲器217，以及電子處理器218。測量模塊216可以包括測量放大光束210的性質(zhì)的傳感器。性質(zhì)可以例如是放大光束210的能量或功率。來自測量模塊216的測量值可以用于確定性質(zhì)。例如，性質(zhì)可以是在時間量上的光束中的功率，光束散度，光束形狀，光束寬度，和/或光束腰位置。

所測量的性質(zhì)用于產(chǎn)生反饋信號219，其作用于自適應(yīng)光學元件208以引起對自適應(yīng)光學元件208的調(diào)節(jié)。例如，在包括VRM作為自適應(yīng)光學元件208的實施方式中，反饋信號219作用于自適應(yīng)光學元件208上以改變在可變形反射表面一側(cè)處的壓力，產(chǎn)生可變形反射表面形狀的對應(yīng)改變。因此，可變形反射表面調(diào)節(jié)到為反射光束提供特定散度的曲率半徑。

電子存儲器217存儲了當由電子處理器218執(zhí)行時允許測量模塊216例如收集數(shù)據(jù)并且確定光束性質(zhì)的指令。存儲裝置217也可以存儲由測量模塊216感測的數(shù)據(jù)，和/或用于檢索來自測量模塊216數(shù)據(jù)的指令。存儲裝置217是電子存儲器模塊，并且存儲裝置217可以是非易失性或持久性存儲器。存儲裝置217可以是易失性存儲器，諸如RAM。在一些實施方式中，存儲裝置217可以包括非易失性和易失性部分或部件。

處理器218可以是適用于執(zhí)行計算機程序的處理器，諸如通用或?qū)Ｓ梦⑻幚砥?，以及任何類型?shù)字計算機的任意一個或多個處理器。通常，處理器從只讀存儲器或隨機訪問存儲器或者兩者接收指令和數(shù)據(jù)。處理器218從反饋系統(tǒng)215的部件接收數(shù)據(jù)并且使用數(shù)據(jù)以例如確定光束210的性質(zhì)。在一些實施方式中，反饋系統(tǒng)215包括多于一個處理器。

圖3示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)305的方框圖。驅(qū)動激光器系統(tǒng)305向靶位置330提供放大光束310。靶位置330接收當被轉(zhuǎn)換為等離子體時發(fā)射EUV光的靶材料320。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)305包括兩個光學放大器306a和306b，以及自適應(yīng)光學元件308。光學放大器306a和306b分別包括輸入端309a、309b，輸出端311a和311b，以及增益介質(zhì)307a和307b。輸入端309a從光輸入315接收光束。當被激勵時，增益介質(zhì)307a、307b向傳播的光束提供能量以產(chǎn)生具有比輸入光學放大器的光束更大能量的放大光束。

增益介質(zhì)307a、307b和自適應(yīng)光學元件308放置在光學路徑313上。光學路徑313可以是在光輸入端315和輸出端311b之間路徑的全部或一部分，并且光學路徑315可以具有任何空間形式。在所示的示例中，自適應(yīng)光學元件308在光學路徑313上被定位在輸出端311a和輸入端309a之間。在該配置中，自適應(yīng)光學元件308可以例如調(diào)節(jié)在光束到達光學放大器306b的輸入端309b之前離開輸出端311a的光束的散度。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)305也包括位于光束路徑313上的空間濾波器317。空間濾波器317定義了光穿過的孔徑318。如參照圖8更詳細所述，空間濾波器317減小了反射至光學放大器306a的量。驅(qū)動激光器系統(tǒng)也可以包括反射元件319。反射元件319可以是鏡面。在一些實施方式中，光學元件319可以是自適應(yīng)光學元件。

也參照圖4A和圖4B，光輸入端315可以是反射元件，諸如鏡面415a(圖4A)或向輸入端309a提供激光束的分立激光器415b(圖4B)。如圖4A中所示，在一些實施方式中，光輸入端315是鏡面415a。在該實施方式中，驅(qū)動激光器系統(tǒng)305配置為所謂的“自瞄準”激光器系統(tǒng)400A，其中靶材料420用作光學空腔的一個鏡面。靶材料420可以類似于靶材料120(圖1)。在靶位置430處接收靶材料420。在一些“自瞄準”設(shè)置中，可以不需要主振蕩器。激光器系統(tǒng)400A包括具有增益介質(zhì)307a、307b的光學放大器306a、306b，如圖3中所示。光學放大器306a、306b可以具有它們自己的激勵源，例如泵浦電極。光學放大器306a、306b可以具有腔室，其可以是射頻(RF)泵浦的、快速軸向流、CO₂放大器腔室，其具有例如10³－10⁶的組合單向增益以用于放大例如10600nm波長λ的光。放大器腔室可以設(shè)計不具有激光空腔(諧振器)鏡面以使得當單獨設(shè)置時其并不包括使得放大光束310多于一次地穿過增益介質(zhì)所需的光學部件。然而，如上所述，可以如下而形成激光器空腔。

在該實施方式中，可以通過使用反射光學元件415a作為光輸入端315并且在靶位置430處放置靶材料420而形成激光器空腔。反射光學元件415a可以例如是平坦鏡面、彎曲鏡面、相位共軛鏡面、或?qū)τ诩s10600nm(如果使用CO₂放大器腔室則是放大光束310的波長)波長具有大于約90％反射率的角形反射器。靶材料420和反射光學元件415a用于將一些放大光束310沿著光束路徑313返回至激光器系統(tǒng)400A中以形成激光器空腔。因此，靶材料420存在于靶位置430處，這提供了足夠的反饋以使得激光器系統(tǒng)400A產(chǎn)生相干激光振蕩。在該情形中，放大光束310(圖3)可以視為激光束。

當靶材料420從靶位置430缺失時，可以仍然泵浦激光器系統(tǒng)400A以產(chǎn)生放大光束310，但是其將不產(chǎn)生激光振蕩除非激光器系統(tǒng)400A中一些其他部件提供足夠的反饋。特別地，在放大光束310與靶材料420交叉期間，靶材料420可以沿著光束路徑404反射光，與光學元件414a協(xié)作以建立穿過光學放大器306a、306b的光學空腔。配置設(shè)置以使得靶材料420的反射率足以使得當光學放大器306a、306b內(nèi)增益介質(zhì)307a、307b受激勵時光學增益超過空腔(由光學元件415a和靶材料420形成)中光學損耗，產(chǎn)生了用于照射靶材料420的激光束，產(chǎn)生了等離子體，并且產(chǎn)生了EUV光發(fā)射150(圖1)。

采用該設(shè)置，光學元件415a、光學放大器305a、305b以及靶材料420組合以形成所謂的“自瞄準”激光器系統(tǒng)，其中靶材料420用作光學空腔的一個鏡面(所謂的等離子體鏡面或機械Q開關(guān))。自瞄準激光器系統(tǒng)公開在序列為11/580,414的、2006年10月13日提交的美國申請“用于EUV光源的驅(qū)動激光輸送系統(tǒng)Drive Laser Delivery Systems for EUV Light Source”中，在此通過全文引用其內(nèi)容的方式而并入本文。

參照圖4B，示出了另一示例性驅(qū)動激光器系統(tǒng)400B。驅(qū)動激光器系統(tǒng)400B是主振蕩器/功率放大器(MOPA)配置，具有由主振蕩器(或種子激光器)415b發(fā)起并且送入光學放大器306a中的種子脈沖。光學放大器306a可以例如使用RF泵浦的快速軸向流CO₂放大器而放大從主振蕩器415b輸出的脈沖以產(chǎn)生放大光束310。

盡管圖3、圖4A和圖4B的示例示出了包括兩個光學放大器的系統(tǒng)，可以使用更多或更少光學放大器。盡管CO₂放大器腔室提供作為示例，附加地取決于應(yīng)用，其他類型放大器或激光器也可以是合適的，例如工作在高功率和高脈沖重復(fù)率下的受激準分子激光器或分子氟激光器。額外的示例包括固態(tài)激光器，例如具有光纖或盤形增益介質(zhì)、MOPA配置的受激準分子激光器系統(tǒng)，例如像序號為5,625,191、5,549,551、和5,567,450的美國專利中所示出的；受激準分子激光器具有一個或多個腔室，例如振蕩器腔室以及一個或多個放大腔室(具有并聯(lián)或串聯(lián)的放大腔室)；主振蕩器/功率放大器(MOPA)布置，功率振蕩器/功率放大器(POPA)布置；其中功率放大器是正反饋環(huán)形放大器的布置；或者將一個或多個受激準分子或分子氟放大器或振蕩器腔室作為種子的固態(tài)激光器可以是合適的。其他設(shè)計是可能的。

參照圖5，示出了用于保持放大光束的性質(zhì)的示例性方法500的流程圖。參照驅(qū)動激光器系統(tǒng)305討論方法500(圖3)。然而，可以對產(chǎn)生與靶材料相互作用以產(chǎn)生EUV光的放大光束的任何光學源而執(zhí)行方法500。

光學放大器306a被定位在光束路徑313上(510)。自適應(yīng)光學元件308被定位在光束路徑313上(520)。放大光束從光學放大器306a發(fā)射，并且放大光束與占空比相關(guān)聯(lián)(530)。放大光束可以是直接從放大器306a發(fā)射的光束，或者已經(jīng)由在放大器306a下游的放大器(諸如放大器306b)進一步放大的放大光束?？梢酝ㄟ^例如激活和去激活RF電極以使得采用能量泵浦增益介質(zhì)307a從而設(shè)置放大光束的占空比。當采用能量泵浦增益介質(zhì)307a時，穿過增益介質(zhì)307a的光束吸收能量并且被放大。當不采用能量泵浦增益介質(zhì)307a時，光束穿過放大器306a而并未被放大。激活和去激活RF電極的速率因此決定了放大光束的占空比。

確定放大光束的性質(zhì)(540)。放大光束的性質(zhì)可以例如是隨時間變化的放大光束的功率，或者在特定時刻放大光束的能量。發(fā)射的放大光束的性質(zhì)可以是光束大小，其可以是在垂直于放大光束傳播方向的平面中放大光束的直徑或?qū)挾?。放大光束的性質(zhì)可以是放大光束的散度?？梢栽诜糯笃?06a和306b的內(nèi)部或外部、在光束路徑313上任意點處測量性質(zhì)。

調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件308(550)。自適應(yīng)光學元件308的調(diào)節(jié)使得即便占空比改變而仍保持放大光束的性質(zhì)。例如，可以調(diào)節(jié)自適應(yīng)光學元件308的曲率半徑以使得放大光束的散度保持相同而不論占空比的改變。缺乏自適應(yīng)光學元件時，90％的占空比可以降低放大光束的散度，而10％的占空比并未引起放大光束散度的降低。為了當占空比從10％改變至90％時保持散度，自適應(yīng)光學元件308增大曲率半徑以提高放大光束的散度。自適應(yīng)光學元件308可以響應(yīng)于反饋信號(諸如圖2的反饋信號219)而調(diào)節(jié)曲率半徑。

向靶位置230提供放大光束以與靶材料220相互作用并且產(chǎn)生EUV光(560)。

參照圖6，示出了示例性可變半徑反射鏡(VRM)608的方框圖。VRM 608可以分別用作在圖1、圖2和圖3的示例性激光器系統(tǒng)105、205和305中的自適應(yīng)光學元件108、208或308。VRM 608包括響應(yīng)于施加至側(cè)面606的壓力改變而變形的反射表面605。VRM 608包括對從反射表面605移除熱量的流體進行循環(huán)的流體回路610以及改變在側(cè)面606處壓力的分隔壓力回路630。與流體自身的流速和/或在管道中承載流體的限制被用于控制在可變形表面處壓力的VRM相比，流體和壓力回路的分隔減小了反射表面605的振動。

流體回路610包括流體循環(huán)流過其中的管道612。管道612形成回路，并且流體可以沿順時鐘方向613流過回路。流體靠近反射表面605的側(cè)面606流動，從反射表面605移除熱量。流體可以是液體或氣體，諸如例如水、空氣、冷卻劑，或者可以從反射表面605的側(cè)面606移除熱量的任何其他流體。

壓力回路630包括壓力致動器632和壓力控制器634，以及壓力換能器636。壓力致動器632流體地耦合至管道633，其流體地耦合至管道612。壓力致動器632用于增大或減小管道633中壓力，并且管道633中壓力的增大或減小對于管道612以及反射表面604的側(cè)面606中的壓力具有對應(yīng)的效果。在圖6的示例中，壓力致動器632是活塞力致動器。當彈簧活塞631沿方向“d”移動時管道633中壓力增大，并且當彈簧活塞631沿與方向“d”相反方向移動時壓力減小。

壓力換能器(或壓力傳感器)636測量在反射表面605的側(cè)面606處的壓力，并且壓力換能器636向壓力控制器634提供電信號。壓力控制器634控制壓力致動器632以將或多或少的壓力提供至管道633中。

VRM 608也包括熱交換器620，其容納了承載了流體形式的冷卻劑的管道622，流體可以是液體或氣體(諸如例如水)。管道622在入口624處接收相對較冷的流體623，將冷卻流體623穿過熱交換器620，而冷卻流體623從反射表面605返回的流體吸收熱量并且變成相對較溫暖的流體627。被加熱的流體627通過出口626離開VRM 608。以該方式，在管道612中流動的流體從反射表面移除熱量并且隨后在再循環(huán)至反射表面505的側(cè)面606之前在熱交換器620中被冷卻。

流體回路610也包括泵614。泵614可以例如是齒輪泵。泵614使得流體在管道612中流動，但是泵并未在側(cè)面606處產(chǎn)生壓力改變。例如，泵614并未使得管道612中流體的流速改變以引起側(cè)面606處壓力的對應(yīng)改變。此外，管道612缺乏在側(cè)面606處下游(沿方向613)的限制，其如果存在的話將限制管道612中流體的流動并且使得在反射表面605的側(cè)面606處構(gòu)建起壓力。管道612也缺乏在側(cè)面606的上游處(沿方向613)的限制。替代的，壓力致動器632增大并且減小在側(cè)面606處的壓力。

替代于流速的限制和/或改變而采用壓力致動器632在側(cè)面606處產(chǎn)生壓力改變可以導(dǎo)致減少或消除了反射表面605的外來振動。額外的，因為壓力回路630和流體回路610是分立的，甚至可以在沒有流過管道612的流體時控制表面605處壓力。同樣的，VRM 608可以用于例如在具有受益于從反射表面605移除熱量的工作模式，以及并不要求熱量移除的工作模式。

VRM 608也包括將管道622通過閥門642而耦合至管道612的管道640。閥門642打開允許流體在管道622和612之間流動以使得可以填充或排干流體。此外，管道632可以通過閥門638耦合至管道622。

參照圖7，示出了包括可變半徑反射鏡(VRM)的示例性驅(qū)動激光器系統(tǒng)705的方框圖。驅(qū)動激光器系統(tǒng)705包括產(chǎn)生放大光束710的光學放大器706a和706b。放大光束710被引導(dǎo)至接收靶材料720的靶位置730。在放大光束710的靶材料720之間的相互作用將靶材料轉(zhuǎn)換為發(fā)射EUV光的靶材料。驅(qū)動激光器系統(tǒng)705也包括位于光束路徑713的測量傳感器770。在圖7的示例中，測量傳感器770位于光學放大器706b的輸入端處。測量傳感器770度量光束的線束大小并且產(chǎn)生反饋信號，其向VRM 708提供。

VRM 708是圖6的VRM 608的另一實施方式。VRM 708與VRM 608相同，除了在VRM 708中壓力控制器634替代于壓力換能器636而從測量傳感器770接收反饋信號772(圖6)。壓力控制器634作用于壓力致動器632以使得側(cè)面606處的壓力取決于由測量傳感器770所測量的光束大小而增大或減小。

盡管在圖7的示例中測量傳感器770位于光學放大器706b的輸入端處，測量傳感器770可以位于其他位置。例如，測量傳感器770可以被定位以測量在目標位置730中放大光束710的大小。在其他示例中，測量傳感器770可以位于光學放大器706a或706b內(nèi)，或者在放大器706a的輸出端處?？梢允褂枚嘤谝粋€測量傳感器770，并且可以在不同位置處放置多于一個測量傳感器770。

參照圖8，示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)805的方框圖。驅(qū)動激光器系統(tǒng)805產(chǎn)生提供至靶位置830的放大光束810。在靶材料820和放大光束之間的相互作用產(chǎn)生了發(fā)射EUV光的等離子體。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)805包括位于光學路徑813上的光學放大器806a-806d。光學放大器806a-806d的每一個分別包括增益介質(zhì)(未示出)，輸入端809a-809d，以及輸出端811a-811d。以集合的方式，放大器806a-806d在光束路徑813上形成放大器鏈，其中光學放大器806b-806d的輸入端分別從前一個(上游)光學放大器806a-806c的輸出端接收光。放大器806a的輸入端809d從光輸入端815接收光束。光輸入端815a可以是反射光學元件(諸如圖4A中所討論的光學元件415a)或者種子激光器(諸如圖4B中所述的種子激光器415b)。驅(qū)動激光器系統(tǒng)805也包括放置在光束路徑813上并且引導(dǎo)光進入輸入端809b-809d中的反射元件819。反射元件819可以例如是平坦鏡面。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)805也包括分別在每個放大器806a-806d的輸出端處的自適應(yīng)光學元件808a-808d。光學放大器806a-806d中的增益介質(zhì)可以用作類似透鏡，改變了穿過媒介傳播的光束的散度的量。對散度改變的量可以隨著占空比而改變。為了對抗該效應(yīng)，自適應(yīng)光學元件808a-808d提供在光束路徑813上接收了由各自光學放大器806a-806d輸出光束的位置。

自適應(yīng)光學元件808a-808d可以是VRMs，諸如參照圖7所述的VRM 708。作為VRMs，每個自適應(yīng)光學元件808a-808d具有可變形反射表面，其響應(yīng)于反饋信號而改變形狀。在圖8所示的示例中，自適應(yīng)光學元件808a接收來自測量由放大器806a所輸出的光束大小的傳感器808b的反饋信號872。自適應(yīng)光學元件808b從傳感器873接收反饋信號，傳感器873測量從自適應(yīng)光學元件808b反射的光束的指向。

傳感器870測量由放大器806a輸出的光束的大小。如果來自傳感器870的測量值指示光束大小大于預(yù)期，自適應(yīng)光學元件806a的反射表面收縮以具有較小曲率半徑以便補償由增益介質(zhì)引起的散度。如果來自放大器806a的光束大小小于預(yù)期，反饋信號872使得自適應(yīng)光學元件808a的曲率半徑增大。

傳感器873被定位在恰好在空間濾波器817a的上游的光束路徑813上。傳感器873測量沿著路徑813傳播的光束的指向并且產(chǎn)生反饋信號874。如果光束并未進入空間濾波器817b的孔徑，自適應(yīng)光學元件808b基于反饋信號874而調(diào)節(jié)指向。

自適應(yīng)光學元件808c和808d也接收反饋信號(未示出)。反饋信號可以來自放置在光束路徑813上、在光學放大器806a-806d的內(nèi)部或外部的傳感器，并且在特定位置處測量光束的性質(zhì)。此外或者替代地，在放大器806a的輸出端處測量光束，可以在光束路徑813上任何其他位置測量光束大小。在一些實施方式中，反饋信號可以來自位于光束路徑813外部和/或不會感測沿著光束路徑813傳播的光束的光學性質(zhì)的傳感器，諸如測量在反射表面?zhèn)让嫣帀毫Φ膲毫Q能器。

自適應(yīng)激光器系統(tǒng)805也包括位于光束路徑813上的空間濾波器817a-817c?？臻g濾波器817a-817c可以例如是針孔，每個空間濾波器限定居中在光束路徑813上的孔徑。每個空間濾波器817a-817c可以定位以具有與分別從放大器輸出811a-811c離開的光束的束腰預(yù)期位置一致的其孔徑?？臻g濾波器817a位于放大器806a和806b之間，空間濾波器817b在放大器806b和806c之間，以及空間濾波器817c在放大器806c和806d之間。

在每個放大器之間具有空間濾波器，其將驅(qū)動激光器系統(tǒng)805與靶位置830隔離。空間濾波器817a-817c通過減小從靶位置830傳播回放大器806a-806d的功率量而有助于隔離放大器與靶位置830。靶材料820和放大光束810之間相互作用可以產(chǎn)生沿與光束810傳播方向相反的方向遠離靶位置830而傳播的反射光。這些反射光可以進入放大器鏈并且稱作逆向光束。逆向光束可以引起放大器增益介質(zhì)的增益剝離。當雜散光束(諸如逆向光束)穿過增益介質(zhì)并且通過吸收來自泵浦增大的增益介質(zhì)而變?yōu)楸环糯髸r發(fā)生了增益剝離。在增益剝離發(fā)生之后，在可以放大另一光束之前必須再次泵浦增益介質(zhì)。

因此，逆向光束可以獲取放大能量，否則該放大能量將被提供到后續(xù)正向光束(沿著路徑813傳播的光束由放大器鏈放大成為與靶材料820相互作用以產(chǎn)生等離子體的放大光束810)。逆向光束的散度不同于正向光束的散度。結(jié)果，在放大器之間放置空間濾波器817a-817c有助于減小到達放大器806a-806c的逆向光束的量，這接著增大了向靶材料820提供的能量的量，因此也增大了所產(chǎn)生EUV光的量。

額外的，在其中光學輸入端815是主振蕩器(或種子激光器)的實施方式中，空間濾波器也有助于減小或消除在放大器鏈(放大器806a-806d)和種子激光器之間的自發(fā)激光。從自發(fā)激光得到的光束也具有比正向光束不同的散度。因此，定位空間濾波器807a-807c以與從輸出端811a-811c發(fā)射的正向光束的束腰一致允許更多正向光束到達靶位置830和/或下游的放大器，而阻擋了很多自發(fā)激光的光束。自發(fā)激光的減輕允許放大器806a-806d的增益提高，這也提高了放大光束810的功率。

參照圖9，示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)的方框圖。自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)905包括光學放大器906a-906d，空間濾波器917a-917c，以及多個自適應(yīng)光學元件908。自適應(yīng)光學元件908可以是VRMs，諸如VRM 608(圖6)或VRM 708(圖7)。自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)類似于圖8的系統(tǒng)805，除了驅(qū)動激光器系統(tǒng)905在放大器906c-906c的輸入和輸出端處具有自適應(yīng)光學元件908之外。在放大器的輸入和輸出端處放置自適應(yīng)光學元件允許控制光束散度和光束大小。

盡管示例性自適應(yīng)激光驅(qū)動系統(tǒng)805和905示出了四個光學放大器，可以使用更多或更少光學放大器。

參照圖10，示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)1005的方框圖。自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)1005產(chǎn)生與靶位置1030中靶材料1020相互作用以將靶材料轉(zhuǎn)換為發(fā)射EUV光的等離子體的放大光束1010。

激光器系統(tǒng)1005包括光學放大器1006a和1006b，靜態(tài)反射光學元件1078a和1078b，空間濾波器1017，以及位于光學路徑1013上的自適應(yīng)元件1080。系統(tǒng)1005也包括向自適應(yīng)元件1080提供反饋信號的傳感器1070。光學放大器1060a從光輸入端1015接收光束，古桑輸入端可以是反射光學元件(諸如圖4A中所討論的光學元件415a)或者種子激光器(諸如圖4B中所討論的種子激光器415b)。光從光輸入端1015通過放大器1006a和1006b沿著光學路徑1013朝向靶位置1030而傳播。

靜態(tài)反射光學元件1078a和1078b放置在路徑1013上，并且可以例如是離軸拋物線(OAP)鏡面。光學元件1078a和1078b是靜態(tài)元件，其中他們具有固定的曲率半徑?？臻g濾波器的孔徑1017在光學路徑1013上在與從光學放大器1006a輸出的光束的束腰的預(yù)期位置一致的位置中。自適應(yīng)元件1080位于放大器1006和1006b之間。自適應(yīng)元件1080增大或減小光束路徑1013的長度，特別是路徑1013的一部分在光學放大器1006a的輸出端1011a和空間濾波器1017之間?？梢圆捎米赃m應(yīng)元件1080調(diào)節(jié)數(shù)路徑1013的長度以保持從與空間濾波器1017的孔徑一致的光學放大器1006a發(fā)射的光束的束腰。而不論系統(tǒng)工作條件的變化(諸如占空比的改進)。

傳感器1070被定位以測量光學放大器1006a所輸出的光束的散度或大小。傳感器1070產(chǎn)生反饋信號1072并且將信號1072提供至自適應(yīng)元件1080。如果放大器1006a的輸出具有大于預(yù)期或所需的散度，光束腰比所預(yù)期或希望的更遠離放大器1006a。在該情形中，自適應(yīng)元件1080減小路徑1013的長度以使得輸出光束的束腰與空間濾波器一致。如果放大器1006a的輸出具有小于預(yù)期的散度，自適應(yīng)元件1080增大了路徑1013的長度。

也參照圖11A和圖11B，示出了示例性自適應(yīng)元件1180的頂視圖。自適應(yīng)元件1180稱作光束路徑長度調(diào)節(jié)器并且可以用作系統(tǒng)1005中的自適應(yīng)元件1080(圖10)。圖11A示出了處于壓縮狀態(tài)(縮短的光束路徑)的數(shù)路徑長度調(diào)節(jié)器1180，并且圖11B示出了處于延展狀態(tài)(狹長的數(shù)路徑)的光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180。

光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180包括內(nèi)管道1182、外管道1183、以及可以是水冷的內(nèi)反射光學元件1185a-1185d。也參照圖11C，其示出了沿著圖11A的線條11C-11C取得的光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180的剖視圖，同心地設(shè)置內(nèi)管道1182和外管道1183，外管道1183的一部分圍繞內(nèi)管道1182。

內(nèi)管道1182具有內(nèi)壁1182a，并且外管道1183具有內(nèi)壁1183a。內(nèi)壁1182a和1183a限定了中心縱軸線1184。光沿著軸線1184穿過光束路徑長度延展器1180。管道1182和1183的內(nèi)部是中空的并且可以沒有空間或其他材料但是通過光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180而提供了恒定折射指數(shù)的路徑。內(nèi)壁1182a和1183a可以由例如黑色陽極化鋁、或者吸收由自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)產(chǎn)生的光束的波長的任何其他材料，其中使用了光束路徑長度調(diào)節(jié)器。外管道1183和內(nèi)管道1182在外部導(dǎo)管的內(nèi)壁1183a與內(nèi)部導(dǎo)管1182之間的低摩擦或無摩擦元件1188耦合。低摩擦元件1188可以例如是TEFLON或TEFLON合成物，或空氣隙。低摩擦元件1188允許外管道1183相對于內(nèi)管道1182而滑動。

再次參照圖11A和圖11B，光束路徑延展器1180也包括接收內(nèi)管道1182和外管道1183的基底1186?；?186也支撐反射光學元件1185a和1185b。接收滑塊1189的芯柱1187從基底1186延伸?；瑝K1189附接至外管道1183，并且滑塊1189沿著芯柱1187沿由箭頭“D”所示的方向而移動。當滑塊1189沿著方向“D”沿著芯柱1187移動時，外管道1183也移動。然而，因為外管道1183和內(nèi)管道1182僅與低摩擦元件1188耦合，內(nèi)管道1182并未隨著滑塊1189移動。以該方式，沿著方向“D”往復(fù)移動滑塊1189使得路徑長度調(diào)節(jié)器1180的路徑長度增大和減小。路徑長度調(diào)節(jié)器1180可以產(chǎn)生例如+/-200毫米(mm)的路徑長度的改變。

在使用中，路徑長度調(diào)節(jié)器1180在輸入端1190處接收光束1181。光束1181從反射光學元件1185a反射至內(nèi)管道1182中，沿著軸線1184傳播，從反射光學元件1185b和1185c反射以被引導(dǎo)至反射光學元件1185d。光束1181隨后通過輸出端1191離開光束路徑延展器1180?；瑝K1189的移動可以是手動的，或者通過計算機控制(諸如耦合至滑塊1189的計算機控制的步進式電動機)。

為了在諸如系統(tǒng)1005的自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)中使用光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180(圖10)，輸入端1190和輸出端1191放置在光束路徑1013上以使得在光束路徑1013上傳播的光進入光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180。

盡管光束路徑長度調(diào)節(jié)器1180示出為具有圓形截面，可以使用允許光穿過并且在內(nèi)管道和外管道之間提供用于滑動接合的任何管道。

圖12示出了另一示例性自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)1205的方框圖。自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)12105類似于自適應(yīng)驅(qū)動激光器系統(tǒng)(圖10)，除了靜態(tài)鏡面1078a替換為自適應(yīng)光學元件1208之外。自適應(yīng)光學元件1280可以是可變半徑反射鏡，諸如VRM 708(圖7)。

參照圖13，在一些實施方式中，極紫外光系統(tǒng)100是包括其他部件的系統(tǒng)的一部分，其他部件諸如真空腔室1300，一個或多個控制器1380，一個或多個傳動系統(tǒng)1381，以及引導(dǎo)激光器1382。

真空腔室1300可以是單個整體結(jié)構(gòu)，或者其可以設(shè)置具有收納特定部件的分立子腔室。真空腔室1300是至少部分地剛性的外殼，由真空泵從其移除空氣和其他氣體，導(dǎo)致在腔室1300內(nèi)低壓環(huán)境。腔室1300的壁可以由適用于真空使用(可以承受較低氣壓)的任何合適的金屬或合金制成。

靶材料輸送系統(tǒng)115將靶材料120輸送至靶位置130。在靶位置處的靶材料120可以是液體微滴、液體流、固體顆?；虼亍谝后w微滴內(nèi)的固體顆粒，或者包含在液體流內(nèi)的固體顆粒的形式。靶材料120可以包括例如水、錫、鋰、氙，或者當被轉(zhuǎn)換為等離子體狀態(tài)時具有在EUV范圍中發(fā)射線的任何材料。例如，元素錫可以用作純錫(Sn)，作為錫化合物，例如SnBr₄、SnBr₂、SnH₄，作為錫合金，例如錫鎵合金、錫銦合金、錫銦鎵合金、或者這些合金的任意組合。靶材料120可以包括采用以上元素之一諸如錫涂覆的布線。如果靶材料120處于固體狀態(tài)，其可以具有任何合適的形狀，諸如環(huán)形、球形或立方體行。可以由靶材料輸送系統(tǒng)115將靶材料120輸送至腔室1300的內(nèi)部中并且至靶位置130。靶位置130也稱做輻照部位，靶材料120與放大光束110相互作用以產(chǎn)生等離子體所在的位置。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)105可以包括一個或多個光學放大器，激光器，和/或用于提供一個或多個主脈沖以及在一些情形中一個或多個預(yù)脈沖的燈。每個光學放大器包括能夠以高增益光學地放大所需波長的增益介質(zhì)，激勵源，以及內(nèi)部光學元件。光學放大器可以具有或不具有激光鏡面或形成激光空腔的其他反饋裝置。因此，驅(qū)動激光系統(tǒng)105由于激光放大器的增益介質(zhì)中粒子數(shù)反轉(zhuǎn)而即便沒有激光空腔也產(chǎn)生放大光束110。此外，如果存在激光空腔以向驅(qū)動激光器系統(tǒng)105提供足夠反饋，驅(qū)動激光系統(tǒng)105可以產(chǎn)生相關(guān)激光束的放大光束110。術(shù)語“放大光束”包括一個或多個：來自驅(qū)動激光器系統(tǒng)105的、僅僅被放大而不必是相干激光振蕩的光，以及來自驅(qū)動激光器系統(tǒng)105的、被放大并且也是相干激光振蕩的光。

驅(qū)動激光器系統(tǒng)105中光學放大器可以包括作為增益介質(zhì)的填充氣體，其包括CO2并且可以在約9100和約11000nm之間的、特別是在約10600nm處波長下、在大于或等于1000的增益下放大光。用于驅(qū)動激光器系統(tǒng)105的合適的放大器和激光器可以包括脈沖式激光裝置，例如產(chǎn)生在約9300nm或約10600nm處輻射的脈沖式氣體放電CO2激光器裝置，采用DC或RF激勵，工作在相對較高功率例如10kW或更高，以及具有例如50kHz或更大的高脈沖重復(fù)率。在驅(qū)動激光器系統(tǒng)105中的光學放大器也可以包括當在更高功率下操作驅(qū)動激光器系統(tǒng)105時可以使用的冷卻系統(tǒng)諸如水。

光收集器155可以是具有孔徑1340以允許放大光束110穿過并到達焦點位置145的聚光鏡面1355。聚光鏡面1355可以例如是橢圓鏡面，在靶位置130或焦點位置145處具有第一焦點，以及在中間位置1361處的第二焦點(也稱作中間焦點)，其中EUV光160可以從極紫外光系統(tǒng)輸出并且輸入至光學設(shè)備165。

一個或多個控制器1380被連接至一個或多個傳動系統(tǒng)或診斷系統(tǒng)，諸如例如微滴位置檢測反饋系統(tǒng)，激光控制系統(tǒng)，光束控制系統(tǒng)，以及一個或多個靶標或微滴成像器。靶標圖像提供指示了例如相對于靶位置130的微滴的位置的輸出，并且將該輸出提供至微滴位置反饋系統(tǒng)，其可以例如計算微滴位置和軌跡，由此可以基于逐個微滴或者平均地計算微滴位置誤差。微滴位置檢測反饋系統(tǒng)因此將微滴位置誤差作為輸入提供至控制器1380?？刂破?380可以因此例如向可以用于例如控制激光定時電路的激光控制系統(tǒng)提供激光位置、方向和定時校正信號，和/或向光束控制系統(tǒng)提供這些以控制放大光束位置和光束輸送系統(tǒng)的形狀以改變腔室1300內(nèi)的光束焦點光斑的位置和/或焦度。

靶材料輸送系統(tǒng)115包括靶材料輸送控制系統(tǒng)，其可響應(yīng)于來自控制器1380的信號可操作用戶例如修改由內(nèi)部輸送機制釋放的微滴的釋放點以校正到達所需靶位置130處微滴的誤差。

額外的，極紫外光系統(tǒng)可以包括測量一個或多個EUV光參數(shù)的光源檢測器，參數(shù)包括但不限于，脈沖能量、作為波長函數(shù)的能量分布、特定波長波段內(nèi)能量、特定波長波段外能量、EUV強度的角分布和/或平均功率。光源檢測器產(chǎn)生由控制器780使用的反饋信號。反饋信號可以例如指示了參數(shù)誤差，諸如激光脈沖的定時和焦點以正確地在正確位置和時刻處截取微滴以用于有效和高效的EUV光產(chǎn)生。

在一些實施方式中，驅(qū)動激光器系統(tǒng)105具有主振蕩器/功率放大器(MOPA)配置，具有多個放大級并且具有由Q開關(guān)主振蕩器(MO)以低能量和高重復(fù)率例如能夠100kHz操作而發(fā)起的種子脈沖。從MO，可以放大激光脈沖，例如使用RF泵浦的快速軸向流CO2放大器以產(chǎn)生沿著光束路徑傳播的放大光束110。

盡管可以使用三個光學放大器，可能的是可以在該實施方式中使用少至一個放大器并多于三個放大器。在一些實施方式中，每個CO2放大器可以是具有由內(nèi)部鏡面折疊的10米放大器長度的RF泵浦軸向流CO2激光器立方。備選的，驅(qū)動激光器系統(tǒng)105可以配置為所謂的“自瞄準”激光器系統(tǒng)，其中靶材料120用作光學空腔的一個鏡面。參照圖4B討論“自瞄準”激光器系統(tǒng)的示例。

在輻照部位處，合適的由聚焦組件140聚焦的放大光束110用于產(chǎn)生取決于靶材料120的成分而產(chǎn)生具有某些特性的等離子體。這些特性可以包括由等離子體產(chǎn)生的EUV光160的波長，以及從等離子體釋放的碎片的類型和數(shù)量。放大光束110蒸發(fā)靶材料120，并且將蒸汽化的靶材料加熱至臨界溫度，在該溫度下電子流出(等離子體狀態(tài))，留下離子，其被進一步加熱直至他們開始發(fā)射具有在極紫外范圍中波長的光子。

其他實施方式在以下權(quán)利要求的范圍內(nèi)。