專利名稱：壓電振動(dòng)片的制造方法、壓電振動(dòng)器、振蕩器、電子設(shè)備及電波鐘的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及壓電振動(dòng)片的制造方法、壓電振動(dòng)器、振蕩器、電子設(shè)備及電波鐘。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，在便攜電話或便攜信息終端設(shè)備上采用具有壓電振動(dòng)片的壓電振動(dòng)器，該壓電振動(dòng)片利用水晶(石英)等作為時(shí)刻源、控制信號(hào)的定時(shí)源、參考信號(hào)源等。作為這種壓電振動(dòng)片，具備由壓電材料構(gòu)成的壓電板和被施加電壓時(shí)使壓電板振動(dòng)的電極部。在此，利用由壓電材料的水晶構(gòu)成的圓片一次制造多個(gè)壓電振動(dòng)片。更具體地說(shuō)，首先從保護(hù)膜上開始對(duì)圓片(wafer)的表面和背面涂敷抗蝕劑膜，在該抗蝕劑膜上配置用于形成壓電板的外形形狀的掩模。接著，隔著該掩模對(duì)抗蝕劑膜照射紫外線，在抗蝕劑膜曝光蝕刻圖案(抗蝕劑圖案)。在取下掩模后，將抗蝕劑膜顯影從而除去曝光部分，其后進(jìn)行金屬蝕刻而從曝光部分除去露出的保護(hù)膜。而且，除去抗蝕劑膜，并且進(jìn)行水晶蝕刻而對(duì)從保護(hù)膜的除去部分露出的圓片進(jìn)行蝕刻，其后除去保護(hù)膜，從而形成壓電板的外形形狀。接著，將電極材料對(duì)形成有壓電板的外形形狀的圓片蒸鍍、濺鍍等，從而形成電極膜，在其上形成抗蝕劑膜。然后，在該抗蝕劑膜上配置所希望的電極以及形成有布線圖案的掩模，照射紫外線而將蝕刻圖案(抗蝕劑圖案)在抗蝕劑膜上曝光。然后，將抗蝕劑膜顯影而除去曝光部分，使電極膜的表面露出，且蝕刻其露出面而使圓片的表面露出，從而將電極膜極化，得到希望的電極及布線。在此，配置在圓片的表面和背面的掩模，邊目視確認(rèn)邊進(jìn)行對(duì)位，以使各自形成的蝕刻圖案完全重疊。此時(shí)，各掩模的蝕刻圖案完全相同，因此在兩掩模間容易產(chǎn)生錯(cuò)位。為此，公開了在各掩模形成多個(gè)相同形狀的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，通過(guò)使彼此的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)位來(lái)防止各掩模間的錯(cuò)位的技術(shù)(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。專利文獻(xiàn)I :日本特開2003-186210號(hào)公報(bào)可是想要利用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記來(lái)防止掩模的錯(cuò)位時(shí)，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的大小對(duì)于對(duì)位的操作性、對(duì)位的精度產(chǎn)生影響。S卩，當(dāng)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記較大時(shí)，相應(yīng)地操作者容易確定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，提高對(duì)位的操作性，但會(huì)降低對(duì)位精度。另一方面，當(dāng)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記較小時(shí)，相應(yīng)地能提高對(duì)位精度，但操作音會(huì)難以確定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，對(duì)位的操作性會(huì)降低。此外，這在壓電板上形成電極時(shí)所利用的掩模的對(duì)位也同樣。即，即便在圓片和用于形成電極的掩模上分別形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，也會(huì)隨著該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的大小而對(duì)位的操作性下降，或者對(duì)位精度惡化。

發(fā)明內(nèi)容
于是，本發(fā)明鑒于上述情況而構(gòu)思，提供一種能夠提高掩模對(duì)位的操作性、并提高對(duì)位的精度、容易且高精度地形成壓電板、電極的壓電振動(dòng)片的制造方法、壓電振動(dòng)器、振蕩器、電子設(shè)備及電波鐘為了解決上述課題，本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其中壓電振動(dòng)片具備壓電板、和當(dāng)被施加電壓時(shí)使所述壓電板振動(dòng)的電極部，所述制造方法的特征在于，包括外形形成工序，在對(duì)由壓電材料構(gòu)成的圓片的兩面涂敷壓電板形成用掩模材料之后，配置為形成所述壓電板而準(zhǔn)備的一對(duì)外形掩模，其后，隔著這些外形掩模照射光以形成所述壓電板的外形；以及抗蝕劑圖案形成工序，在對(duì)形成有所述壓電板的外形形狀的所述圓片涂敷電極膜掩模材料之后，配置為電極膜而準(zhǔn)備的電極膜用掩模，然后，隔著所述電極膜用掩模照射光以形成抗蝕劑圖案，所述抗蝕劑圖案形成工序包括電極標(biāo)記組檢測(cè)工序，檢測(cè)形成在所述圓片的圓片側(cè)標(biāo)記組(群)、和形成在所述電極膜用掩模的電極掩模側(cè)標(biāo)記組；以及電極掩模配置工序，使所述圓片側(cè)標(biāo)記組與所述電極掩模側(cè)標(biāo)記組對(duì)位，并對(duì)所述圓片配置所述電極膜用掩模，所述圓片側(cè)標(biāo)記組由大小彼此不同的至少2個(gè)圓片側(cè)標(biāo)記構(gòu)成，所述電極掩模側(cè)標(biāo)記組由大小彼此不同的至少2個(gè)電極掩模側(cè)標(biāo)記構(gòu)成，將各自最小的圓片側(cè)標(biāo)記及電極掩模側(cè)標(biāo)記用作為彼此的標(biāo)記對(duì)位，將最小的圓片側(cè)標(biāo)記、除電極掩模側(cè)標(biāo)記以外的所有圓片側(cè)標(biāo)記、以及電極掩模側(cè)標(biāo)記，用于所述電極標(biāo)記組檢測(cè)工序。通過(guò)這樣的方法，從最大的圓片側(cè)標(biāo)記以及最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記依次確定，能夠?qū)⒆钚〉膱A片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記迅速確定。此外，利用最小的圓片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記進(jìn)行各掩模的對(duì)位，從而能夠高精度地進(jìn)行該對(duì)位。因此，能夠容易且高精度進(jìn)行抗蝕劑圖案形成工序。本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各圓片側(cè)標(biāo)記以及各電極掩模側(cè)標(biāo)記分別以既定的排列圖案配置。通過(guò)這樣的方法，在確定最大的圓片側(cè)標(biāo)記以及最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記的時(shí)刻，能夠容易預(yù)測(cè)最小的圓片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記的位置，因此能夠進(jìn)一步提高在確定最大的圓片側(cè)標(biāo)記以及最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記之后確定最小的圓片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記為止的操作效率。本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各圓片側(cè)標(biāo)記在最大的圓片側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它圓片側(cè)標(biāo)記，并且各電極掩模側(cè)標(biāo)記在最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它電極掩模側(cè)標(biāo)記。通過(guò)這樣的方法，能夠進(jìn)一步容易確定最小的圓片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記。因此，能夠進(jìn)一步提高各掩模對(duì)位的操作性。本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其中壓電振動(dòng)片具備壓電板、和當(dāng)被施加電壓時(shí)使所述壓電板振動(dòng)的電極部，所述制造方法的特征在于，包括外形形成工序，在由壓電材料構(gòu)成的圓片的兩面涂敷壓電板形成用掩模材料后，配置為形成所述壓電板而準(zhǔn)備的一對(duì)外形掩模，然后，隔著這些外形掩模照射光以形成所述壓電板的外形；以及抗蝕劑圖案形成工序，在形成有所述壓電板的外形形狀的所述圓片涂敷電極膜掩模材料后，配置為電極膜而準(zhǔn)備的電極膜用掩模，然后，隔著所述電極膜用掩模照射光以形成抗蝕劑圖案，所述外形形成工序包括外形標(biāo)記組檢測(cè)工序，檢測(cè)形成在各外形掩模的外形掩模側(cè)標(biāo)記組；以及外形掩模配置工序，使各外形掩模的外形掩模側(cè)標(biāo)記組的位置對(duì)齊并在所述圓片配置各外形掩模，所述外形掩模側(cè)標(biāo)記組由彼此大小不同的至少2個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記構(gòu)成，將形成在各外形掩模的最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記用作為彼此的標(biāo)記對(duì)位，將除最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記以外的所有外形掩模側(cè)標(biāo)記，利用到所述外形標(biāo)記組檢測(cè)工序中。通過(guò)這樣的方法，能夠從最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記起依次進(jìn)行確定，從而能夠迅速地確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記。此外，利用最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記進(jìn)行各掩模的對(duì)位，從而能夠高精度地進(jìn)行該對(duì)位。因此，能夠容易且高精度地進(jìn)行外形形成工序。本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各外形掩模側(cè)標(biāo)記分別以既定的排列圖案配置。通過(guò)這樣的方法，能夠在確定最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記的時(shí)刻容易預(yù)測(cè)最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記的位置，因此能夠提高從確定最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記之后確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記為止的操作效率。本發(fā)明的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各外形掩模側(cè)標(biāo)記在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它外形掩模側(cè)標(biāo)記。通過(guò)這樣的方法，能進(jìn)一步容易確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記。因此，能夠進(jìn)一步提高各掩模對(duì)位的操作性。本發(fā)明的壓電振動(dòng)器，其特征在于，利用本發(fā)明第一方面至第六方面的任一項(xiàng)中記載的壓電振動(dòng)片的制造方法來(lái)制造。通過(guò)這樣構(gòu)成，能夠提供這樣的壓電振動(dòng)器，即能夠提高各掩模對(duì)位的操作性，并且提高對(duì)位精度、容易且高精度地形成壓電板或電極。本發(fā)明的振蕩器，其特征在于，本發(fā)明第七方面所記載的壓電振動(dòng)器，作為振子與集成電路電連接。通過(guò)這樣構(gòu)成，能夠有效率地制造高品質(zhì)的振蕩器，并且能夠謀求該振蕩器的低成本化。本發(fā)明的電子設(shè)備，其特征在于，本發(fā)明第七方面所記載的壓電振動(dòng)器與計(jì)時(shí)部電連接。通過(guò)這樣構(gòu)成，能夠有效率地制造高品質(zhì)的電子設(shè)備，并能謀求該電子設(shè)備的低成本化。本發(fā)明的電波鐘，其特征在于，本發(fā)明第七方面所記載的壓電振動(dòng)器與濾波部電連接。通過(guò)這樣構(gòu)成，能夠有效率地制造高品質(zhì)的電波鐘，并能謀求該電波鐘的低成本化。(發(fā)明效果)依據(jù)本發(fā)明，從最大的圓片側(cè)標(biāo)記以及最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記起依次進(jìn)行確定，從而能夠迅速確定最小的圓片側(cè)標(biāo)記 以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記。此外，利用最小的圓片側(cè)標(biāo)記以及最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記進(jìn)行各掩模的對(duì)位，從而能高精度地進(jìn)行該對(duì)位。因此，能夠容易且高精度地進(jìn)行抗蝕劑圖案形成工序。此外，從最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記起依次進(jìn)行確定,從而能迅速地確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記。此外，利用最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記進(jìn)行各掩模的對(duì)位，從而能高精度地進(jìn)行該對(duì)位。因此，能夠容易且高精度地進(jìn)行外形形成工序。


圖I是從蓋基板側(cè)觀察本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)器的外觀立體圖。圖2是在拆下蓋基板的狀態(tài)下俯視本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)片的圖。圖3是沿著圖2的A-A剖線的壓電振動(dòng)器的剖視圖。圖4是本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)器的分解立體圖。圖5是本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)片的俯視圖。圖6是本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)片的仰視圖。圖7是沿著圖5的B-B剖線的剖視圖。
圖8是本發(fā)明實(shí)施方式中的外形掩模的概略平面圖。圖9是本發(fā)明實(shí)施方式中的電極膜用掩模的概略平面圖。圖10是本發(fā)明實(shí)施方式中的工件托盤的概略平面圖。圖11是本發(fā)明實(shí)施方式中的各標(biāo)記組的詳細(xì)圖。圖12是本發(fā)明實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)片的制造方法的流程圖。圖13是本發(fā)明實(shí)施方式中的外形形成工序中抗蝕劑圖案形成工序的工序圖。圖14是本發(fā)明實(shí)施方式中的外形掩模側(cè)標(biāo)記組的操作工序圖，其中(a) ⑷示出各工序的動(dòng)態(tài)。圖15是本發(fā)明實(shí)施方式中的結(jié)束外形形成工序后的圓片的平面圖。圖16是本發(fā)明實(shí)施方式中的抗蝕劑圖案形成工序的工序圖，其中(a) (C)示出各工序的動(dòng)態(tài)。圖17是本發(fā)明實(shí)施方式中的用于對(duì)圓片側(cè)標(biāo)記組進(jìn)行電極掩模側(cè)標(biāo)記組的對(duì)位的操作工序圖。圖18是本發(fā)明實(shí)施方式中的振蕩器的結(jié)構(gòu)圖。圖19是本發(fā)明實(shí)施方式中的便攜信息設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖。圖20是示出本發(fā)明實(shí)施方式中的電波鐘的一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。圖21是本發(fā)明實(shí)施方式中的各標(biāo)記組的其它實(shí)施方式的詳細(xì)圖。
具體實(shí)施例方式(壓電振動(dòng)器)下面，根據(jù)附圖就本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖I是從蓋基板側(cè)觀察壓電振動(dòng)器的外觀立體圖；圖2是壓電振動(dòng)器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖，并且是在拆下蓋基板的狀態(tài)下俯視壓電振動(dòng)片的圖；圖3是沿著圖2的A-A剖線的壓電振動(dòng)器的剖視圖；圖4是壓電振動(dòng)器的分解立體圖。如圖I 圖4所示，壓電振動(dòng)器I具有基底基板2和蓋基板3經(jīng)接合材料35陽(yáng)極接合的箱狀的封裝件(package) 5，并且是在該封裝件5內(nèi)部的空腔C內(nèi)密封了壓電振動(dòng)片4的表面安裝型的壓電振動(dòng)器。此外，在圖4中為了方便觀看附圖而省略了后述的激振電極15、引出電極19、20、裝配電極16、17及重錘金屬膜21的圖示。圖5是構(gòu)成壓電振動(dòng)器的壓電振動(dòng)片的俯視圖；圖6是壓電振動(dòng)片的仰視圖；圖7是沿著圖5的B-B剖線的剖視圖。如圖5 圖7所示，壓電振動(dòng)片4在被施加既定電壓時(shí)振動(dòng)，具備由水晶、鉭酸鋰、鈮酸鋰等壓電材料形成的音叉型壓電板24。
該壓電板24具有平行配置的一對(duì)振動(dòng)臂部10、11 ;以及將一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的基端一側(cè)固定成一體的基部12。此外,在壓電板24的外表面上,設(shè)有使一對(duì)振動(dòng)臂部10、11振動(dòng)的由第一激振電極13及第二激振電極14構(gòu)成的激振電極15、與第一激振電極13及第二激振電極14電連接的裝配電極16、17。此外，在壓電板24形成有在一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的兩主表面上沿著振動(dòng)臂部10、11的長(zhǎng)邊方向分別形成的槽部18。該槽部18從振動(dòng)臂部10、11的基端側(cè)形成至大致中間附近。由第一激振電極13、第二激振電極14構(gòu)成的激振電極15，是使一對(duì)振動(dòng)臂部10、11在彼此接近或分離的方向上以既定的頻率振動(dòng)的電極，在一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的外表面上，分別以電性切斷的狀態(tài)構(gòu)圖而形成。具體而言，第一激振電極13主要形成在一個(gè)振動(dòng)臂部10的槽部18上和另一振動(dòng)臂部11的兩側(cè)面上。此外，第二激振電極14主要形成在一個(gè)振動(dòng)臂部10的兩側(cè)面上和另一振動(dòng)臂部11的槽部18上。而且，第一激振電極13及第二激振電極14，在基部12的兩主表面上分別經(jīng)由引出電極19、20電連接到裝配電極16、17。壓電振動(dòng)片4經(jīng)由該裝配電極16、17而被施加電壓。此外，在一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的外表面上被覆蓋頻率調(diào)整用的重錘金屬膜21，以使本身的振動(dòng)狀態(tài)在既定頻率的范圍內(nèi)振動(dòng)。該重錘金屬膜21例如用銀(Ag)或金(Au)來(lái)形成，被分為粗調(diào)頻率時(shí)使用的粗調(diào)膜21a和微調(diào)時(shí)使用的微調(diào)膜21b。利用這粗調(diào)膜21a及微調(diào)膜21b的重量進(jìn)行頻率調(diào)整，從而能夠使一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的頻率收斂在器件的目標(biāo)頻率范圍內(nèi)。這樣構(gòu)成的壓電振動(dòng)片4，如圖3及圖4所示，利用金等的凸點(diǎn)(bump)B，凸點(diǎn)接合到基底基板2的上表面。更具體地說(shuō)，在基底基板2上表面上所構(gòu)圖的后述迂回電極36、37上所形成的2個(gè)凸點(diǎn)B上，使一對(duì)裝配電極16、17分別接觸的狀態(tài)進(jìn)行凸點(diǎn)接合。由此，壓電振動(dòng)片4以從基底基板2的上表面浮起的狀態(tài)被支撐，并且成為與裝配電極16、17和迂回電極36、37分別電連接的狀態(tài)。如圖I、圖3、圖4所示，蓋基板3是由玻璃材料、例如堿石灰玻璃構(gòu)成的透明絕緣基板，并且呈板狀地形成。在接合基底基板2的接合面一側(cè)，形成有收納壓電振動(dòng)片4的矩形狀的凹部3a。該凹部3a是在疊合兩基板2、3時(shí)成為收容壓電振動(dòng)片4的空腔C的空腔用的凹部。在蓋基板3的整個(gè)下表面，形成有陽(yáng)極接合用的接合材料35。具體而言，接合材料35遍及與基底基板2的接合面以及凹部3a的整個(gè)內(nèi)表面而形成。本實(shí)施方式的接合材料35由Si膜形成，但接合材料35也可用Al形成。再者作為接合材料，也可以用通過(guò)摻雜等來(lái)低電阻化的Si塊材。然后，以使凹部3a與基底基板2 —側(cè)相向的狀態(tài)，將接合材料35和基底基板2陽(yáng)極接合，從而空腔C被氣密密封。如圖I 圖4所示，基底基板2是與蓋基板3同樣地用玻璃材料、例如堿石灰玻璃構(gòu)成的透明絕緣基板，并且以能對(duì)蓋基板3疊合的大小呈板狀地形成。在該基底基板2形成有貫通基底基板2的一對(duì)貫通孔30、31。這時(shí)，一對(duì)貫通孔30、31被形成為收納于空腔C內(nèi)。更詳細(xì)地說(shuō)，貫通孔30、31之中，一個(gè)貫通孔30形成在與所裝配的壓電振動(dòng)片4的基部12—側(cè)對(duì)應(yīng)的位置。此外，另一貫通孔31形成在與振動(dòng)臂部10、11的前端側(cè)對(duì)應(yīng)的位置。此外，這些貫通孔30、31形成為從基底基板2的下表面起朝著上表面其直徑逐漸縮小的剖面錐狀。此外，在本實(shí)施方式中，就各貫通孔30、31形成為剖面錐狀的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限于此，也可以是筆直地貫通基底基板2的貫通孔。總之貫通基底基板2即可。然后，在這一對(duì)貫通孔30、31中，形成有以填埋各貫通孔30、31的方式形成的一對(duì)貫通電極32、33。如圖3所示，這些貫通電極32、33由經(jīng)燒成而對(duì)貫通孔30、31固定成一體的筒體6以及芯材部7形成。各貫通電極32、33完全堵塞貫通孔30、31而維持空腔C內(nèi)的氣密性，并且起到使后述的外部電極38、39和迂回電極36、37導(dǎo)通的作用。筒體6是膏狀的玻璃料被燒成而成的部件。筒體6形成為兩端平坦且與基底基板2大致相同厚度的圓筒狀。然后，在筒體6的中心，以貫通筒體6的方式配置有芯材部7。此夕卜，在本實(shí)施方式中筒體6的外形形成為圓錐狀(剖面錐狀)，以與貫通孔30、31的形狀吻合。然后，該筒體6在被埋入貫通孔30、31內(nèi)的狀態(tài)下燒成，從而對(duì)這些貫通孔30、31牢固地固接。芯材部7是用金屬材料呈圓柱狀形成的導(dǎo)電性芯材，與筒體6同樣地，形成為兩端平坦且厚度與基底基板2的厚度大致相同。芯材部7位于筒體6的中心孔6c，因筒體6的燒成而對(duì)筒體6牢固地固接。此外，貫通電極32、33通過(guò)導(dǎo)電性芯材部7而確保電導(dǎo)通性。如圖I 圖4所示，在基底基板2的上表面?zhèn)?接合蓋基板3的接合面一側(cè))，用導(dǎo)電性材料(例如招)構(gòu)圖有一對(duì)迂回電極36、37。一對(duì)迂回電極36、37被構(gòu)圖成為使一對(duì)貫通電極32、33中的一個(gè)貫通電極32與壓電振動(dòng)片4的一個(gè)裝配電極16電連接，并且使另一貫通電極33和壓電振動(dòng)片4的另一裝配電極17電連接。更詳細(xì)地說(shuō)，一個(gè)迂回電極36以位于壓電振動(dòng)片4的基部12正下方的方式形成在一個(gè)貫通電極32的正上方。此外，另一迂回電極37形成為從與一個(gè)迂回電極36相鄰接的位置沿著振動(dòng)臂部10、11迂回到這些振動(dòng)臂部10、11的前端側(cè)之后，位于另一貫通電極33的正上方。然后，在這一對(duì)迂回電極36、37上分別形成凸點(diǎn)B，利用該凸點(diǎn)B裝配壓電振動(dòng)片4。由此，壓電振動(dòng)片4的一個(gè)裝配電極16經(jīng)由一個(gè)迂回電極36與一個(gè)貫通電極32導(dǎo)通。此外，另一裝配電極17經(jīng)由另一迂回電極37與另一貫通電極33導(dǎo)通。如圖I、圖3、圖4所示，在基底基板2的下表面形成有與一對(duì)貫通電極32、33分別電連接的外部電極38、39。即，一個(gè)外部電極38經(jīng)由一個(gè)貫通電極32以及一個(gè)迂回電極36而與壓電振動(dòng)片4的第一激振電極13電連接。此外，另一外部電極39經(jīng)由另一貫通電極33及另一迂回電極37而與壓電振動(dòng)片4的第二激振電極14電連接。
在使這樣構(gòu)成的壓電振動(dòng)器I動(dòng)作時(shí)，對(duì)形成在基底基板2的外部電極38、39施加既定的驅(qū)動(dòng)電壓。由此，能夠在由壓電振動(dòng)片4的第一激振電極13及第二激振電極14構(gòu)成的激振電極15中有電流流過(guò)，并能使一對(duì)振動(dòng)臂部10、11在接近/分離的方向上以既定的頻率振動(dòng)。然后，利用該一對(duì)振動(dòng)臂部10、11的振動(dòng)，能夠作為時(shí)刻源、控制信號(hào)的定時(shí)源、參考信號(hào)源等而加以利用。(壓電振動(dòng)器的制造方法)接著，對(duì)用由壓電材料構(gòu)成的圓片S(參照?qǐng)D11)形成壓電振動(dòng)片4的方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，根據(jù)圖8 圖11，對(duì)該制造方法中所使用的壓電振動(dòng)片的制造裝置40進(jìn)行說(shuō)明。圖8是外形掩模的概略平面圖；圖9是電極膜用掩模的概略平面圖；圖10是工件托盤的概略平面圖。如圖8 圖10所示，制造裝置40具備用于在圓片S上形成壓電板24 (參照?qǐng)D5、圖6)的外形形狀的外形掩模41 ;用于在壓電板24上形成激振電極15(參照?qǐng)D5、圖6)的電極膜用掩模42 ;以及承載圓片S的工件托盤43。這些掩模41、42具備各自內(nèi)部成為曝光區(qū)域41a、42a的框狀部41b、42b ;以及配置在曝光區(qū)域41a、42a并且通過(guò)未圖示的連結(jié)部與框狀部41b、42b連結(jié)的多個(gè)覆蓋部41c、42c。此外，為了便于觀看附圖，圖8以后圖示的各覆蓋部41c、42c簡(jiǎn)化了形狀和數(shù)量。在此，2個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記組51以?shī)A持外形掩模41的中央部而位于兩側(cè)的方式形成在外形掩模41的框狀部41b上。另一方面,2個(gè)電極掩模側(cè)標(biāo)記組52以?shī)A持電極換用掩模42的中央部而位于兩側(cè)的方式形成在電極膜用掩模42的框狀部42b上。S卩，各標(biāo)記組51、52形成在彼此對(duì)應(yīng)的位置。這些標(biāo)記組51、52是用于各自對(duì)應(yīng)的掩模41、42的對(duì)位的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(隨后詳述)。圖11是各標(biāo)記組的詳細(xì)圖。此外，各標(biāo)記組51、52都以同一形狀構(gòu)成，因此利用同一附圖(圖11)說(shuō)明各標(biāo)記組51、52。如該圖所示，外形掩模側(cè)標(biāo)記組51由多個(gè)(該實(shí)施方式中4個(gè))外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d構(gòu)成。各標(biāo)記51a 51d形成為十字狀,其大小分別不同。S卩，從最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a到最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d為止，在它們之間存在的外形掩模側(cè)標(biāo)記51b、51c以依次減小地形成。此外，除最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a以外的3個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記51b、51c、51d被配置在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的形成范圍Wl內(nèi)。然后,各標(biāo)記51a 51d以既定的排列圖案配置。既定的排列圖案以既定的規(guī)則排列即可，例如，在圖11中配置成從最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a起從大的標(biāo)記順序逐漸朝圖11的右下方錯(cuò)開。另一方面，電極掩模側(cè)標(biāo)記組52也與外形掩模側(cè)標(biāo)記組51同樣地構(gòu)成。S卩，電極掩模側(cè)標(biāo)記組52由多個(gè)(該實(shí)施方式中4個(gè))電極掩模側(cè)標(biāo)記52a 52d構(gòu)成,這些電極掩模側(cè)標(biāo)記52a 52d的大小彼此不同。然后，除最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記52a以外3個(gè)電極掩模側(cè)標(biāo)記52b、52c、52d在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記52a的形成范圍Wl內(nèi)以既定的排列
圖案配置。接著，根據(jù)圖12 圖15就利用這樣構(gòu)成的制造裝置40的形成壓電振動(dòng)片4的壓電振動(dòng)片的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。圖12是壓電振動(dòng)片的制造方法的流程圖。 如圖12所示，首先以既定的角度對(duì)水晶的朗伯(Lambert)原礦石進(jìn)行切片，做成固定厚度的圓片S。接著，研磨該圓片S而進(jìn)行粗加工后，利用蝕刻來(lái)除掉加工變質(zhì)層，其后進(jìn)行拋光(polish)等的鏡面研磨加工,做成既定厚度的圓片S(SlO)。接著，進(jìn)行在研磨后的圓片S形成多個(gè)壓電板24的外形形狀的外形形成工序(S20)。此時(shí)，首先利用例如蒸鍍法或?yàn)R鍍法等，在圓片S的兩面成膜由層疊例如鉻層和金層等而成的未圖示的保護(hù)膜(S21)。其次，在保護(hù)膜上成膜光刻膠膜(壓電板形成用掩模材料)(S22)。接著，進(jìn)行用于在光刻膠膜上形成所希望的抗蝕劑圖案的抗蝕劑圖案形成工序(S23)。以下，詳述外形形成工序中的抗蝕劑圖案形成工序。
圖13是外形形成工序中的抗蝕劑圖案形成工序的工序圖。如圖8、圖12、圖13所示，首先，向下側(cè)的外形掩模44a(41)上輸送圓片S(S24)。然后，針對(duì)下側(cè)的外形掩模44a(41)進(jìn)行圓片S的粗定位(S25)。在圓片S中設(shè)有在其一側(cè)形成的切口狀的定向平面(Orientation Flat)61,因此利用該定向平面61進(jìn)行粗定位也可。在進(jìn)行粗定位后，在圓片S的上表面，即，與下側(cè)的外形掩模44a相反一側(cè)的面配置上側(cè)的外形掩模44b,進(jìn)行上下外形掩模44a、44b的對(duì)位(S26,外形掩模配置工序)。該對(duì)位是利用形成在各外形掩模44a、44b的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51來(lái)進(jìn)行的。SP，配置在下側(cè)的外形掩模44a上的圓片S，能夠從其上表面視覺(jué)辨認(rèn)形成在下側(cè)的外形掩模44a的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51。因此，操作者利用未圖示的顯微鏡等，對(duì)形成在下側(cè)的外形掩模44a的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51上，疊合形成在上側(cè)的外形掩模44b的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51,從而進(jìn)行兩外形掩模44a、44b的對(duì)位。圖14(a)至圖14(d)是示出形成在兩外形掩模44a、44b的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51的對(duì)位方法的操作工序圖。在此，外形掩模側(cè)標(biāo)記組51由多個(gè)(該實(shí)施方式中4個(gè))外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d構(gòu)成(參照?qǐng)D11)。因此，首先如圖14(a)所示，確定形成在下側(cè)的外形掩模44a的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51中的最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的位置(外形標(biāo)記組檢測(cè)工序)。此時(shí)，也可確定較小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51c、51d的位置，但是因?yàn)檫@些外形掩模側(cè)標(biāo)記51c、51d較小，所以其視覺(jué)辨認(rèn)相應(yīng)地困難。因此，通過(guò)以確定最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的方式進(jìn)行操作，即便小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51c、51d處在未圖示的顯微鏡的視野Hl范圍外，也能容易確定最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的位置。接著,如圖14(b)所示,從最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的位置確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d的位置。另一方面，對(duì)于形成在上側(cè)的外形掩模44b的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51，也能以與形成在下側(cè)的外形掩模44a的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51同樣的順序確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d的位置。S卩，首先確定最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a,從該外形掩模側(cè)標(biāo)記51a確定最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d的位置。接著，如圖14(C)所示，使形成在上側(cè)的外形掩模44b的最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d靠近形成在下側(cè)的外形掩模44a的最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d。然后，如圖14(d)所示，使形成在各外形掩模44a、44b的最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d、51d彼此的位置對(duì)齊，完成上下外形掩模44a、44b的對(duì)位(S26)。如此，通過(guò)利用最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d，能高精度地進(jìn)行上下外形掩模44a、44b的對(duì)位。即，將最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記51d用于各標(biāo)記組51、51的對(duì)位,將包括外形掩模側(cè)標(biāo)記51d在內(nèi)的所有的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d用于外形標(biāo)記組檢測(cè)工序中。
如圖12所示，在圓片S配置外形掩模44a、44b后，在圓片S的兩面上隔著外形掩模44a、44b,對(duì)未圖不的光刻膠膜曝光刻膠圖案(S27a)。若結(jié)束曝光就取下外形掩模44a、44b，然后進(jìn)行光刻膠膜的顯影，除去曝光部分(S27b)。然后，進(jìn)行金屬蝕刻而除去從曝光部分露出的保護(hù)膜，進(jìn)而除去抗蝕劑膜(S28)。然后，進(jìn)行水晶蝕刻而蝕刻從保護(hù)膜的除去部分露出的圓片S (S29)，其后，除去保護(hù)膜，從而結(jié)束外形形成工序(S20)。圖15是結(jié)束外形形成工序后的圓片的平面圖。如該圖所示，在結(jié)束外形形成工序(S20)的圓片S，形成有壓電板24的外形形狀。更具體地說(shuō)，存在于圓片S的外周部SI內(nèi)側(cè)的板形成區(qū)域S2內(nèi)，形成有壓電板24的外形形狀。板形成區(qū)域S2是從外形掩模41的曝光區(qū)域41a露出的部分，在板形成區(qū)域S2中，壓電板24的外形形狀以及除去連結(jié)該外形形狀和外周部SI的未圖示的連結(jié)部的部分被水晶蝕刻而除去。在此，在外形掩模41形成有外形掩模側(cè)標(biāo)記組51。因此，與壓電板24的外形形狀同時(shí)在圓片S中與2個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記組51對(duì)應(yīng)的部位形成圓側(cè)標(biāo)記組71。圓片側(cè)標(biāo)記組71也經(jīng)過(guò)與壓電板24同樣的工序(外形形成工序(S20))而形成，因此形成為與外形掩模側(cè)標(biāo)記組51相同的形狀。S卩，如圖11所示，圓片側(cè)標(biāo)記組71形成為十字狀，由大小彼此不同的多個(gè)圓片側(cè)標(biāo)記71a 71d構(gòu)成。此外，圓片側(cè)標(biāo)記組71是沿厚度方向貫通圓片S的貫通孔，或者由形成在圓片S的表面上的凹部構(gòu)成。如圖5 圖7及圖12所示，在進(jìn)行外形形成工序(S20)之后，進(jìn)行在一對(duì)振動(dòng)臂部10、11形成槽部18的槽部形成工序(S30)，然后，進(jìn)行在形成有壓電板24的外形形狀的圓片S形成激振電極15及重錘金屬膜21的電極形成工序(S40)。此時(shí)，首先利用例如蒸鍍法或?yàn)R鍍法等，在成膜壓電板24上成膜成為電極的金屬膜(未圖示)(S41)。接著，在金屬膜上成膜光刻膠膜(電極膜掩模材料)(S42)。接著，進(jìn)行用于在光刻膠膜形成成為電極形狀的抗蝕劑圖案的抗蝕劑圖案形成工序(S43)。以下，詳述電極形成工序中的抗蝕劑圖案形成工序。圖16(a) 圖16(c)是電極形成工序中的抗蝕劑圖案形成工序的工序圖。如圖12、圖16所示，首先，將圓片S輸送到制造裝置40的工件托盤43上(S44，參照?qǐng)D16(a)、圖16(b))。然后，對(duì)工件托盤43進(jìn)行圓片S的粗定位(S45)。此時(shí)，利用設(shè)有圓片S的定向平面61等進(jìn)行粗定位。在進(jìn)行粗定位后，在圓片S的上表面，即在與工件托盤43相反一側(cè)的面配置電極膜用掩模42 (參照?qǐng)D9)，進(jìn)行該電極膜用掩模42的對(duì)位(S46，電極掩模配置工序)。該對(duì)位是利用形成在圓片S的圓片側(cè)標(biāo)記組71和形成在電極膜用掩模42的電極掩模側(cè)標(biāo)記組52來(lái)進(jìn)行了。在此，圓片側(cè)標(biāo)記組71和電極掩模側(cè)標(biāo)記組52的對(duì)位，與形成在上述的下側(cè)的外形掩模44a的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51和形成在上側(cè)的外形掩模44b的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51的對(duì)位相同。圖17是用于對(duì)形成在圓片S的圓片側(cè)標(biāo)記組71進(jìn)行形成在電極膜用掩模42的電極掩模側(cè)標(biāo)記組52的對(duì)位的操作工序圖。即，首先如圖17(a)所示，確定圓片側(cè)標(biāo)記組71中的最大的圓片側(cè)標(biāo)記71a的位置(電極標(biāo)記組檢測(cè)工序)。其次，如圖17(b)所示，從最大的圓片側(cè)標(biāo)記71a的位置確定最小的圓片側(cè)標(biāo)記7Id的位置。另一方面，對(duì)于形成在電極膜用掩模42的電極掩模側(cè)標(biāo)記組52，也與圓片側(cè)標(biāo)記組71同樣的順序確定最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記52d的位置。即，首先確定最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記52a,從該電極掩模側(cè)標(biāo)記52a確定最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記52d的位置。接著，如圖14(c)所不，使最小的電極掩|旲側(cè)標(biāo)記52d罪近最小的圓片側(cè)標(biāo)記71d。然后，如圖14(d)所示，將這些圓片側(cè)標(biāo)記71d和電極掩模側(cè)標(biāo)記52d的位置對(duì)齊，完成電極膜用掩模42對(duì)圓片S的對(duì)位(S46)。如此，利用最小的圓片側(cè)標(biāo)記71d和最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記52d，能高精度地進(jìn)行電極膜用掩模42的對(duì)位。即，利用最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記52d及圓片側(cè)標(biāo)記71d，作為電極掩模側(cè)標(biāo)記組52和圓片側(cè)標(biāo)記組71的對(duì)位用標(biāo)記，并將包括電極掩模側(cè)標(biāo)記52d及圓片側(cè)標(biāo)記71d在內(nèi)的所有電極掩模側(cè)標(biāo)記52a 52d及圓片側(cè)標(biāo)記71a 71d利用到電極標(biāo)記組檢測(cè)工序中。如圖12所示，在圓片S配置電極膜用掩模42后，隔著該電極膜用掩模42對(duì)未圖示的光刻膠膜曝光蝕膠圖案(S47a)。若結(jié)束曝光就拆下電極膜用掩模42，然后進(jìn)行光刻膠膜的顯影，除去曝光部分(S47b)。然后，以殘存的光刻膠膜為掩模進(jìn)行金屬蝕刻而進(jìn)行構(gòu)圖。其后除去作為掩模的光刻膠膜，從而形成激振電極15及重錘金屬膜21，結(jié)束電極形成工序(S40)。在進(jìn)行電極形成工序(S40)后，對(duì)形成在圓片S上的所有振動(dòng)臂部10、11、12進(jìn)行粗調(diào)諧振頻率的粗調(diào)工序(S51)。這是例如對(duì)重錘金屬膜21的粗調(diào)膜21a(參照?qǐng)D5、圖6)照射激光，使加在一對(duì)振動(dòng)臂部10、11前端的重量減輕，從而粗調(diào)頻率的工序。接下來(lái)，切斷連結(jié)圓片S和壓電振動(dòng)片4的未圖示的連結(jié)部，從而進(jìn)行從圓片S切離出多個(gè)壓電振動(dòng)片4而小片化的切斷工序(S52)。由此，能夠從圓片S—次制造多個(gè)形成有激振電極15、裝配電極16、17、引出電極19、20及重錘金屬膜21的壓電振動(dòng)片4。(效果)因而，依據(jù)上述的實(shí)施方式，通過(guò)將用于外形掩模41的對(duì)位的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記定為由多個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d構(gòu)成的外形掩模側(cè)標(biāo)記組51,將用于圓片S和電極膜用掩模42的對(duì)位的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記定為各自由多個(gè)圓片側(cè)標(biāo)記71a 71d構(gòu)成的圓片側(cè)標(biāo)記組71、以及由多個(gè)電極掩模側(cè)標(biāo)記52a 52d構(gòu)成的電極掩模側(cè)標(biāo)記組52,分別以從最大的標(biāo)記 51a、52a、71a到最小的標(biāo)記51d、52d、71d順序進(jìn)行確定,從而能夠迅速地確定最小的標(biāo)記51d、52d、71d。此外，通過(guò)在對(duì)位上利用最小的標(biāo)記51d、52d、71d，進(jìn)一步確定外形形成工序(S20)、電極形成工序(S40)，則能夠容易且高精度地進(jìn)行抗蝕劑圖案形成工序(S23、S43)。此外，各標(biāo)記51a 71d中，除了最大的標(biāo)記51a 71a以外3個(gè)標(biāo)記51b 71d配置在最大的標(biāo)記51a 71a的形成范圍Wl內(nèi)。除此之外，在既定的排列圖案中各標(biāo)記51a 71d配置成為從最大的標(biāo)記51a 71a起標(biāo)記變小地毗連而在圖11中的右下側(cè)依次
錯(cuò)開因此,在確定最大的標(biāo)記51a 71a的時(shí)刻,能夠容易預(yù)測(cè)最小的標(biāo)記51d 71d的位置，因此能夠提高在確定最大的標(biāo)記51a 71a后確定最小的標(biāo)記51d 71d為止的
操作效率。此外,通過(guò)將各標(biāo)記51a 71d形成為十字狀,能夠在最大的標(biāo)記51a 71a的形成范圍Wl配置其它標(biāo)記51b 71d。S卩，例如，在將各外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d定為圓形狀的情況下,難以在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的圓的內(nèi)側(cè)形成其它外形掩模側(cè)標(biāo)記51b 51d。因此,需要較大地確保配置多個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d的范圍。但是,通過(guò)將外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d形成為十字狀,能夠在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記51a的形成范圍Wl，形成其它外形掩模側(cè)標(biāo)記51b 51d，因此能夠謀求節(jié)省配置外形掩模側(cè)標(biāo)記51a 51d的范圍的空間。同樣地，也能謀求節(jié)省配置各標(biāo)記52a 71d的范圍的空間。(振蕩器)接著，基于圖18，對(duì)本發(fā)明的振蕩器的一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖18是振蕩器的結(jié)構(gòu)圖。如該圖所示，振蕩器100將壓電振動(dòng)器I構(gòu)成為電連接至集成電路101的振子。該振蕩器100具備安裝了電容器等的電子部件102的基板103。在基板103安裝有振蕩器用的上述集成電路101，在該集成電路101的附近安裝有壓電振動(dòng)器I。這些電子部件102、集成電路101及壓電振動(dòng)器I通過(guò)未圖示的布線圖案分別電連接。此外，各構(gòu)成部件通過(guò)未圖示的樹脂來(lái)模制(mould)。在這樣構(gòu)成的振蕩器100中，對(duì)壓電振動(dòng)器I施加電壓時(shí)，該壓電振動(dòng)器I內(nèi)的壓電振動(dòng)片4振動(dòng)。通過(guò)壓電振動(dòng)片4所具有的壓電特性，將該振動(dòng)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，以電信號(hào)方式輸入至集成電路101。通過(guò)集成電路101對(duì)輸入的電信號(hào)進(jìn)行各種處理，以頻率信號(hào)的方式輸出。從而，壓電振動(dòng)器I作為振子起作用。此外，根據(jù)需求有選擇地設(shè)定集成電路101的結(jié)構(gòu)，例如RTC(實(shí)時(shí)時(shí)鐘)模塊等，除了鐘表用單功能振蕩器等之外，還能夠附加控制該設(shè)備或外部設(shè)備的工作日期、時(shí)刻或者提供時(shí)刻、日歷等的功能。(效果)因而，依據(jù)上述的振蕩器100，由于具備低成本化的可靠性高的壓電振動(dòng)器1，所以振蕩器100本身也同樣能謀求低成本化。而且，除此之外,能夠得到長(zhǎng)期穩(wěn)定的高精度的
頻率信號(hào)。(電子設(shè)備)接著，基于圖19，就本發(fā)明的電子設(shè)備的一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。此外作為電子設(shè)備，舉例說(shuō)明了具有上述壓電振動(dòng)器I的便攜信息設(shè)備110。圖19是作為電子設(shè)備的便攜信息設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖。如該圖所示，便攜信息設(shè)備110例如以便攜電話為代表，發(fā)展并改良了現(xiàn)有技術(shù)中的手表。外觀類似于手表，在相當(dāng)于字符盤的部分配有液晶顯示器，能夠在該畫面上顯示當(dāng)前的時(shí)刻等。此外，在作為通信機(jī)而利用的情況下，從手腕取下，通過(guò)內(nèi)置于表帶內(nèi)側(cè)部分的揚(yáng)聲器和麥克風(fēng)而能夠進(jìn)行與現(xiàn)有技術(shù)的便攜電話相同的通信。然而，與現(xiàn)有的便攜電話相比較，明顯小型化且輕型化。(便攜信息設(shè)備)下面，對(duì)本實(shí)施方式的便攜信息設(shè)備110的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。該便攜信息設(shè)備110具備壓電振動(dòng)器I和供電用的電源部111。電源部111例如由鋰二次電池構(gòu)成。進(jìn)行各種控制的控制部112、進(jìn)行時(shí)刻等的計(jì)數(shù)的計(jì)時(shí)部113、與外部進(jìn)行通信的通信部114、顯示各種信息的顯示部115、和檢測(cè)各功能部的電壓的電壓檢測(cè)部116與該電源部111并聯(lián)連接。而且，通過(guò)電源部111來(lái)對(duì)各功能部供電?？刂撇?12控制各功能部，進(jìn)行聲音數(shù)據(jù)的發(fā)送及接收、當(dāng)前時(shí)刻的測(cè)量、顯示等的整個(gè)系統(tǒng)的動(dòng)作控制。此外，控制部112具備預(yù)先寫入程序的ROM、讀取寫入到該ROM的程序并執(zhí)行的CPU、和作為該CPU的工作區(qū)使用的RAM等。計(jì)時(shí)部113具備壓電振動(dòng)器I和內(nèi)置了振蕩電路、寄存器電路、計(jì)數(shù)器電路及接口電路等的集成電路。對(duì)壓電振動(dòng)器I施加電壓時(shí)壓電振動(dòng)片4振動(dòng)，通過(guò)水晶所具有的壓電特性，該振動(dòng)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，以電信號(hào)的方式輸入到振蕩電路。振蕩電路的輸出被二值化，通過(guò)寄存器電路和計(jì)數(shù)器電路來(lái)計(jì)數(shù)。然后，通過(guò)接口電路，與控制部112進(jìn)行信號(hào)的發(fā)送與接收，在顯示部115顯示當(dāng)前時(shí)刻或當(dāng)前日期或者日歷信息等。通信部114具有與現(xiàn)有的便攜電話相同的功能，具備無(wú)線電部117、聲音處理部118、切換部119、放大部120、聲音輸入輸出部121、電話號(hào)碼輸入部122、來(lái)電音發(fā)生部123及呼叫控制存儲(chǔ)器部124。通過(guò)天線125，無(wú)線電部117與基站進(jìn)行收發(fā)聲音數(shù)據(jù)等各種數(shù)據(jù)的交換。聲音處理部118對(duì)從無(wú)線電部117或放大部120輸入的聲音信號(hào)進(jìn)行編碼及解碼。放大部120將從聲音處理部118或聲音輸入輸出部121輸入的信號(hào)放大到既定電平。聲音輸入輸出部121由揚(yáng)聲器或麥克風(fēng)等構(gòu)成,擴(kuò)大來(lái)電音或受話聲音，或者將聲音攏音。此外，來(lái)電音發(fā)生部123響應(yīng)來(lái)自基站的呼叫而生成來(lái)電音。切換部119僅在來(lái)電時(shí)，通過(guò)將連接在聲音處理部118的放大部120切換到來(lái)電音發(fā)生部123，在來(lái)電音發(fā)生部123中生成的來(lái)電音經(jīng)由放大部120輸出至聲音輸入輸出部121。此外，呼叫控制存儲(chǔ)器部124存放與通信的呼叫及來(lái)電控制相關(guān)的程序。此外，電話號(hào)碼輸入部122具備例如O至9的號(hào)碼鍵及其它鍵，通過(guò)按壓這些號(hào)碼鍵等，輸入通話目的地的電話號(hào)碼等。電壓檢測(cè)部116在通過(guò)電源部111對(duì)控制部112等的各功能部施加的電壓小于既定值時(shí)，檢測(cè)其電壓下降后通知控制部112。這時(shí)的既定電壓值是作為使通信部114穩(wěn)定動(dòng)作所需的最低限的電壓而預(yù)先設(shè)定 的值，例如，3V左右。從電壓檢測(cè)部116收到電壓降的通知的控制部112禁止無(wú)線電部117、聲音處理部118、切換部119及來(lái)電音發(fā)生部123的動(dòng)作。特別是，停止耗電較大的無(wú)線電部117的動(dòng)作是必需的。而且，顯示部115顯示通信部114由于電池余量的不足而不能使用的提示。S卩，能夠由電壓檢測(cè)部116和控制部112禁止通信部114的動(dòng)作并在顯示部115顯示該提示。該顯示可以是文字消息，但作為更直觀的顯示，也可以在顯示于顯示部115的顯示面的上部的電話圖標(biāo)打“ X (叉)”標(biāo)記。此外，通過(guò)具備能夠有選擇地截?cái)嗯c通信部114的功能相關(guān)的部分的電源的電源截?cái)嗖?26，能夠更加可靠地停止通信部114的功能。(效果)因而，依據(jù)上述的便攜信息設(shè)備110，由于具備低成本化的可靠性高的壓電振動(dòng)器1，所以便攜信息設(shè)備本身也同樣能謀求低成本化。而且，除此以外，能夠顯示長(zhǎng)期穩(wěn)定的高精度的時(shí)鐘信息。(電波鐘)接著，基于圖20，就本發(fā)明的電波鐘的一實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。 圖20是示出電波鐘的一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。如該圖所示，本實(shí)施方式的電波鐘130具備電連接到濾波部131的壓電振動(dòng)器1，是接收包含時(shí)鐘信息的標(biāo)準(zhǔn)電波，并具有自動(dòng)修正為正確的時(shí)刻并加以顯示的功能的鐘表。在日本國(guó)內(nèi)，在福島縣(40kHz)和佐賀縣(60kHz)有發(fā)送標(biāo)準(zhǔn)電波的發(fā)送站(發(fā)送局)，分別發(fā)送標(biāo)準(zhǔn)電波。40kHz或60kHz這樣的長(zhǎng)波兼有沿地表傳播的性質(zhì)和在電離層和地表一邊反射一邊傳播的性質(zhì)，因此其傳播范圍寬，且由上述的兩個(gè)發(fā)送站覆蓋整個(gè)日本國(guó)內(nèi)。以下，對(duì)電波鐘130的功能性結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。天線132接收40kHz或60kHz長(zhǎng)波的標(biāo)準(zhǔn)電波。長(zhǎng)波的標(biāo)準(zhǔn)電波對(duì)被稱為定時(shí)碼的時(shí)刻信息實(shí)施AM調(diào)制成為40kHz或60kHz的載波。所接收的長(zhǎng)波的標(biāo)準(zhǔn)電波由放大器133放大，由具有多個(gè)壓電振動(dòng)器I的濾波部131濾波并調(diào)諧。本實(shí)施方式中的壓電振動(dòng)器I分別具備與上述載波頻率相同的40kHz及60kHz的諧振頻率的水晶振動(dòng)器部138、139。而且，濾波后的既定頻率的信號(hào)通過(guò)檢波、整流電路134來(lái)檢波并解調(diào)。接著，經(jīng)由波形整形電路135而抽出定時(shí)碼，由CPU136計(jì)數(shù)。在CPU136中，讀取當(dāng)前的年、累積日、星期、時(shí)刻等的信息。被讀取的信息反映于RTC137，顯示出正確的時(shí)刻信息。由于載波為40kHz或60kHz，所以水晶振動(dòng)器部138、139優(yōu)選具有上述的音叉型結(jié)構(gòu)的振動(dòng)器。此外，雖然上述的說(shuō)明由日本國(guó)內(nèi)的示例表示，但長(zhǎng)波的標(biāo)準(zhǔn)電波的頻率在海外是不同的。例如，在德國(guó)使用77.5KHZ的標(biāo)準(zhǔn)電波。所以，在將即使在海外也能夠?qū)?yīng)的電波鐘130裝入便攜設(shè)備的情況下，還需要與日本的情況不同的頻率的壓電振動(dòng)器I。(效果)因而，依據(jù)上述的電波鐘130，由于具備低成本化的可靠性高的壓電振動(dòng)器1，所以電波鐘本身也同樣能謀求低成本化。而且，除此之外，能夠長(zhǎng)期穩(wěn)定且高精度地對(duì)時(shí)刻進(jìn)行計(jì)數(shù)。此外，本發(fā)明的技術(shù)范圍并不局限于上述實(shí)施的方式，在不超出本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)可做各種變更。例如，在上述的實(shí)施方式中，對(duì)于以下情況進(jìn)行了說(shuō)明，即在制造壓電振動(dòng)器I時(shí)所使用的外形掩模41上，形成外形掩模側(cè)標(biāo)記組51作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并且在電極膜用掩模42上形成電極掩模側(cè)標(biāo)記組52作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,這些標(biāo)記組51、52由十字狀的標(biāo)記51a 52d構(gòu)成。此外，還說(shuō)明了以下情況，即在圖11中，各標(biāo)記51a 52d被配置成為從最大的標(biāo)記51a、52a起由大到小的標(biāo)記的順序逐漸向右下方錯(cuò)開。但是，并不限于此，各標(biāo)記組51、52由不同大小的至少2個(gè)標(biāo)記構(gòu)成即可，并不限于十字形狀。此外，各標(biāo)記按既定的排列圖案配置即可，各標(biāo)記的排列圖案并不限于圖11所示的排列圖案。更具體地說(shuō)，例如為如圖21所示那樣的標(biāo)記組81也可。圖21是各標(biāo)記組的其它實(shí)施方式的詳細(xì)圖。如該圖所示,標(biāo)記組81由多個(gè)(例如4個(gè))標(biāo)記81a 81d構(gòu)成。各標(biāo)記81a 81d形成為四邊形的邊框狀，其大小分別不同。然后，從最大的標(biāo)記81a到最小的標(biāo)記81d，朝著圖21中的右方向依次排列配置。利用這樣構(gòu)成的標(biāo)記組81進(jìn)行外形掩模41的對(duì)位以及電極膜用掩模42的對(duì)位，也能發(fā)揮與上述的實(shí)施方式同樣的效果。附圖標(biāo)記說(shuō)明I壓電振動(dòng)器；4壓電振動(dòng)片；13第一激振電極；14第二激振電極；15激振電極(電極部)；24壓電板；41外形掩模；42電極膜用掩模；51外形掩模側(cè)標(biāo)記組；51a最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記；51b、51c外形掩模側(cè)標(biāo)記；51d最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記；52電極掩模側(cè)標(biāo)記 組；52a最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記；52b、52c 電極掩模側(cè)標(biāo)記；52d最小的電極掩模側(cè)標(biāo)記；71圓片側(cè)標(biāo)記組；71a最大的圓片側(cè)標(biāo)記；71b、71c圓片側(cè)標(biāo)記；71d最小的圓片側(cè)標(biāo)記；81標(biāo)記組；81a最大的標(biāo)記；81b、81c標(biāo)記；81d最小的標(biāo)記;100振湯器;101集成電路；110便攜信息設(shè)備(電子設(shè)備)；113時(shí)計(jì)部；130電波鐘；131濾波部；S圓片。
權(quán)利要求
1.一種壓電振動(dòng)片的制造方法，其中壓電振動(dòng)片具備壓電板、和當(dāng)被施加電壓時(shí)使所述壓電板振動(dòng)的電極部，所述制造方法的特征在于，包括 外形形成工序，在對(duì)由壓電材料構(gòu)成的圓片的兩面涂敷壓電板形成用掩模材料之后，配置為形成所述壓電板而準(zhǔn)備的一對(duì)外形掩模，其后，隔著這些外形掩模照射光以形成所述壓電板的外形；以及 抗蝕劑圖案形成工序，在對(duì)形成有所述壓電板的外形形狀的所述圓片涂敷電極膜掩模材料之后，配置為電極膜而準(zhǔn)備的電極膜用掩模，然后，隔著所述電極膜用掩模照射光以形成抗蝕劑圖案， 所述抗蝕劑圖案形成工序包括 電極標(biāo)記組檢測(cè)工序，檢測(cè)形成在所述圓片的圓片側(cè)標(biāo)記組、和形成在所述電極膜用掩模的電極掩模側(cè)標(biāo)記組；以及 電極掩模配置工序，使所述圓片側(cè)標(biāo)記組與所述電極掩模側(cè)標(biāo)記組對(duì)位，并對(duì)所述圓片配置所述電極膜用掩模， 所述圓片側(cè)標(biāo)記組由大小彼此不同的至少2個(gè)圓片側(cè)標(biāo)記構(gòu)成， 所述電極掩模側(cè)標(biāo)記組由大小彼此不同的至少2個(gè)電極掩模側(cè)標(biāo)記構(gòu)成， 將各自最小的圓片側(cè)標(biāo)記及電極掩模側(cè)標(biāo)記用作為彼此的標(biāo)記對(duì)位，將最小的圓片側(cè)標(biāo)記、除電極掩模側(cè)標(biāo)記以外的所有圓片側(cè)標(biāo)記、以及電極掩模側(cè)標(biāo)記，用于所述電極標(biāo)記組檢測(cè)工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于， 各圓片側(cè)標(biāo)記以及各電極掩模側(cè)標(biāo)記分別以既定的排列圖案配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于， 各圓片側(cè)標(biāo)記在最大的圓片側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它圓片側(cè)標(biāo)記，并且 各電極掩模側(cè)標(biāo)記在最大的電極掩模側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它電極掩模側(cè)標(biāo)記。
4.一種壓電振動(dòng)片的制造方法，其中壓電振動(dòng)片具備壓電板、和當(dāng)被施加電壓時(shí)使所述壓電板振動(dòng)的電極部，所述制造方法的特征在于，包括 外形形成工序，在由壓電材料構(gòu)成的圓片的兩面涂敷壓電板形成用掩模材料后，配置為形成所述壓電板而準(zhǔn)備的一對(duì)外形掩模，然后，隔著這些外形掩模照射光以形成所述壓電板的外形；以及 抗蝕劑圖案形成工序，在形成有所述壓電板的外形形狀的所述圓片涂敷電極膜掩模材料后，配置為電極膜而準(zhǔn)備的電極膜用掩模，然后，隔著所述電極膜用掩模照射光以形成抗蝕劑圖案， 所述外形形成工序包括 外形標(biāo)記組檢測(cè)工序，檢測(cè)形成在各外形掩模的外形掩模側(cè)標(biāo)記組；以及外形掩模配置工序，使各外形掩模的外形掩模側(cè)標(biāo)記組的位置對(duì)齊并在所述圓片配置各外形掩模， 所述外形掩模側(cè)標(biāo)記組由彼此大小不同的至少2個(gè)外形掩模側(cè)標(biāo)記構(gòu)成， 將形成在各外形掩模的最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記用作為彼此的標(biāo)記對(duì)位，將除最小的外形掩模側(cè)標(biāo)記以外的所有外形掩模側(cè)標(biāo)記，利用到所述外形標(biāo)記組檢測(cè)工序中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各外形掩模側(cè)標(biāo)記分別以既定的排列圖案配置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓電振動(dòng)片的制造方法，其特征在于，各外形掩模側(cè)標(biāo)記在最大的外形掩模側(cè)標(biāo)記的形成范圍內(nèi)，配置有其它外形掩模側(cè)標(biāo)記。
全文摘要
本發(fā)明提供一種提高掩模對(duì)位的操作性并提高對(duì)位精度、能容易且高精度地形成壓電板、電極的壓電振動(dòng)片的制造方法、壓電振動(dòng)器、振蕩器、電子設(shè)備及電波鐘。包括檢測(cè)圓片側(cè)標(biāo)記組(71)和電極掩模側(cè)標(biāo)記組(52)的電極標(biāo)記組檢測(cè)工序；以及將圓片側(cè)標(biāo)記組(71)和電極掩模側(cè)標(biāo)記組(52)對(duì)位并在圓片上配置電極膜用掩模的電極掩模配置工序，圓片側(cè)標(biāo)記組(71)及電極掩模側(cè)標(biāo)記組(52)分別以彼此大小不同的標(biāo)記(51a～71d)構(gòu)成，將各自最小的圓片側(cè)標(biāo)記(71d)及電極掩模側(cè)標(biāo)記(52d)用作為彼此的標(biāo)記對(duì)位，將除此以外的圓片側(cè)標(biāo)記(71a～71c)及電極掩模側(cè)標(biāo)記(52a～52c)利用到電極標(biāo)記組檢測(cè)工序中。
文檔編號(hào)H03H3/02GK102638236SQ201210040479
公開日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2012年2月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月14日
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