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一種n型單晶片的p型摻雜方法

文檔序號:8224946閱讀:1419來源:國知局
一種n型單晶片的p型摻雜方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及太陽能電池制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種N型單晶片的P型摻雜方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前的太陽能電池的一種常見的制造方法是在P型硅片上以絲網(wǎng)印刷方式制作正負電極。然而這種電池中,由于P型硅片的硼含量較高,形成的硼氧對會導致光照下少數(shù)載流子壽命的衰退。而采用N型硅片作為基體的太陽能電池的硼含量較低,因此其少數(shù)載流子的壽命能夠得以改善,其光電轉(zhuǎn)換效率達到了 20%以上,在低成本高效太陽能電池方面具有良好的發(fā)展?jié)摿Α?br>[0003]利用現(xiàn)有技術(shù)制作N型太陽能電池時,需要對N型單晶片進行硼摻雜以形成PN結(jié)。目前的N型單晶片實現(xiàn)硼摻雜的主要方式為:使用BBr3氣體作為硼源,在近1000°C的高溫下使硼原子擴散進硅基體,對于還需要形成N+發(fā)射極的N型電池,還要使用?0(:13氣體作為磷源對單晶片在高溫860°C左右下進行磷擴散。
[0004]通過上述描述可知,利用現(xiàn)有技術(shù)制作N型太陽能電池時,由于單晶片需要經(jīng)過至少一次高溫擴散工藝,因此會降低單晶片的少數(shù)載流子壽命,進而造成太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率的降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為解決上述問題,本發(fā)明提供了一種N型單晶片的P型摻雜方法,能夠提高單晶片的少子壽命,從而提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
[0006]本發(fā)明提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法包括:
[0007]在N型單晶片的表面設(shè)置含有P型元素的摻雜漿料;
[0008]烘干所述摻雜漿料;
[0009]激光掃描所述摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中。
[0010]優(yōu)選的,在上述方法中,所述P型元素為硼。
[0011]優(yōu)選的,在上述方法中,所述N型單晶片的材質(zhì)為硅。
[0012]優(yōu)選的,在上述方法中,采用絲網(wǎng)印刷的方法設(shè)置所述摻雜漿料。
[0013]優(yōu)選的,在上述方法中,所述摻雜漿料的厚度為7微米至10微米,包括端點值。
[0014]優(yōu)選的,在上述方法中,所述烘干的溫度為300°C至350°C,包括端點值。
[0015]優(yōu)選的,在上述方法中,所述烘干的時間為6分鐘至10分鐘,包括端點值。
[0016]優(yōu)選的,在上述方法中,利用532ns綠光固體激光器對所述摻雜漿料進行激光掃描。
[0017]優(yōu)選的,在上述方法中,所述激光頻率為80KHz至150KHZ,包括端點值。
[0018]優(yōu)選的,在上述方法中,所述激光掃描的速度為100mm/s至1000mm/s。
[0019]通過上述描述可知,本發(fā)明提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法中,利用激光掃描摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中,避免了能夠降低少數(shù)載流子壽命的高溫擴散過程,因此能夠提高單晶片的少子壽命,從而能夠提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
【附圖說明】
[0020]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0021]圖1為本申請實施例提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法的示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0023]本申請實施例提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法如圖1所示,圖1為本申請實施例提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法的示意圖。該方法包括如下步驟:
[0024]S1:在N型單晶片的表面設(shè)置含有P型元素的摻雜漿料;
[0025]在該步驟中,可以將所述含有P型元素的摻雜漿料設(shè)置成太陽能電池的電極圖案,從而能夠方便制作電極的PN結(jié)。
[0026]S2:烘干所述摻雜漿料;
[0027]在該步驟中,通過烘干工藝的調(diào)節(jié),使得烘干效果更好,提高摻雜漿料的穩(wěn)定性。
[0028]S3:激光掃描所述摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中。
[0029]在該步驟中,利用激光掃描工藝取代了高溫擴散工藝,從而避免了少數(shù)載流子壽命的降低,從而提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
[0030]通過上述描述可知,本實施例提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法中,利用激光掃描摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中,避免了能夠降低少數(shù)載流子壽命的尚溫擴散過程,因此能夠提尚單晶片的少子壽命,從而能夠提尚太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
[0031]在上述方法中,所述P型元素可以優(yōu)選為硼,所述N型單晶片的材質(zhì)為硅,從原子的角度來說,硼原子更易于摻雜入硅單晶的晶格中,這樣就能夠使得摻雜更均勻,效果更好。
[0032]在上述方法中,可以優(yōu)選的采用絲網(wǎng)印刷的方法設(shè)置所述摻雜漿料。這樣就能從一開始就形成太陽能電池電極的圖案,從而使后續(xù)激光掃描形成的PN結(jié)的位置更為精確。
[0033]在上述方法中,所述摻雜漿料的厚度可以優(yōu)選為7微米至10微米,包括端點值,這樣每片的濕重控制在0.1克至0.5克。這樣既能保證PN結(jié)正常形成,又能節(jié)約漿料,從而能夠降低生產(chǎn)成本。
[0034]在上述方法中,所述烘干的溫度可以優(yōu)選為300°C至350°C,包括端點值,所述烘干的時間可以優(yōu)選為6分鐘至10分鐘,包括端點值。這樣就能夠使得漿料得到有效的干燥,并且提高漿料的穩(wěn)定性和均勻性,使其在激光掃描過程中能夠更為有效的摻雜進硅單晶中,使形成的PN結(jié)的結(jié)深更為一致,從而有效提高光電轉(zhuǎn)換效率。
[0035]在上述方法中,可以優(yōu)選的利用532ns綠光固體激光器對所述摻雜漿料進行激光掃描,所述激光頻率可以優(yōu)選為80KHz至150KHz,包括端點值,所述激光掃描的速度可以優(yōu)選為100mm/S至1000mm/S。利用這種激光器能夠更有效的將摻雜漿料中的硼原子摻入硅基體,通過這種優(yōu)化的激光頻率和掃描速度,能夠簡便易行實現(xiàn)對N型單晶片的P型摻雜。
[0036]通過上述描述可知,本實施例提供的一種N型單晶片的P型摻雜方法避免了能夠降低少數(shù)載流子壽命的高溫擴散過程,因此能夠提高單晶片的少子壽命,從而能夠提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
[0037]另外本申請實施例還提供了兩種具體的實施方案,其中,第一種實施方案為:
[0038]在經(jīng)過處理的N型單晶片表面印刷摻雜漿料,漿料濕重為0.11克/片;
[0039]在350 °C下烘干8分鐘;
[0040]使用532ns激光器,設(shè)置激光頻率為80KHz,掃描速度為1000mm/S,對設(shè)置有P型摻雜漿料的N型單晶片表面進行摻雜。
[0041]第二種實施方案為:
[0042]在經(jīng)過處理的N型單晶片表面印刷摻雜漿料,漿料濕重為0.13克/片;
[0043]在350 °C下烘干10分鐘;
[0044]使用532ns激光器,設(shè)置激光頻率為ΙΟΟΚΗζ,掃描速度為800mm/s,對設(shè)置有摻雜漿料的N型單晶片表面進行摻雜。
[0045]對所公開的實施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下,在其它實施例中實現(xiàn)。因此,本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種N型單晶片的P型摻雜方法,其特征在于,包括: 在N型單晶片的表面設(shè)置含有P型元素的摻雜漿料; 烘干所述摻雜漿料; 激光掃描所述摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述P型元素為硼。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述N型單晶片的材質(zhì)為硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,采用絲網(wǎng)印刷的方法設(shè)置所述摻雜漿料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述摻雜漿料的厚度為7微米至10微米,包括端點值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的方法,其特征在于,所述烘干的溫度為300°C至350°C,包括端點值。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述烘干的時間為6分鐘至10分鐘,包括端點值。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,利用532ns綠光固體激光器對所述摻雜漿料進行激光掃描。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述激光頻率為80KHz至150KHz,包括端點值。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述激光掃描的速度為100mm/s至1000mm/so
【專利摘要】本申請公開了一種N型單晶片的P型摻雜方法,包括:在N型單晶片的表面設(shè)置含有P型元素的摻雜漿料;烘干所述摻雜漿料;激光掃描所述摻雜漿料,將所述P型元素摻入所述N型單晶片中。該方法避免了能夠降低少數(shù)載流子壽命的高溫擴散過程,因此能夠提高單晶片的少子壽命,從而能夠提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
【IPC分類】H01L21-268, H01L21-225, H01L31-18
【公開號】CN104538504
【申請?zhí)枴緾N201510035930
【發(fā)明人】蔡永梅, 蔣方丹, 金浩
【申請人】浙江晶科能源有限公司, 晶科能源有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2015年1月23日
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