技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種制備垂直磁特性可調納米厚度GdFeCo合金薄膜的簡單新方法，采用磁控濺射方法，在一定成分范圍內，通過控制生長薄膜的厚度可有效調節(jié)制備的納米厚度合金薄膜的磁性能，實現(xiàn)垂直磁特性的大范圍連續(xù)變化，并可在金屬緩沖(電極)層或者氧化物緩沖層上生長實現(xiàn)，與磁電器件完全兼容。這種制備垂直磁特性可調的納米厚度亞鐵磁GdFeCo合金薄膜的新工藝極其簡單、可在較大范圍內連續(xù)調節(jié)薄膜的垂直磁特性包括矯頑力和飽和磁化強度，滿足磁電器件不同功能層以及超快光磁記錄領域的材料需要。

技術研發(fā)人員：王可;徐展
受保護的技術使用者：華僑大學
技術研發(fā)日：2017.06.09
技術公布日：2017.10.20