本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式涉及具有多個(gè)排氣管和氣體傳感器的半導(dǎo)體器件制造裝置。

背景技術(shù)：

為了提高半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)率，已經(jīng)提出了使用能夠在一個(gè)腔室中執(zhí)行多種工藝的空間分割方法的半導(dǎo)體器件制造裝置。該裝置需要空間上清楚的劃分使得在腔室中氣體不彼此混合。本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式提供能夠快速地監(jiān)測在其腔室中氣體是否彼此混合的裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式提供一種能夠確定空間劃分是否清楚的半導(dǎo)體器件制造裝置。

本發(fā)明構(gòu)思的另外的實(shí)施方式提供一種具有能夠感測和分析廢氣的成分的氣體傳感器的半導(dǎo)體器件制造裝置。

本發(fā)明構(gòu)思的技術(shù)目的不限于上述內(nèi)容；基于以下描述另外的目的可以對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員變得明顯。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種半導(dǎo)體器件制造裝置包括設(shè)置在腔室的頂部的噴頭、設(shè)置在噴頭上的供氣部件、設(shè)置在腔室中的基座和設(shè)置在腔室之下的排氣部件。腔室具有彼此連通但實(shí)際上彼此分隔的第一反應(yīng)空間和第二反應(yīng)空間。供氣部件包括將第一氣體供應(yīng)進(jìn)第一反應(yīng)空間中的第一供氣管和將第二氣體供應(yīng)進(jìn)第二反應(yīng)空間中的第二供氣管。排氣部件包括：鄰近第一反應(yīng)空間設(shè)置的第一排氣管和鄰近第二反應(yīng)空間設(shè)置的第二排氣管，第一排氣管和第二排氣管設(shè)置在基座的彼此相反的側(cè)；連接到第一排氣管并感測第二氣體的第一氣體傳感器；以及連接到第二排氣管并感測第一氣體的第二氣體傳感器。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種半導(dǎo)體器件制造裝置包括：具有彼此連通但實(shí)際上彼此隔開的第一反應(yīng)空間和第二反應(yīng)空間的腔室；設(shè)置在腔室的頂部的噴頭，其中噴頭包括設(shè)置在第一反應(yīng)空間之上的第一內(nèi)室和設(shè)置在第二反應(yīng)空間之上的第二內(nèi)室；設(shè)置在噴頭上的供氣部件，其中供氣部件包括設(shè)置在第一內(nèi)室之上的第一供氣管和設(shè)置在第二內(nèi)室之上的第二供氣管；設(shè)置在腔室中并且其上安裝多個(gè)晶片的基座；設(shè)置在腔室之下的第一排氣管和第二排氣管；以及分別連接到第一排氣管和第二排氣管的第一氣體傳感器和第二氣體傳感器。第一供氣管、第一內(nèi)室、第一反應(yīng)空間和第一排氣管的開口在空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)。第二供氣管、第二內(nèi)室、第二反應(yīng)空間和第二排氣管的開口在空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種半導(dǎo)體器件制造裝置包括：具有第一至第四反應(yīng)空間的腔室；設(shè)置在腔室的頂部的噴頭，其中噴頭包括上板和下板，上板具有第一至第四氣體入口，下板具有隔開物以限定分別在空間上連接到第一至第四氣體入口的第一至第四內(nèi)室；設(shè)置在腔室中且其上安裝多個(gè)晶片的基座；設(shè)置在基座的兩側(cè)的第一排氣管和第二排氣管；空間上連接到第一排氣管的第一氣體傳感器；以及空間上連接到第二排氣管的第二氣體傳感器。第一氣體入口、第一內(nèi)室、第一反應(yīng)空間和第一排氣管的開口在空間上彼此對(duì)準(zhǔn)；第二氣體入口、第二內(nèi)室、第二反應(yīng)空間和第二排氣管的開口在空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)；第三氣體入口、第三內(nèi)室、第三反應(yīng)空間和第三排氣管的開口在空間上彼此對(duì)準(zhǔn)；第四氣體入口、第四內(nèi)室、第四反應(yīng)空間和第四排氣管的開口在空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)。第二氣體傳感器感測經(jīng)過第一氣體入口、第一內(nèi)室、第一反應(yīng)空間和第二排氣管的第一氣體，第一氣體傳感器感測經(jīng)過第二氣體入口、第二內(nèi)室、第二反應(yīng)空間和第一排氣管的第二氣體。第一氣體傳感器對(duì)第一氣體和第三氣體不敏感，第二氣體傳感器對(duì)第二氣體和第三氣體不敏感。第三氣體經(jīng)過第三氣體入口、第三內(nèi)室、第三反應(yīng)空間和第一與第二排氣管。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種半導(dǎo)體器件制造裝置包括限定第一反應(yīng)空間和第二反應(yīng)空間的腔室、在腔室的頂部的噴頭、氣體供給部件、在腔室中并且配置為托住多個(gè)晶片的基座、第一排氣管、第二排氣管、第一氣體傳感器和第二氣體傳感器。噴頭限定第一反應(yīng)空間之上的第一內(nèi)室和第二反應(yīng)空間之上的第二內(nèi)室。氣體供給部件包括連接到噴頭的第一內(nèi)室的第一供氣管和連接到噴頭的第二內(nèi)室的第二供氣管。第一供氣管配置為供應(yīng)第一氣體經(jīng)過第一內(nèi)室并且至第一反應(yīng)空間。第二供氣管配置為供應(yīng)第二氣體經(jīng)過第二內(nèi)室并且至第二反應(yīng)空間。第一排氣管從腔室內(nèi)部延伸到外部并且包括鄰近基座的第一側(cè)的至少一個(gè)第一開口。第二排氣管從腔室內(nèi)部延伸到外部并且包括鄰近基座的第二側(cè)的至少一個(gè)第二開口，第二側(cè)與第一側(cè)相反。第一氣體傳感器與第一排氣管流體連通并且配置為在從第一反應(yīng)空間起且經(jīng)第一排氣管流動(dòng)的第一廢氣中感測第二氣體。第二氣體傳感器與第二排氣管流體連通并且配置為在從第二反應(yīng)空間起且經(jīng)第二排氣管流動(dòng)的第二廢氣中感測第一氣體。

另外的實(shí)施方式的細(xì)節(jié)包括在詳細(xì)描述和附圖中。

附圖說明

由對(duì)如附圖中所示的本發(fā)明構(gòu)思的優(yōu)選實(shí)施方式的更具體的描述，本發(fā)明構(gòu)思的前述的和另外的特征和優(yōu)點(diǎn)中將明顯，附圖中遍及不同的視圖相同的附圖標(biāo)記指代相同的部件。附圖不必然按比例繪制，相反重點(diǎn)被放在示出本發(fā)明構(gòu)思的原理上。附圖中：

圖1a和1b是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置的透視圖；

圖2a和2b是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置的內(nèi)部剖視圖；

圖3示出概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的上板的仰視圖(a)至(f)；

圖4a至4c是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的下板的俯視圖；

圖5a至5c是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的基座、第一和第二排氣管以及第一和第二氣體傳感器的俯視圖；

圖6a、7a和8a是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的基座、第一和第二排氣管以及第一和第二氣體傳感器的俯視圖；以及

圖6b、7b和8b是分別概念性地示出圖6a、7a和8a的第一和第二排氣管的透視圖。

具體實(shí)施方式

當(dāng)在此使用時(shí)，術(shù)語“空間上對(duì)準(zhǔn)”應(yīng)被解釋為意味著各元件不位于一直線上而是位于處于離開圖中的中心的一側(cè)且在一個(gè)方向上延伸的空間中。例如，應(yīng)理解，當(dāng)各元件在圖中位于離開中心的左側(cè)時(shí)，所述各元件可以被認(rèn)為在左邊的空間中彼此空間上對(duì)準(zhǔn)，當(dāng)所述各元件位于右側(cè)時(shí)，所述各元件可以被認(rèn)為在右邊的空間中彼此空間上對(duì)準(zhǔn)。圖1a和1b是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置10a和10b的透視圖。當(dāng)在此使用時(shí)，術(shù)語“空間上且垂直地對(duì)準(zhǔn)”和/或術(shù)語“垂直地對(duì)準(zhǔn)”應(yīng)被解釋為意味著各元件不位于一直線上而是位于處于離開圖中的中心的一側(cè)且在垂直方向上延伸的空間中。所述垂直方向可以平行于從稍后將描述的排氣部件至稍后將描述的供氣部件的方向。當(dāng)從俯視圖觀察時(shí)，處于離開圖中的中心的一側(cè)的空間具有圍繞圖中的中心在30°至160°的范圍內(nèi)的角。

參照?qǐng)D1a和1b，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置10a和10b中的每一個(gè)可以包括設(shè)置在腔室100之上的氣體供給或供氣部件200以及設(shè)置在腔室100下面或之下的氣體排出或排氣部件300。噴頭250可以設(shè)置在腔室100的頂部。

供氣部件200可以將各種各樣的氣體供應(yīng)進(jìn)腔室100中。例如，供氣部件200可以供應(yīng)前體、反應(yīng)氣體、吹掃氣體(purgegas)和清洗氣體。供氣部件200可以包括以放射狀的取向或形狀設(shè)置在腔室100的噴頭250上的多個(gè)供氣管210、220、230和240。例如，供氣部件200可以包括用于供應(yīng)第一氣體gs1的第一供氣管210、用于供應(yīng)第二氣體gs2的第二供氣管220、用于供應(yīng)第三氣體gs3的第三供氣管230和用于供應(yīng)第四氣體gs4的第四供氣管240。第一供氣管210和第二供氣管220可以設(shè)置為彼此相對(duì)。例如，當(dāng)在俯視圖中看時(shí)，第一氣體供給或供氣管210可以設(shè)置在噴頭250的左半部分上，第二氣體供給或供氣管220可以設(shè)置在噴頭250的右半部分上。第三供氣管230和第四供氣管240可以設(shè)置為彼此相對(duì)。例如，當(dāng)在俯視圖中看時(shí)，第三供氣管230可以設(shè)置在噴頭250的上半部分上，第四供氣管240可以設(shè)置在噴頭250的下半部分上。根據(jù)一些實(shí)施方式，第三供氣管230可以設(shè)置在噴頭250的后面或后方部分上，第四供氣管240可以設(shè)置在噴頭250的前面部分上。是相對(duì)概念的左半部分、右半部分、上半(或后面)部分和下半(或前面)部分可以是可彼此互換的。

在另外的實(shí)施方式中，第一供氣管210和第二供氣管220可以對(duì)稱地設(shè)置。此外，第三供氣管230和第四供氣管240也可以(例如關(guān)于腔室100或噴頭250的中心)對(duì)稱地設(shè)置。在附加的另外的實(shí)施方式中，第一供氣管210和第二供氣管220可以設(shè)置為具有它們之間的圍繞腔室100或噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。(例如，第一供氣管210和第二供氣管220也可以設(shè)置在相同的上半部分或下半部分上。)第三供氣管230和第四供氣管240也可以設(shè)置為具有它們之間的圍繞腔室100或噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。參照?qǐng)D1a，第一至第四供氣管210、220、230和240可以彼此分開或間隔開。參照?qǐng)D1b，第三供氣管230和第四供氣管240可以彼此連接或結(jié)合。第一氣體gs1可以包括含硅烷(sih4)或金屬化合物的前體。第二氣體gs2可以包括諸如氧化劑或氮化劑的反應(yīng)氣體。第三氣體gs3和/或第四氣體gs4可以包括諸如氦(he)或氬(ar)的吹掃氣體。在另外的實(shí)施方式中，第一至第四氣體gs1至gs4中的每一種可以包括諸如nf3的清洗氣體。

排氣部件300可以將氣體從腔室100的內(nèi)部排出。排氣部件300可以包括至少兩個(gè)排氣管310和320。例如，排氣部件300可以包括第一氣體排出或排氣管310和第二氣體排出或排氣管320，第一氣體排出或排氣管310在空間上和方向上與第一供氣管210對(duì)準(zhǔn)以與其靠近，第二氣體排出或排氣管320在空間上和方向上與第二供氣管220對(duì)準(zhǔn)以與其靠近。參照?qǐng)D1a，第一排氣管310和第二排氣管320可以彼此分開或間隔開。參照?qǐng)D1b，第一排氣管310和第二排氣管320可以彼此連接或結(jié)合。圖1a和1b中示出的半導(dǎo)體器件制造裝置10a和10b的特征可以是彼此可選擇性地兼容的。

圖2a和2b是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置10a和10b的內(nèi)部剖視圖。

參照?qǐng)D2a和2b，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的半導(dǎo)體器件制造裝置10a和10b中的每一個(gè)可以包括設(shè)置在腔室100之上的供氣部件200、設(shè)置在腔室100中的基座150和設(shè)置在腔室100下面或之下的排氣部件300。腔室100可以限定或提供其中執(zhí)行各種各樣的工藝的反應(yīng)空間s1和s2，并且腔室100可以維持真空。反應(yīng)空間s1和s2是不被物理地隔開(例如反應(yīng)空間s1和s2彼此連通)但可以被實(shí)際上隔開使得不同的工藝分別在其中被執(zhí)行的一個(gè)空間。例如，在第一反應(yīng)空間s1中，材料層可以通過執(zhí)行沉積工藝形成，在第二反應(yīng)空間s2中，氧化了的材料層或氮化物材料層可以通過執(zhí)行氧化工藝或氮化工藝形成。參照?qǐng)D1a和1b，假設(shè)并示出第一供氣管210和第二供氣管220分別設(shè)置在左半部分和右半部分上，第三供氣管230和第四供氣管240分別設(shè)置在上半或后面部分和下半或前面部分上。例如，假設(shè)并示出供氣管210、220、230和240分別設(shè)置在噴頭250的四分之一圓上。根據(jù)一些實(shí)施方式，供氣管210、220、230和240中的每一個(gè)設(shè)置在噴頭250的不同的四分之一圓上。

噴頭250可以包括限定或形成多個(gè)內(nèi)室r1和r2的上板251和下板252。供氣管210和220可以穿過或連接到上板251以將各種各樣的氣體gs1和gs2供應(yīng)進(jìn)內(nèi)室r1和r2中。下板252可以包括用于將內(nèi)室r1和r2中的氣體gs1和gs2提供到腔室100中的基座150上的多個(gè)氣體出口h。噴頭250可以將從供氣部件200供應(yīng)的氣體gs1和gs2供應(yīng)為在腔室100中彼此在空間上分離。例如，經(jīng)過第一供氣管210和噴頭250的第一內(nèi)室r1的第一氣體gs1可以被供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第一反應(yīng)空間s1中并且被提供到安裝在基座150上的第一晶片w1上。此外，經(jīng)過第二供氣管220和噴頭250的第二內(nèi)室r2的第二氣體gs2可以被供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第二反應(yīng)空間s2中并且被提供到安裝在基座150上的第二晶片w2上。進(jìn)一步參照?qǐng)D1a和1b，噴頭250可以進(jìn)一步包括第三內(nèi)室和第四內(nèi)室，分別通過第三供氣管230和第四供氣管240供應(yīng)的氣體gs3和gs4穿過第三內(nèi)室和第四內(nèi)室。腔室100也可以進(jìn)一步包括第三反應(yīng)空間和第四反應(yīng)空間，穿過第三內(nèi)室和第四內(nèi)室的氣體gs3和gs4被分別提供到第三反應(yīng)空間和第四反應(yīng)空間。

參照?qǐng)D2a，噴頭250的內(nèi)室r1和r2可以彼此實(shí)際上、空間上且單獨(dú)地隔開，參照?qǐng)D2b，內(nèi)室r1和r2可以彼此在空間上連接和/或結(jié)合(例如內(nèi)室r1和r2可以彼此連通)。

多個(gè)晶片w1和w2可以安裝在基座150上?；?50可以在晶片w1和w2安裝在基座150上或安裝至基座150的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。晶片w1和w2可以設(shè)置在基座150上以與噴頭250的內(nèi)室r1和r2以及腔室100內(nèi)的反應(yīng)空間s1和s2對(duì)準(zhǔn)。

如上所述，排氣部件300可以包括至少兩個(gè)排氣管310和320。排氣管310和320的開口o1和o2可以對(duì)稱地設(shè)置在基座150的兩(例如彼此相反的)側(cè)。例如，第一排氣管310的開口o1可以方向上垂直地與第一供氣管210對(duì)準(zhǔn)，第二排氣管320的開口o2可以方向上垂直地與第二供氣管220對(duì)準(zhǔn)。因此，第一排氣管310可以主要排出從第一供氣管210提供到腔室100的第一反應(yīng)空間s1的第一氣體gs1，第二排氣管320可以主要排出從第二供氣管220提供到腔室100的第二反應(yīng)空間s2的第二氣體gs2。此外，第一排氣管310可以排出第一氣體gs1、第三氣體gs3和第四氣體gs4，第二排氣管320可以排出第二氣體gs2、第三氣體gs3和第四氣體gs4。就是說，第三氣體gs3和第四氣體gs4可以通過第一排氣管310和第二排氣管320兩者被排出。

排氣部件300可以包括設(shè)置在第一排氣管310處或靠近第一排氣管310設(shè)置的第一氣體傳感器351以及設(shè)置在第二排氣管320處或靠近第二排氣管320設(shè)置的第二氣體傳感器352。第一氣體傳感器351可以連接到第一排氣管310，第二氣體傳感器352可以連接到第二排氣管320。

因此，包括第一供氣管210、第一內(nèi)室r1、第一反應(yīng)空間s1、第一排氣管310和第一氣體傳感器351的第一元件可以空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)，包括第二供氣管220、第二內(nèi)室r2、第二反應(yīng)空間s2、第二排氣管320和第二氣體傳感器352的第二元件可以空間上且垂直地彼此對(duì)準(zhǔn)。第一元件和第二元件可以設(shè)置為彼此對(duì)立，設(shè)置為對(duì)稱，或者設(shè)置為具有它們之間的圍繞腔室100或噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。

第一氣體傳感器351和第二氣體傳感器352中的每一個(gè)可以包括氣體傳感器。例如，第一氣體傳感器351可以通過收集經(jīng)第一排氣管310排出的第一廢氣ge1分析第一廢氣ge1的成分，第二氣體傳感器352可以通過收集經(jīng)第二排氣管320排出的第二廢氣ge2分析第二廢氣ge2的成分。更具體地，第一氣體傳感器351可以對(duì)經(jīng)第一供氣管210供應(yīng)的第一氣體gs1不敏感并且對(duì)經(jīng)第二供氣管220供應(yīng)的第二氣體gs2敏感。第二氣體傳感器352可以對(duì)經(jīng)第一供氣管210供應(yīng)的第一氣體gs1敏感并且對(duì)經(jīng)第二供氣管220供應(yīng)的第二氣體gs2不敏感。換言之，第一氣體傳感器351可以不感測第一氣體gs1，并且可以感測第二氣體gs2。第二氣體傳感器352可以感測第一氣體gs1，并且可以不感測第二氣體gs2。例如，當(dāng)?shù)谝粴怏wgs1包括前體時(shí)，第一氣體傳感器351可以對(duì)所述前體不敏感，第二氣體傳感器352可以對(duì)所述前體敏感。此外，例如，當(dāng)?shù)诙怏wgs2包括反應(yīng)氣體時(shí)，第一氣體傳感器351可以對(duì)所述反應(yīng)氣體敏感，第二氣體傳感器352可以對(duì)所述反應(yīng)氣體不敏感。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式，當(dāng)經(jīng)第一供氣管210供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第一氣體gs1與第二廢氣ge2混合并且經(jīng)第二排氣管320被排出時(shí)，第二氣體傳感器352可以感測與第二廢氣ge2混合的第一氣體gs1。此外，當(dāng)經(jīng)第二供氣管220供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第二氣體gs2與第一廢氣ge1混合并且經(jīng)第一排氣管310被排出時(shí)，第一氣體傳感器351可以感測與第一廢氣ge1混合的第二氣體gs2。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式，可以使用第一氣體傳感器351和第二氣體傳感器352來確定第一氣體gs1和第二氣體gs2是否被維持成在腔室100中彼此空間上分離。具體地，第一氣體gs1和第二氣體gs2是否在腔室100內(nèi)在空間上交叉(例如混合)可以被實(shí)時(shí)感測。當(dāng)確定第一氣體gs1和第二氣體gs2維持在腔室100中在空間上彼此分離時(shí)，第二氣體gs2不流進(jìn)第一排氣管310中，并且第一氣體gs1不流進(jìn)第二排氣管320中。因此，腔室100中執(zhí)行的半導(dǎo)體器件制造工藝可以使用第一氣體傳感器351和第二氣體傳感器352被實(shí)時(shí)監(jiān)測。第一氣體傳感器351感測和分析的有關(guān)第一廢氣ge1的成分的信息以及第二氣體傳感器352感測和分析的有關(guān)第二廢氣ge2的成分的信息可以被實(shí)時(shí)地提供給計(jì)算機(jī)并且被顯示在監(jiān)視器上。

排氣部件300可以進(jìn)一步包括設(shè)置在第一排氣管310中或上的第一氣泵361以及設(shè)置在第二排氣管320中或上的第二氣泵362。第一氣泵361可以調(diào)節(jié)經(jīng)第一排氣管310排出的第一廢氣ge1的排氣流速和排氣壓力，第二氣泵362可以調(diào)節(jié)經(jīng)第二排氣管320排出的第二廢氣ge2的排氣流速和排氣壓力。例如，第一氣泵361和第二氣泵362中的每一個(gè)可以包括渦輪泵。

例如，當(dāng)?shù)谝粴怏w傳感器351感測到第二氣體gs2與通過第一排氣管310排出的第一廢氣ge1混合時(shí)，工藝條件可以被修改或調(diào)整使得經(jīng)第二供氣管220供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第二反應(yīng)空間s2中的第二氣體gs2的流速和/或壓力被減小，或者工藝條件可以被修改或調(diào)整使得第二氣泵362增大經(jīng)第二排氣管320排出的第二廢氣ge2的排氣流速和/或排氣壓力。

例如，當(dāng)?shù)诙怏w傳感器352感測到第一氣體gs1與經(jīng)第二排氣管320排出的第二廢氣ge2混合時(shí)，工藝條件可以被修改或調(diào)整使得經(jīng)第一供氣管210供應(yīng)進(jìn)腔室100內(nèi)的第一反應(yīng)空間s1中的第一氣體gs1的流速和/或壓力被減小，或者工藝條件可以被修改或調(diào)整使得第一氣泵361增大經(jīng)第一排氣管310排出的第一廢氣ge1的排氣流速和/或排氣壓力。在另外的實(shí)施方式中，工藝條件可以被修改或調(diào)整使得經(jīng)第三供氣管230和/或第四供氣管240供應(yīng)進(jìn)腔室100中的第三氣體gs3和/或第四氣體gs4中的每一種的供應(yīng)流速被增大和/或減小。

因此，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思，腔室100中實(shí)際上的反應(yīng)空間s1和s2是否實(shí)際上且空間上彼此隔開可以被清楚地實(shí)時(shí)監(jiān)測，并且工藝可以被調(diào)整使得在反應(yīng)空間s1和s2中第一氣體gs1和第二氣體gs2不彼此混合。具體地，在第一工藝在第一反應(yīng)空間s1中正被穩(wěn)定地執(zhí)行且第二工藝在第二反應(yīng)空間s2中正被穩(wěn)定地執(zhí)行的同時(shí)，第一工藝和第二工藝是否受彼此影響可以被實(shí)時(shí)監(jiān)測，并且工藝條件可以響應(yīng)于該監(jiān)測而被修改和調(diào)整。

圖3示出概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的噴頭250的上板251a至251f的仰視圖(a)至(f)。參照?qǐng)D3的仰視圖(a)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思一實(shí)施方式的上板251a可以包括分別連接到第一至第四供氣管210、220、230和240的第一至第四氣體入口j1、j2、j3和j4。第一氣體入口j1和第二氣體入口j2可以對(duì)稱地設(shè)置以彼此對(duì)立并且連接到第一供氣管210和第二供氣管220。第三氣體入口j3和第四氣體入口j4也可以對(duì)稱地設(shè)置以彼此對(duì)立并且連接到第三供氣管230和第四供氣管240。

參照?qǐng)D3的仰視圖(b)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思一實(shí)施方式的上板251b可以包括第一至第四氣體入口j1至j4，并且第一氣體入口j1和第二氣體入口j2可以設(shè)置為具有它們之間的圍繞噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。例如，第一氣體入口j1和/或第二氣體入口j2可以設(shè)置得更靠近第三氣體入口j3和第四氣體入口j4中的任意一個(gè)。如所示，第一氣體入口j1和第二氣體入口j2可以設(shè)置得相比第三氣體入口j3更靠近第四氣體入口j4。第三氣體入口j3和第四氣體入口j4可以設(shè)置為彼此對(duì)立。具體地，在俯視圖中，第一氣體入口j1和第二氣體入口j2可以設(shè)置在上板251b的同一下半或前面部分上。(或者，第一氣體入口j1和第二氣體入口j2可以設(shè)置在上板251b的上半或后面部分上，左半部分上，或右半部分上。)

參照?qǐng)D3的仰視圖(c)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思一實(shí)施方式的上板251c可以包括第一至第四氣體入口j1至j4，并且第三氣體入口j3和第四氣體入口j4可以設(shè)置為具有它們之間的圍繞噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。例如，第三氣體入口j3和/或第四氣體入口j4可以設(shè)置得更靠近第一氣體入口j1和第二氣體入口j2中的任意一個(gè)。如所示，第三氣體入口j3和第四氣體入口j4可以設(shè)置得相比第一氣體入口j1更靠近第二氣體入口j2。

參照?qǐng)D3的仰視圖(d)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一實(shí)施方式的上板251d可以包括多個(gè)第一氣體入口j1，然而參照?qǐng)D3的仰視圖(e)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思一實(shí)施方式的上板251e可以包括多個(gè)第二氣體入口j2，參照?qǐng)D3的仰視圖(f)，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思一實(shí)施方式的上板251f可以包括多個(gè)第一和第二氣體入口j1和j2。因?yàn)閳D3的仰視圖(a)至(f)中示出的上板251a至251f的特征可以彼此組合，所以雖然未在其中具體地示出，但是上板251a至251f的特征可以被各種各樣地組合和應(yīng)用。在另一實(shí)施方式中，上板251a至251f可以各自包括多個(gè)第三氣體入口j3和/或第四氣體入口j4。

進(jìn)一步參照?qǐng)D1a和1b，第一至第四供氣管210至240可以設(shè)置為分別連接到第一至第四氣體入口j1至j4。例如，第一和第二供氣管210和220可以設(shè)置為具有自彼此起的圍繞噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)，以及第一和第二供氣管210和220中的每一個(gè)可以被構(gòu)造成是多個(gè)第一和第二供氣管210和220。

進(jìn)一步參照?qǐng)D2a和2b，第一至第四氣體入口j1至j4可以分別對(duì)準(zhǔn)噴頭250的內(nèi)室。在附圖中，只有第一內(nèi)室r1和第二內(nèi)室r2被示出。

圖4a至4c是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的下板252a至252f的俯視圖。

參照?qǐng)D4a至4c，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的下板252a至252f中的每一個(gè)可以包括區(qū)域、扇區(qū)或四分之一圓a1至a4，所述區(qū)域、扇區(qū)或四分之一圓a1至a4通過隔開物p被實(shí)際上且空間上隔開以限定實(shí)際上且空間上被劃分開的內(nèi)室r1和r2。扇區(qū)a1至a4中的每個(gè)可以包括多個(gè)氣體出口以流體地連接彼此對(duì)應(yīng)的內(nèi)室和反應(yīng)空間。參照?qǐng)D1a和1b，隔開的區(qū)域a1至a4可以空間上或方向上分別對(duì)準(zhǔn)第一至第四供氣管210、220、230和240。或者，參照?qǐng)D3的仰視圖(a)至(f)，隔開的區(qū)域a1至a4可以空間上或方向上對(duì)準(zhǔn)各種上板251a至251f的氣體入口j1至j4。隔開物p中的每一個(gè)可以具有凸出的壩或墻的形狀。因此，噴頭250的內(nèi)室r1和r2可以不物理地、空間上且完全地彼此隔開，而是彼此部分地隔開并部分地連接。在另外的實(shí)施方式中，隔開物p可以實(shí)際上、空間上且完全地隔開噴頭250的內(nèi)室r1和r2。參照?qǐng)D4a的俯視圖(b)，下板252b可以進(jìn)一步包括設(shè)置在其中心的擋板b。擋板b可以物理地且空間上將隔開的區(qū)域a1至a4彼此間隔開。參照?qǐng)D4b和4c，隔開物p可以設(shè)置成各種各樣的取向或形狀使得隔開的區(qū)域a1至a4的尺寸被各種各樣地改變。根據(jù)隔開物p的布置，在其中第一至第四氣體gs1至gs4與晶片w1至w4反應(yīng)的時(shí)間可以被各種各樣地調(diào)整。

圖5a至5c是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的基座150a至150c、第一和第二排氣管310和320以及第一和第二氣體傳感器351和352的俯視圖。

參照?qǐng)D5a至5c，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的各種各樣的實(shí)施方式的基座150a至150c可以容納多個(gè)晶片w1至w6被安裝在其上。第一排氣管310和第二排氣管320的開口o1和o2可以空間上或方向上，且垂直地分別對(duì)準(zhǔn)第一供氣管210和第二供氣管220以及第一氣體入口j1和第二氣體入口j2?；蛘?，第一排氣管310和第二排氣管320可以空間上或方向上對(duì)準(zhǔn)噴頭250的下板252a至252f的第一區(qū)域a1和第二區(qū)域a2。如上所述，第一氣體傳感器351可以連接到第一排氣管310，第二氣體傳感器352可以連接到第二排氣管320。由于第一氣體傳感器351和第二氣體傳感器352分別鄰近第一排氣管310和第二排氣管320，所以第一廢氣ge1和第二廢氣ge2的成分可以被實(shí)時(shí)地分析。進(jìn)一步參照?qǐng)D5c，第一排氣管310和第二排氣管320可以設(shè)置為具有自彼此起的圍繞噴頭250的中心的在90°到180°的范圍內(nèi)的角(例如具有在圓周方向上測量的角)。例如，參照?qǐng)D3的仰視圖(a)至(f)，第一排氣管310和第二排氣管320可以設(shè)置為方向上對(duì)準(zhǔn)第一至第四氣體入口j1至j4。或者，參照?qǐng)D5c，第一和第二排氣管310和320可以不是彼此對(duì)立的，但可以被對(duì)稱地設(shè)置。

圖6a、7a和8a是概念性地示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的基座150、第一和第二排氣管310和320以及第一和第二氣體傳感器351和352的俯視圖。圖6b、7b和8b是分別概念性地示出圖6a、7a和8a的第一和第二排氣管310和320的透視圖。參照?qǐng)D6a至7b，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的第一和第二排氣管310和320可以分別包括多個(gè)分支排出管311a至311c和321a至321c、以及主或主要排出管312和322。參照?qǐng)D6a和6b，第一和第二排氣管310和320可以分別包括兩個(gè)分支排出管311a和311b以及321a和321b、以及主排出管312和322。參照?qǐng)D7a和7b，第一和第二排氣管310和320可以分別包括三個(gè)分支排出管311a至311c以及321a至321c、以及主排出管312和322。所述多個(gè)分支排出管311a至311c以及321a至321c可以分別連接到主排出管312和322。參照?qǐng)D8a和8b，第一和第二排氣管310和320中的每一個(gè)在俯視圖中可以具有沿基座150的外周界的弧形，并且在側(cè)視圖中可以具有漏斗形。開口o1、o2(圖2a和2b)可以是彎曲的且細(xì)長的，并且沿基座150的外周界的一部分延伸。參照?qǐng)D6a至8b，第一和第二氣體傳感器351和352可以分別連接到主排出管312和322。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思，由于廢氣的成分使用氣體傳感器被感測和分析，所以在腔室中氣體是否空間上彼此分離能被實(shí)時(shí)地監(jiān)測。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思，因?yàn)榍皇抑械目臻g分割狀態(tài)能被監(jiān)測，所以工藝和裝置能被修正、改善和修改。

雖然已經(jīng)參照附圖描述了一些實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將輕易地理解，在實(shí)施方式中許多修改是可能的而不背離本發(fā)明構(gòu)思的范圍且不改變本質(zhì)特征。因此，上述實(shí)施方式應(yīng)只在描述性的意義上被考慮，而非為了限制。

本申請(qǐng)要求2016年1月28日提交的韓國專利申請(qǐng)第10-2016-0010753號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其公開通過引用全文合并于此。