本發(fā)明涉及一種X射線感測器及其制作方法，尤其涉及一種低損傷的X射線感測器及其制作方法。

背景技術(shù)：

X射線影像是醫(yī)療診斷的一個(gè)重要工具。數(shù)字X射線成像正日益取代傳統(tǒng)的攝影X射線膠片。數(shù)字X射線成像有兩個(gè)重要的參考指標(biāo)，分別為影響影像質(zhì)量的敏感度與分辨率。閃爍體的厚度越厚越有利于增加敏感度；但閃爍體發(fā)出的可見光會(huì)造成光學(xué)干擾，影像的分辨率會(huì)下降。

為解決上述問題，業(yè)內(nèi)將閃爍體做成微結(jié)構(gòu)的方式來提升影像質(zhì)量的敏感度與分辨率，請參照圖1。X射線感測器100包括感測基板110、復(fù)數(shù)個(gè)感測單元120、粘著層130、玻璃基板140、反射層150、復(fù)數(shù)個(gè)閃爍體160以及白色樹脂(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯)層170。復(fù)數(shù)個(gè)閃爍體160與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元120一一對應(yīng)，不會(huì)因?yàn)楣馍⑸涠a(chǎn)生光學(xué)干擾。

但是X射線經(jīng)過閃爍體160時(shí)，只會(huì)被閃爍體160吸收一部分，而相當(dāng)大的一部分X射線會(huì)直接照射到復(fù)數(shù)個(gè)感測單元120上，這樣會(huì)造成復(fù)數(shù)個(gè)感測單元120的損傷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述X射線直接照射感測單元導(dǎo)致感測單元受損的問題，本發(fā)明提供一種X射線感測器。

上述的X射線感測器包括：

感測基板，其上設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)感測單元；以及

鉛玻璃基板，該鉛玻璃基板具有相對的第一面與第二面，該第一面固定于該感測基板上，該第二面上具有與該復(fù)數(shù)個(gè)感測單元一一對應(yīng)的復(fù)數(shù)個(gè)凹槽，該鉛玻璃基板還包括：

第一反射層，該第一反射層設(shè)置于該復(fù)數(shù)個(gè)凹槽的側(cè)壁；

閃爍體熒光粉，該閃爍體熒光粉填充于該復(fù)數(shù)個(gè)凹槽中；以及

第二反射層，該第二反射層設(shè)置于該第二面上。

作為可選的技術(shù)方案，該復(fù)數(shù)個(gè)凹槽的底面與該第一面的距離小于100微米。

作為可選的技術(shù)方案，該閃爍體熒光粉具有4.5-5.0wt％的硫氧化釓。

作為可選的技術(shù)方案，該閃爍體熒光粉的高度范圍為50-300微米。

作為可選的技術(shù)方案，該第一反射層的材質(zhì)為鋁、銀、銅、鎳、鈦、鎂、鉑、金或鉻，該第二反射層的材質(zhì)為鋁、銀、銅、鎳、鈦、鎂、鉑、金或鉻。

作為可選的技術(shù)方案，該第一反射層的厚度范圍為100-300微米，該第二反射層的厚度范圍為100-300微米。

作為可選的技術(shù)方案，該X射線感測器還包括：

高分子膜，該高分子膜覆蓋于該第二反射層上；或者該高分子膜包覆該鉛玻璃基板；或者該高分子膜包覆該鉛玻璃基板及該感測基板。

作為可選的技術(shù)方案，該高分子膜的材質(zhì)為環(huán)氧基樹脂、丙烯酸基樹脂、聚酰亞胺樹脂或者硅基樹脂。

本發(fā)明還提供一種X射線感測器的制作方法，該制作方法包括：

提供感測基板，該感測基板具有復(fù)數(shù)個(gè)感測單元；

提供鉛玻璃基板，該鉛玻璃基板具有相對的第一面與第二面；

固定該第一面與該感測基板；

于該第二面上鐳射形成與該復(fù)數(shù)個(gè)感測單元一一對應(yīng)的復(fù)數(shù)個(gè)凹槽；

于該復(fù)數(shù)個(gè)凹槽的側(cè)壁斜角蒸鍍第一反射層；

于該復(fù)數(shù)個(gè)凹槽填充閃爍體熒光粉；

于該第二面蒸鍍第二反射層；以及

于該第二反射層包覆高分子層。

作為可選的技術(shù)方案，該閃爍體熒光粉的填充方式為刮刀方式。

相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的X射線感測器通過在閃爍體熒光粉與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元之間增加鉛玻璃的方式，可有效地阻隔X射線對于復(fù)數(shù)個(gè)感測單元的損傷；并且由于鉛玻璃具有較高的穿透率及高折射率，還可有效地減少因光散射導(dǎo)致的光學(xué)干擾。

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的X射線感測器的示意圖；

圖2為本發(fā)明的X射線感測器的示意圖。

具體實(shí)施方式

請參照圖2，圖2為本發(fā)明的X射線感測器的示意圖。X射線感測器200包括感測基板210及鉛玻璃基板220。感測基板210上設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211。

鉛玻璃基板220具有相對的第一面2201與第二面2202。第一面2201固定于感測基板210上，例如，在本實(shí)施方式中，X射線感測器200還包括粘著層230，第一面2201可通過粘著層230固定于感測基板210上，當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中，也可為其他固定方式，只需滿足能將第一面2201固定于感測基板210上即可。鉛玻璃基板220的第二面2202上具有與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211一一對應(yīng)的復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221。

鉛玻璃基板220還包括第一反射層222、閃爍體熒光粉223以及第二反射層224。第一反射層222設(shè)置于復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221的側(cè)壁，閃爍體熒光粉223填充于復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221中；第二反射層224設(shè)置于第二面2202上，第二反射層224用以提高亮度。

凹槽(非貫穿槽)221形成于第二面2202上，即凹槽221的底面并不會(huì)接觸第一面2201，也就是說閃爍體熒光粉223填充完畢后，閃爍體熒光粉223與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211間隔有一定厚度的鉛玻璃，如此，由于鉛的原子序數(shù)較大，上述的一定厚度的鉛玻璃可對未被閃爍體熒光粉223吸收的X射線形成有效的阻隔，從而減少X射線對于復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211的損傷。

在本實(shí)施方式中，復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221的底面與第一面2201的距離小于100微米，如此，再加上鉛玻璃的較高的穿透率及高折射率，可有效地減少因光散射導(dǎo)致的光學(xué)干擾。

在本實(shí)施方式中，閃爍體熒光粉223具有4.5-5.0wt％的硫氧化釓。作為閃爍體熒光粉223的溶劑混合物，可選擇具有45-50wt％的去離子水、40-45wt％的異丙醇、1.5wt％的表面活性劑、4.5-5.0wt％的聚乙烯醇的混合物，當(dāng)然在其他實(shí)施方式中，溶劑混合物也可不同。

在本實(shí)施方式中，閃爍體熒光粉223的高度范圍為50-300微米。

在本實(shí)施方式中，第一反射層222的材質(zhì)為鋁、銀、銅、鎳、鈦、鎂、鉑、金或鉻，第二反射層224的材質(zhì)為鋁、銀、銅、鎳、鈦、鎂、鉑、金或鉻，第一反射層222與第二反射層224的材質(zhì)可相同或不同，端視實(shí)際需求而定。

在本實(shí)施方式中，第一反射層222的厚度范圍為100-300微米，第二反射層224的厚度范圍為100-300微米，第一反射層222與第二反射層224的厚度可相同或不同，端視實(shí)際需求而定。

在本實(shí)施方式中，X射線感測器200還包括高分子膜(未示出)，高分子膜覆蓋于第二反射層224上；或者高分子膜包覆鉛玻璃基板220；又或者高分子膜同時(shí)包覆鉛玻璃基板220及感測基板210。高分子膜用以對X射線感測器200形成有效的保護(hù)。高分子膜的材質(zhì)可以為環(huán)氧基樹脂、丙烯酸基樹脂、聚酰亞胺樹脂或者硅基樹脂。

此外，本發(fā)明還提供上述X射線感測器200的制作方法，制作方法包括：

提供感測基板210，感測基板210具有復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211；

提供鉛玻璃基板220，鉛玻璃基板220具有相對的第一面2201與第二面2202；

固定第一面2201與感測基板210；

于第二面2202上鐳射形成與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元211一一對應(yīng)的復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221；

于復(fù)數(shù)個(gè)凹槽221的側(cè)壁斜角蒸鍍第一反射層222；

于復(fù)數(shù)個(gè)凹槽中填充閃爍體熒光粉223；

于第二面2202蒸鍍第二反射層224；以及

于第二反射層224上包覆高分子層。

上述閃爍體熒光粉223的填充方式可采用刮刀的填充方式。實(shí)際操作中，固定第一面2201與感測基板210這一步驟可與鐳射凹槽221、斜角蒸鍍第一反射層222、填充閃爍體熒光粉223及蒸鍍第二反射層224的順序互換，使用者可根據(jù)實(shí)際需要自行選擇。

綜上所述，本發(fā)明的X射線感測器通過在閃爍體熒光粉與復(fù)數(shù)個(gè)感測單元之間增加鉛玻璃的方式，可有效地阻隔X射線對于復(fù)數(shù)個(gè)感測單元的損傷；并且由于鉛玻璃具有較高的穿透率及高折射率，還可有效地減少因光散射導(dǎo)致的光學(xué)干擾。

當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。