一種熔料密封裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種熔料密封裝置，包括工作平臺及激光輻射構(gòu)件，所述工作平臺用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母基板，第一、第二母基板之間設(shè)有熔料區(qū)域，所述熔料區(qū)域設(shè)有用以將第一、第二母基板粘合封閉在一起的熔料，所述激光輻射構(gòu)件用以激光輻射所述第一、第二母基板之間熔料，所述第一母基板包括多個第一基板，所述第二母基板包括多個第二基板，所述熔料密封裝置還包括位于工作平臺和激光輻射構(gòu)件之間的掩膜，所述掩膜位于第二母基板上方，所述掩膜與所述工作平臺相互磁性吸引用以壓緊所述第一、第二母基板之間的熔料。如此設(shè)置可改善第一、第二母基板之間的粘接，解決密封過程中產(chǎn)生的微裂紋，并起到保護(hù)玻璃基板的作用。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種熔料密封裝置，尤其涉及一種用以制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的 熔料密封裝置。 一種熔料密封裝置

【背景技術(shù)】
[0002] 有機(jī)發(fā)光顯示器（OLED，Organic Light Emitting Display)是一種利用有機(jī)半導(dǎo) 體材料制成的、用直流電壓驅(qū)動的薄膜發(fā)光器件，0LED顯示技術(shù)與傳統(tǒng)的LCD顯示方式不 同，無需背光燈，采用非常薄的有機(jī)材料涂層和玻璃基板，當(dāng)有電流通過時，這些有機(jī)材料 就會發(fā)光。而且0LED顯示屏幕可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節(jié)省電能。 被認(rèn)為是最可能的下一代新型平面顯示器。有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常包括至少包含有機(jī)層的 結(jié)構(gòu)，該有機(jī)層包括介于第一電極與第二電極之間的發(fā)射層。第一電極形成在基板上并用 作陽極注射孔，有機(jī)層形成在第一電極的頂表面上。用作陰極注射電子的第二電極形成在 有機(jī)層上而面向第一電極。
[0003] 由于有機(jī)發(fā)光顯示器中的有機(jī)發(fā)光材料對水氧環(huán)境特別敏感，一旦水氧侵入，會 造成有機(jī)材料的壽命降低甚至失效。因而，當(dāng)前在AM0LED中的封裝工藝中主要采用熔料封 裝，即采用激光對熔料進(jìn)行熔融，從而達(dá)到密封器件的效果。
[0004] 但是，僅用激光輻射進(jìn)行密封操作，由于局部加熱區(qū)域溫度的急劇變化或封裝玻 璃上熔料燒結(jié)后表面的粗糙不平，會使熔料密封過程中產(chǎn)生微裂紋。微裂紋會使水氧侵入 從而影響壽命；嚴(yán)重的話，微裂紋會導(dǎo)致封裝脫離。
[0005] 因而，有必要設(shè)計一種改進(jìn)的熔料密封裝置以解決上述技術(shù)問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本實用新型的目的在于提供一種能夠產(chǎn)生均勻磁力解決密封過程中會產(chǎn)生的微 裂紋的熔料密封裝置。
[0007] 本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的：一種熔料密封裝置，包括工作平 臺及激光輻射構(gòu)件，所述工作平臺用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母 基板，第一、第二母基板之間設(shè)有熔料區(qū)域，所述熔料區(qū)域設(shè)有用以將第一、第二母基板粘 合封閉在一起的熔料，所述激光輻射構(gòu)件用以激光輻射所述第一、第二母基板之間熔料，所 述第一母基板包括多個第一基板，所述第二母基板包括多個第二基板，所述熔料密封裝置 還包括位于工作平臺和激光輻射構(gòu)件之間的掩膜，所述掩膜位于第二母基板上方，所述掩 膜與所述工作平臺相互磁性吸引用以壓緊所述第一、第二母基板之間的熔料。
[0008] 在優(yōu)選的實施方式中，所述掩膜為磁性掩膜，所述工作平臺為鐵質(zhì)工作平臺。
[0009] 在優(yōu)選的實施方式中，所述磁性掩膜設(shè)有與所述熔料區(qū)域?qū)?yīng)的第一非磁性區(qū)域 帶以及與所述熔料區(qū)域周界對應(yīng)的磁性區(qū)域。
[0010] 在優(yōu)選的實施方式中，所述熔料區(qū)域和第一非磁性區(qū)域帶均為中空回字形，第一 非磁性區(qū)域帶的帶寬大于熔料區(qū)域的帶寬。 toon] 在優(yōu)選的實施方式中，所述相鄰兩個第二基板之間設(shè)有臨接部，所述磁性掩膜設(shè) 有與所述臨接部對應(yīng)的第二非磁性區(qū)域帶。
[0012] 在優(yōu)選的實施方式中，所述工作平臺為磁性工作平臺，所述掩膜為鐵質(zhì)掩膜。
[0013] 在優(yōu)選的實施方式中，所述磁性工作平臺內(nèi)安裝有磁鐵，所述磁鐵包括與所述熔 料區(qū)域周界對應(yīng)的第一磁鐵和第二磁鐵，所述第二磁鐵位于第一磁鐵外圍，第一、第二磁鐵 之間有封閉狀間距。
[0014] 在優(yōu)選的實施方式中，所述封閉狀間距與熔料區(qū)域均為中空回字形，所述封閉狀 間距的帶寬大于熔料區(qū)域的帶寬。
[0015] 在優(yōu)選的實施方式中，所述掩膜為磁性掩膜，所述工作平臺為磁性工作平臺。
[0016] 在優(yōu)選的實施方式中，磁性掩膜和磁性工作平臺均設(shè)有磁鐵，所述磁性掩膜與磁 性工作平臺異性相吸。
[0017] 相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實用新型通過設(shè)置相互磁性吸引的掩膜和工作平臺而產(chǎn)生均 勻磁力壓緊第一、第二母基板之間的熔料從而改善第一、第二母基板之間的粘接，如此設(shè) 置，不僅解決密封過程中會產(chǎn)生的微裂紋，還起到保護(hù)玻璃基板的作用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 圖1是本實用新型熔料密封裝置的側(cè)視圖。
[0019] 圖2是本實用新型熔料密封裝置磁性掩膜的平面示意圖。
[0020] 圖3是本實用新型熔料密封裝置磁性工作平臺的俯視示意圖。

【具體實施方式】
[0021] 以下將結(jié)合附圖所示的具體實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。值得說明的是， 下文所記載的實施例并不限制本實用新型，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實施例所做出 的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0022] 請參圖1所示，為本實用新型的熔料密封裝置100,所述熔料密封裝置100包括工 作平臺1、激光輻射構(gòu)件2以及位于工作平臺1、激光輻射構(gòu)件2之間的掩膜3。所述工作平 臺1上用以放置第一母基板和位于第一母基板上方的第二母基板，第一、第二母基板之間 設(shè)有用以將第一、第二母基板粘合封閉在一起的熔料6。所述第一母基板可以包括多個第一 基板4,所述第二母基板可以包括多個第二基板5,所述第二基板5與第一基板4可包括各 種材料，例如玻璃，塑性材料等。具體的，第一基板4和第二基板5被置于工作平臺1上，熔 料6被涂覆或設(shè)置在第一基板4與第二基板5之間。所述熔料6為粉末態(tài)的玻璃、通過將 有機(jī)材料添加到粉末態(tài)的玻璃中而獲得的凝膠態(tài)的玻璃或通過用激光L輻射包含粉末玻 璃的熔料6而獲得的固態(tài)的硬化玻璃等。所述掩膜3位于第二母基板上方，所述激光輻射 構(gòu)件2用以激光L輻射所述第一、第二母基板之間熔料6,從而將熔料6熔化粘接到第一和 第二基板5,所述激光輻射構(gòu)件2可以為多個激光頭同時作業(yè)提高工作效率，所述掩膜3與 工作平臺1相互磁性吸引而壓緊所述第一、第二母基板之間的熔料6從而改善所述第一、第 二母基板之間的粘接。
[0023] 本實用新型可以通過以下實施方式來完成本實施新型的目的：熔料密封裝置100 采用具有磁力的磁性掩膜3配合鐵質(zhì)工作平臺1而產(chǎn)生均勻磁力壓緊第一、第二母基板之 間的熔料6從而改善第一、第二母基板之間的粘接，所述磁性掩膜3可以整體具有磁性或部 分具有磁性；或者，熔料密封裝置100設(shè)置磁性工作平臺1配合鐵質(zhì)掩膜3而產(chǎn)生均勻磁 力壓緊第一、第二母基板之間的熔料6從而改善第一、第二母基板之間的粘接，其中磁性工 作平臺1可以整體具有磁性或部分具有磁性，例如，所述工作平臺1可以整體為磁鐵或在非 磁性的工作平臺1內(nèi)安裝磁鐵；再或者，熔料密封裝置100采用上述具有磁力的磁性掩膜3 配合上述磁性工作平臺1而產(chǎn)生均勻磁力壓緊第一、第二母基板之間的熔料6從而改善第 一、第二母基板之間的粘接。在其他實施方式中，所述鐵質(zhì)工作平臺1或鐵質(zhì)掩膜3可以由 鐵、鎳、鈷等可以吸引磁鐵的金屬、所述含有其中一種或幾種金屬的合金或其他可以吸引磁 鐵的材料替代，當(dāng)然所述鐵質(zhì)制作工作平臺1或掩膜3成本較低，利于降低成本。磁性掩膜 3和磁性工作平臺1可以設(shè)有磁鐵或其他具有磁性的材料，所述磁鐵包括天然磁鐵、人造磁 鐵或電磁鐵等。
[0024] 本實用新型第一種實施方式為所述掩膜3為磁性掩膜3,所述工作平臺1為鐵質(zhì)工 作平臺1。如此設(shè)置，所述磁性掩膜3可以與鐵質(zhì)的工作平臺1實現(xiàn)較好的磁性吸引從而產(chǎn) 生均勻磁力壓緊第一、第二母基板之間的熔料6,且熔料密封裝置100制造成本較低。優(yōu)選 的，請參圖2所示，第一、第二母基板之間設(shè)有封閉狀的熔料區(qū)域60,所述熔料區(qū)域60內(nèi)設(shè) 有所述熔料6。所述磁性掩膜3具有位于熔料區(qū)域60的封閉狀第一非磁性區(qū)域帶31以及 位于熔料區(qū)域60周界的磁性區(qū)域30。如此設(shè)置，所述磁性掩膜3的第一非磁性區(qū)域帶31 可以覆蓋熔料區(qū)域60,可以防止熔料區(qū)域60受到較大的壓力而使熔料6被過分?jǐn)D壓而分 散，從而影響密封效果。在本實施方式中，所述第一非磁性區(qū)域帶31和熔料區(qū)域60均為大 致呈中空的回字形封閉狀，如此設(shè)置，可以更貼合所述呈矩形的第一、第二基板4、5的外圍 而實現(xiàn)更好的封閉效果。所述第一非磁性區(qū)域帶31的帶寬大于熔料區(qū)域60的帶寬，在本 實用新型中所述帶寬指中空回字形封閉狀區(qū)域的粗細(xì)，如此設(shè)置，所述熔料6可完全被覆 蓋于第一非磁性區(qū)域帶31的下方，且熔料6兩側(cè)于第一非磁性區(qū)域帶31的下方還具有一 定空間，所述兩側(cè)空間受到周邊的磁性壓力向下可以使熔料6更容易聚攏集中，從而提高 S封效果。
[0025] 在本實施方式中，所述相鄰兩個第二基板5之間設(shè)有臨接部，所述磁性掩膜3設(shè)有 位于所述臨接部上方的第二非磁性區(qū)域帶32。如此設(shè)置，由于第一、第二母基板一般在橫列 及堅列均設(shè)置多個第一、第二基板4、5,如此所述第二非磁性區(qū)域帶32可在第一、第二母基 板上形成交錯的框絡(luò)狀，可較大程度地減少制作磁性掩膜3的磁性材料，從而降低成本。當(dāng) 然，在其他本實施方式中，所述磁性掩膜3可以在第二母基板上方除熔料區(qū)域60外均設(shè)為 磁性區(qū)域30而不設(shè)置第二非磁性區(qū)域帶32,如此可以在所述多個第二基板5上方產(chǎn)生更加 均勻的磁力，防止第二基板5邊緣上方受力不均而造成損壞。
[0026] 請參圖3所示，為本實用新型第二實施方式的磁性工作平臺1的俯視示意圖，所述 工作平臺1為磁性工作平臺1，所述磁性工作平臺1位于第一基板4下方用以與第一基板4 上方的鐵質(zhì)掩膜3相互磁性吸引。具體的，所述工作平臺1內(nèi)設(shè)置有磁鐵。如此設(shè)置，工作 平臺1內(nèi)與掩膜3之間能夠產(chǎn)生均勻的磁力壓緊第一、第二母基板之間的熔料6從而改善 第一、第二母基板之間的粘接。優(yōu)選的，所述磁鐵包括與所述熔料區(qū)域60周界對應(yīng)的第一 磁鐵11和第二磁鐵12,所述第二磁鐵12位于第一磁鐵11外圍。S卩，所述磁鐵包括位于第 一基板4中部下方的第一磁鐵11以及位于第一基板4中部外圍下方的第二磁鐵12,所述 第一磁鐵11大致為矩形，所述第二磁鐵12為中空的回字形封閉狀并圍繞于第一磁鐵11外 圍，第一、第二磁鐵11、12之間設(shè)有間距13,所述間距13為較小的回字形封閉狀，即所述第 一磁鐵11、第二磁鐵12和間距13呈擴(kuò)散狀的環(huán)狀矩形，所述間距13在上下方向上與所述 熔料區(qū)域60的所在位置相對應(yīng)。如此設(shè)置，可以防止熔料區(qū)域60受到較大的壓力而使熔 料6被過分?jǐn)D壓而分散，從而影響密封效果。在其他實施方式中，所述第一磁鐵11、第二磁 鐵12和間距13還可以是擴(kuò)散狀的圓形或其他形狀。所述回字形封閉狀間距13的帶寬大 于熔料區(qū)域60的帶寬。如此設(shè)置，當(dāng)鐵質(zhì)掩膜3與具有磁鐵的工作平臺1相互磁性吸引時 可以使熔料6在封閉狀間距13所在位置實現(xiàn)更好的聚攏而集中，從而提高密封效果。第一 基板4下方僅設(shè)置所述第一磁鐵11、第二磁鐵12可以節(jié)省磁性材料的用量，節(jié)省成本。
[0027] 在本實用新型第三實施方式中，所述掩膜3為磁性掩膜3,所述工作平臺1為磁性 工作平臺1，所述磁性掩膜3與磁性工作平臺1在上下方向上設(shè)置為磁性異性相吸。如此設(shè) 置，所述磁性掩膜3與所述工作平臺1內(nèi)的磁鐵可以實現(xiàn)更好的磁性吸引。具體的，磁性掩 膜3和磁性工作平臺1的磁性材料均為磁鐵，所述磁性工作平臺1的S極朝上而磁性掩膜 3的N極朝下，或者磁性工作平臺1的N極朝上而磁性掩膜3的S極朝下，如此可實現(xiàn)磁鐵 掩膜3與安裝有磁鐵的工作平臺1可以實現(xiàn)更好的磁性吸引。
[0028] 綜上所述，被涂覆以熔料6并被焙燒的第二基板5與第一基板4組裝之后，第二基 板5被激光L輻射，從而使熔料6硬化，同時，第二基板5的在激光L輻射周界的部分通過 磁性吸引加壓。如此設(shè)置，使用該熔料密封裝置100制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置可以使熔料6 的粘接被改善，從而避免密封過程中會產(chǎn)生的微裂紋的情況，并起到保護(hù)玻璃基板的作用。
[0029] 應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一 個獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說 明書作為一個整體，各實施方式中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可 以理解的其他實施方式。
[0030] 上文所列出的一系列的詳細(xì)說明僅僅是針對本實用新型的可行性實施方式的具 體說明，它們并非用以限制本實用新型的保護(hù)范圍，凡未脫離本實用新型技藝精神所作的 等效實施方式或變更均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種熔料密封裝置，包括工作平臺及激光輻射構(gòu)件，所述工作平臺用以放置第一母 基板以及位于第一母基板上方的第二母基板，第一、第二母基板之間設(shè)有熔料區(qū)域，所述熔 料區(qū)域設(shè)有用以將第一、第二母基板粘合封閉在一起的熔料，所述激光輻射構(gòu)件用以激光 輻射所述第一、第二母基板之間熔料，所述第一母基板包括多個第一基板，所述第二母基板 包括多個第二基板，其特征在于：所述熔料密封裝置還包括位于工作平臺和激光輻射構(gòu)件 之間的掩膜，所述掩膜位于第二母基板上方，所述掩膜與所述工作平臺相互磁性吸引用以 壓緊所述第一、第二母基板之間的熔料。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述掩膜為磁性掩膜，所述工作 平臺為鐵質(zhì)工作平臺。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述磁性掩膜設(shè)有與所述熔料 區(qū)域?qū)?yīng)的第一非磁性區(qū)域帶以及與所述熔料區(qū)域周界對應(yīng)的磁性區(qū)域。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述熔料區(qū)域和第一非磁性區(qū) 域帶均為中空回字形，第一非磁性區(qū)域帶的帶寬大于熔料區(qū)域的帶寬。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述相鄰兩個第二基板之間設(shè) 有臨接部，所述磁性掩膜設(shè)有與所述臨接部對應(yīng)的第二非磁性區(qū)域帶。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述工作平臺為磁性工作平臺， 所述掩膜為鐵質(zhì)掩膜。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述磁性工作平臺內(nèi)安裝有磁 鐵，所述磁鐵包括與所述熔料區(qū)域周界對應(yīng)的第一磁鐵和第二磁鐵，所述第二磁鐵位于第 一磁鐵外圍，第一、第二磁鐵之間有封閉狀間距。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述封閉狀間距與熔料區(qū)域均 為中空回字形，所述封閉狀間距的帶寬大于熔料區(qū)域的帶寬。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔料密封裝置，其特征在于：所述掩膜為磁性掩膜，所述工作 平臺為磁性工作平臺。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的熔料密封裝置，其特征在于：磁性掩膜和磁性工作平臺均設(shè) 有磁鐵，所述磁性掩膜與磁性工作平臺異性相吸。
【文檔編號】H01L51/56GK203910867SQ201420237276
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年5月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月9日
【發(fā)明者】吳偉力, 汪峰, 張玄 申請人:昆山國顯光電有限公司