一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及基板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及基板，所述方法包括：在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，并以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。在本方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩模工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提高產(chǎn)品良率及性能以及降低成本的效果。
【專利說(shuō)明】一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及基板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)位標(biāo)記制作領(lǐng)域，尤其涉及一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及具備相應(yīng)對(duì)位標(biāo)記的基板。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著觸控面板技術(shù)以及3D顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，在顯示裝置相應(yīng)襯底基板的上下表面均進(jìn)行圖案化的需求越來(lái)越高。例如，在On Cell Touch(外掛在顯示面板之外的觸控面板)以及3D Barrier on Cell (光屏障式3D面板)等領(lǐng)域,均需要在相應(yīng)襯底基板的上下表面進(jìn)行圖案化，以實(shí)現(xiàn)特定的觸控功能或顯示效果。
[0003]但是，由于在現(xiàn)有技術(shù)中，通常是采用粗對(duì)位(如Glass邊緣對(duì)位，即在玻璃基板等襯底基板的邊緣進(jìn)行對(duì)位)的方式來(lái)對(duì)襯底基板的上下表面進(jìn)行相應(yīng)的圖案化的，導(dǎo)致其所形成的圖案精度并不高，并不能夠適用于對(duì)顯示分辨率以及顯示性能要求相對(duì)較高的顯示裝置等顯示產(chǎn)品中，因此，亟需提供一種能夠在襯底基板上下表面實(shí)現(xiàn)精確對(duì)位的雙面對(duì)位標(biāo)記的制作方法，以解決目前存在的采用粗對(duì)位的方式進(jìn)行襯底基板上下表面的圖案化時(shí)，導(dǎo)致顯示裝置等顯示產(chǎn)品的顯示分辨率并不高、進(jìn)而降低顯示產(chǎn)品的產(chǎn)品性能的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及基板，以解決目前存在的采用粗對(duì)位的方式進(jìn)行基板雙面圖案化時(shí)，導(dǎo)致顯示裝置的顯示分辨率以及顯示性能并不高的問(wèn)題。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法，包括:
[0006]在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記；并
[0007]以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記；
[0008]其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。
[0009]在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩|旲工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提聞廣品良率及性能以及降低成本的效果。
[0010]進(jìn)一步地，所述第一對(duì)位標(biāo)記以及所述第二對(duì)位標(biāo)記分別包括至少一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記；
[0011]所述第二對(duì)位標(biāo)記與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所述第二對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)，是指:
[0012]所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記分別與所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)，且所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域分別位于所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)。
[0013]進(jìn)一步地，所述不透光材料為金屬材料。
[0014]進(jìn)一步地，在所述基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，包括:
[0015]在所述基板的第一表面形成由所述不透光材料所形成的遮光層，并在所述遮光層之上形成第一光刻膠涂層；
[0016]對(duì)所述第一光刻膠涂層進(jìn)行曝光、顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層；
[0017]對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層的所述遮光層進(jìn)行刻蝕操作，并在刻蝕操作之后，剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層作為所述第一對(duì)位標(biāo)記。
[0018]進(jìn)一步地，所述第一光刻膠涂層為正型光刻膠涂層或負(fù)型光刻膠涂層。
[0019]進(jìn)一步地，在所述基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記之前，所述方法還包括:
[0020]在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層，其中，所述第二光刻膠涂層為負(fù)型光刻膠涂層；
[0021]以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，包括:
[0022]對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；并
[0023]在曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層；
[0024]在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層；
[0025]剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
[0026]進(jìn)一步地，所述對(duì)位材料層由不透光材料或透光材料所形成。也就是說(shuō)，在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，在所述基板的上下表面所形成的第一對(duì)位標(biāo)記與所述第二對(duì)位標(biāo)記可均為不透光對(duì)位標(biāo)記，也可分別為不透光對(duì)位標(biāo)記和透光對(duì)位標(biāo)記，以達(dá)到提高對(duì)位標(biāo)記的組合靈活性的目的。
[0027]進(jìn)一步地,所述透光材料為無(wú)機(jī)材料。
[0028]進(jìn)一步地，在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層之前，所述方法還包括:
[0029]在所述基板的第二表面形成保護(hù)層，所述保護(hù)層由透光材料所形成；
[0030]以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，包括:
[0031]對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；并
[0032]在曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層；
[0033]對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的保護(hù)層進(jìn)行刻蝕操作，并形成過(guò)刻；之后，
[0034]在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層；
[0035]剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，并刻蝕剩余的保護(hù)層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
[0036]進(jìn)一步地，為了便于取材，所述基板通常為玻璃基板。
[0037]進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種基板，所述基板的上下表面形成有利用本發(fā)明實(shí)施例中所述的對(duì)位標(biāo)記制作方法所形成的第一對(duì)位標(biāo)記以及第二對(duì)位標(biāo)記。
[0038]本發(fā)明有益效果如下:
[0039]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及具備相應(yīng)對(duì)位標(biāo)記的基板，所述方法包括:在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，并以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩模工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提高產(chǎn)品良率及性能以及降低成本的效果。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0040]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)要介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0041]圖1所示為本發(fā)明實(shí)施例一中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法的流程示意圖；
[0042]圖2所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法的流程示意圖；
[0043]圖3 (a)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖
[0044]圖3 (b)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖-* ;
[0045]圖3 (C)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖
[0046]圖3 (d)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖四；
[0047]圖3 (e)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖五；
[0048]圖3 (f)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖六；
[0049]圖3 (g)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖七；
[0050]圖3 (h)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖八；
[0051]圖3 (i)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖九；
[0052]圖3 (j)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖十;
[0053]圖3 (k)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖1^一 ；
[0054]圖3 (I)所示為本發(fā)明實(shí)施例二中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖十二。
【具體實(shí)施方式】
[0055]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及具備相應(yīng)對(duì)位標(biāo)記的基板，所述方法包括:在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，并以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩模工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提高產(chǎn)品良率及性能以及降低成本的效果。
[0056]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0057]實(shí)施例一:
[0058]如圖1所示，其為本發(fā)明實(shí)施例一中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法，所述制作方法具體可包括以下步驟:
[0059]步驟101:在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。
[0060]具體地，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，如無(wú)特殊說(shuō)明，所述基板通常指的是透明基板。進(jìn)一步地，為了便于取材，所述基板通?？蛇x取為玻璃基板；當(dāng)然需要說(shuō)明的是，所述基板還可以選取為陶瓷基板或塑料基板等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。
[0061]進(jìn)一步地，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述基板的第一表面形成所述第一對(duì)位標(biāo)記，可包括以下步驟:
[0062]S1:在所述基板的第一表面形成由不透光材料所形成的遮光層，并在所述遮光層之上形成第一光刻膠涂層；
[0063]具體地,可采用PVD (Physical Vapor Deposition,物理氣相沉積)等方法在所述基板的第一表面之上形成由所述不透光材料所形成的遮光層，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。其中，所述不透光材料(即所述遮光層)通?？梢詾榻饘俨牧希缈梢詾殇X層、鎢層、鉻層或其他金屬及金屬化合物導(dǎo)電層等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。
[0064]進(jìn)一步地，可采用物理涂敷的方式在所述遮光層之上形成所述第一光刻膠涂層，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作贅述。其中，所述第一光刻膠涂層可以為正型光刻膠涂層或負(fù)型光刻膠涂層等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作任何限定。
[0065]S2:對(duì)所述第一光刻膠涂層進(jìn)行曝光、顯影等操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層；
[0066]S3:對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層的所述遮光層進(jìn)行刻蝕操作，并在刻蝕操作之后，剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層作為所述第一對(duì)位標(biāo)記。
[0067]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，所形成的所述第一對(duì)位標(biāo)記可包括至少一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。
[0068]步驟102:以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記。
[0069]也就是說(shuō)，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩|旲工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提聞廣品良率及性能以及降低成本的效果。
[0070]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，由于所形成的所述第一對(duì)位標(biāo)記可包括至少一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記，因此，在以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)的第二對(duì)位標(biāo)記時(shí)，所形成的所述第二對(duì)位標(biāo)記也可包括至少一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作任何限定。
[0071]相應(yīng)地，所述第二對(duì)位標(biāo)記與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所述第二對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)，可以是指:所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記分別與所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)，且所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域分別位于所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)。
[0072]再有需要說(shuō)明的是，所形成的第二對(duì)位標(biāo)記(或第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記)的大小通常可小于與其相對(duì)應(yīng)的第一對(duì)位標(biāo)記(或第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記)的大小，即所形成的第二對(duì)位標(biāo)記(或第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記)所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域的面積通常小于與其相對(duì)應(yīng)的第一對(duì)位標(biāo)記(或第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記)所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域的面積，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0073]進(jìn)一步地，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述基板的第一表面形成所述第一對(duì)位標(biāo)記之前，所述方法通常還可以包括以下步驟:
[0074]在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層，其中，所述第二光刻膠涂層為負(fù)型光刻膠涂層；
[0075]相應(yīng)地，以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，可包括以下步驟:
[0076]S1:對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；
[0077]S2:在對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層；
[0078]S3:在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層；
[0079]其中，所述對(duì)位材料層可由不透光材料或透光材料所形成，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。具體地，所述不透光材料通?？梢詾榻饘俨牧?，如可以為鋁層、鎢層、鉻層或其他金屬及金屬化合物導(dǎo)電層等；所述透光材料通常可為無(wú)機(jī)材料等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作任何限定。
[0080]S4:剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
[0081]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層之后，通常還可以對(duì)其進(jìn)行相應(yīng)的前烘操作，以增加膜膠與基板表面的粘附性，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0082]進(jìn)一步地，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述基板的第二表面形成所述第二光刻膠涂層之前，所述方法通常還可以包括以下步驟:
[0083]在所述基板的第二表面形成保護(hù)層，所述保護(hù)層由透光材料所形成；其中，所述透光材料通?？蔀闊o(wú)機(jī)材料等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。相應(yīng)地，此時(shí)，所述第二光刻膠涂層通?？尚纬稍谒霰Ｗo(hù)層之上，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0084]進(jìn)一步地，以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，可包括以下步驟:
[0085]S1:對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；
[0086]S2:在對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層；
[0087]S3:對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的保護(hù)層進(jìn)行刻蝕操作，并形成過(guò)刻(udercut)；
[0088]S4:在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層；
[0089]S5:剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，并刻蝕剩余的保護(hù)層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
[0090]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在進(jìn)行對(duì)位標(biāo)記的制作時(shí)，可根據(jù)實(shí)際情況，對(duì)所述基板進(jìn)行相應(yīng)的翻面操作，如在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層之后，可將所述基板進(jìn)行翻面，以便更加方便地在所述基板的第一表面制作所述第一對(duì)位標(biāo)記；或在所述基板的第一表面形成所述第一對(duì)位標(biāo)記、且對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的基板的第一表面進(jìn)行曝光操作之后，可將所述基板再次進(jìn)行翻面，以便更加方便地對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不再贅述。
[0091]進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例一還提供了一種可適用于各種顯示裝置，如液晶顯示面板、電子紙、OLED (Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具備顯示功能的產(chǎn)品或部件中的基板，其中，所述基板的上下表面形成有利用本發(fā)明實(shí)施例中所述的對(duì)位標(biāo)記制作方法所形成的第一對(duì)位標(biāo)記以及第二對(duì)位標(biāo)記，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不再贅述。
[0092]本發(fā)明實(shí)施例一提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法及具備相應(yīng)對(duì)位標(biāo)記的基板，在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩模工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提高產(chǎn)品良率及性能以及降低成本的效果。
[0093]實(shí)施例二:
[0094]下面結(jié)合圖2、圖3 (a)?圖3 (I)對(duì)本發(fā)明實(shí)施例一中所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法進(jìn)行進(jìn)一步地說(shuō)明。具體地，在本發(fā)明所述實(shí)施例二中，假設(shè)所形成的第一對(duì)位標(biāo)記以及第二對(duì)位標(biāo)記均包括一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記。
[0095]具體地,如圖2所示,所述對(duì)位標(biāo)記的制作方法可包括以下步驟:
[0096]步驟201:在基板的第二表面形成保護(hù)層，所述保護(hù)層由透光材料所形成；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (a)所示。
[0097]具體地,可采用CVD (Chemical Vapor Deposition,化學(xué)氣相沉積)等方法在所述基板的第二表面之上形成所述保護(hù)層，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。其中，所述透光材料(即所述保護(hù)層)通常可為無(wú)機(jī)材料等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。
[0098]步驟202:在所述保護(hù)層之上形成第二光刻膠涂層，其中，所述第二光刻膠涂層為負(fù)型光刻膠涂層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (b)所示。
[0099]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述保護(hù)層之上形成第二光刻膠涂層之后，通常還可以對(duì)其進(jìn)行相應(yīng)的前烘操作，以增加膜膠與相應(yīng)保護(hù)層表面的粘附性，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0100]步驟203:將所述基板進(jìn)行翻面，并在所述基板的第一表面形成由不透光材料所形成的遮光層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (c)所示。
[0101]具體地，可采用PVD等方法在所述基板的第一表面之上形成由所述不透光材料所形成的遮光層，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。其中，所述不透光材料(即所述遮光層)通常可以為金屬材料，如可以為鋁層、鎢層、鉻層或其他金屬及金屬化合物導(dǎo)電層等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。
[0102]步驟204:在所述遮光層之上形成第一光刻膠涂層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 Cd)所示。
[0103]其中，所述第一光刻膠涂層可為正型光刻膠涂層或負(fù)型光刻膠涂層等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作任何限定。并且，需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，在所述遮光層之上形成第一光刻膠涂層之后，通常還可以對(duì)其進(jìn)行相應(yīng)的前烘操作，以增加膜膠與相應(yīng)遮光層表面的粘附性，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。[0104]步驟205:對(duì)所述第一光刻膠涂層進(jìn)行曝光、顯影等操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (e)所示。
[0105]具體地，由于在本發(fā)明所述實(shí)施例二中，假設(shè)即將形成的第一對(duì)位標(biāo)記以及第二對(duì)位標(biāo)記均包括一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記，因此，在采用相應(yīng)的掩膜板對(duì)所述第一光刻膠涂層進(jìn)行曝光時(shí)，可采用能形成一個(gè)對(duì)位標(biāo)記的掩膜板，因此，此時(shí)，在經(jīng)過(guò)曝光、顯影等操作之后，所得到第一光刻膠涂層可具備一個(gè)特定的圖案結(jié)構(gòu)，即可如圖3 (e)所示，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0106]步驟206:對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層的所述遮光層進(jìn)行刻蝕操作，得到相應(yīng)的覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層的、具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (f)所示。
[0107]具體地，在本發(fā)明所述實(shí)施例中，由于所述遮光層通?？蔀榻饘俨牧蠈?，因此，通?？刹捎酶煞涛g的方式對(duì)所述遮光層進(jìn)行相應(yīng)的刻蝕操作，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0108]步驟207:剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層作為所述第一對(duì)位標(biāo)記；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (g)所示。
[0109]步驟208:對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作，并將所述基板進(jìn)行翻面，以及，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (h)所
/Jn ο
[0110]步驟209:對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的保護(hù)層進(jìn)行刻蝕操作，并形成過(guò)刻；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (i)所示。
[0111]具體地，可采用干法刻蝕或濕法刻蝕的方式對(duì)所述保護(hù)層進(jìn)行相應(yīng)的刻蝕操作，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作贅述。
[0112]步驟210:在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (j)所示。
[0113]其中，所述對(duì)位材料層可由不透光材料或透光材料所形成，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作任何限定。具體地，所述不透光材料通常可以為金屬材料，如可以為鋁層、鎢層、鉻層或其他金屬及金屬化合物導(dǎo)電層等；所述透光材料通常可為無(wú)機(jī)材料等，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此也不作任何限定。
[0114]步驟211:剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，得到未被刻蝕掉的剩余保護(hù)層以及具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (k)所
/Jn ο
[0115]步驟212:刻蝕剩余的保護(hù)層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記；此時(shí)，所對(duì)應(yīng)的工藝示意圖可如圖3 (I)所示。
[0116]至此，即可在所述基板上形成能夠精確對(duì)位的雙面對(duì)位標(biāo)記。
[0117]本發(fā)明實(shí)施例二提供了一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法，在本發(fā)明實(shí)施例所述技術(shù)方案中，由于可將在基板一側(cè)形成的對(duì)位標(biāo)記作為相應(yīng)的掩膜，將基板另一側(cè)的圖形圖案化，從而實(shí)現(xiàn)了在基板上下表面制作雙面對(duì)位標(biāo)記，使得基板上下表面的圖形能夠精確對(duì)位的目的，在未增加掩模工藝的基礎(chǔ)上，達(dá)到了提高產(chǎn)品良率及性能以及降低成本的效果。
[0118]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種對(duì)位標(biāo)記的制作方法，其特征在于，包括: 在基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記；并 以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記； 其中，所述第一對(duì)位標(biāo)記由不透光材料所形成。
2.如權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述第一對(duì)位標(biāo)記以及所述第二對(duì)位標(biāo)記分別包括至少一個(gè)對(duì)位子標(biāo)記； 所述第二對(duì)位標(biāo)記與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所述第二對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)，是指: 所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記分別與所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記一一對(duì)應(yīng)，且所述第二對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域分別位于所述第一對(duì)位標(biāo)記的對(duì)位子標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述不透光材料為金屬材料。
4.如權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記，包括: 在所述基板的第一表面形成由所述不透光材料所形成的遮光層，并在所述遮光層之上形成第一光刻膠涂層； 對(duì)所述第一光刻膠涂層進(jìn)行曝光、顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層； 對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層的所述遮光層進(jìn)行刻蝕操作，并在刻蝕操作之后，剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第一光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的遮光層作為所述第一對(duì)位標(biāo)記。
5.如權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于， 所述第一光刻膠涂層為正型光刻膠涂層或負(fù)型光刻膠涂層。
6.如權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第一表面形成第一對(duì)位標(biāo)記之前，所述方法還包括: 在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層，其中，所述第二光刻膠涂層為負(fù)型光刻膠涂層； 以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，包括: 對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；并在曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層； 在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層； 剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的 第二光刻膠涂層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
7.如權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于， 所述對(duì)位材料層由不透光材料或透光材料所形成。
8.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于， 所述透光材料為無(wú)機(jī)材料。
9.如權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述基板的第二表面形成第二光刻膠涂層之前，所述方法還包括: 在所述基板的第二表面形成保護(hù)層，所述保護(hù)層由透光材料所形成； 以所述第一對(duì)位標(biāo)記為掩膜，在所述基板的第二表面形成與所述第一對(duì)位標(biāo)記相互對(duì)應(yīng)、且所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域位于所述第一對(duì)位標(biāo)記所對(duì)應(yīng)的水平投影區(qū)域之內(nèi)的第二對(duì)位標(biāo)記，包括: 對(duì)形成有所述第一對(duì)位標(biāo)記的所述基板的第一表面進(jìn)行曝光操作；并 在曝光操作之后，對(duì)形成在所述基板的第二表面的第二光刻膠涂層進(jìn)行顯影操作，得到具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層； 對(duì)覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的保護(hù)層進(jìn)行刻蝕操作，并形成過(guò)刻；之后， 在覆蓋有所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層的所述基板的第二表面形成對(duì)位材料層； 剝離所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的第二光刻膠涂層，并刻蝕剩余的保護(hù)層，得到相應(yīng)的具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層，并將所述具備特定圖案結(jié)構(gòu)的對(duì)位材料層作為所述第二對(duì)位標(biāo)記。
10.如權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于， 所述基板為玻璃基板。
11.一種基板，其特征在于，所述基板的上下表面形成有利用權(quán)利要求1~10任一所述的方法所形成的第一對(duì)位標(biāo)記以及第二對(duì)位標(biāo)記。
【文檔編號(hào)】H01L23/544GK103839923SQ201410065169
【公開(kāi)日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2014年2月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月25日
【發(fā)明者】舒適, 周春苗, 徐傳祥, 張鋒 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司