一種基板的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種基板的制作方法，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，能夠避免實(shí)際制得的黑矩陣或者彩色濾色層的線寬與設(shè)定的線寬之間的偏差，使黑矩陣能夠?qū)⒈∧ぞw管、數(shù)據(jù)線和柵線剛好完全遮擋，同時(shí)能夠得到更加精細(xì)化的黑矩陣或者彩色濾色層圖案，提高了液晶顯示器的顯示效果。該基板的制作方法包括：形成待處理層，在所述待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成所述遮光層的圖案，其中，所述遮光層的材質(zhì)為金屬；利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝；去除所述遮光層。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種基板的制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器是一種平面超薄的顯示設(shè)備，其結(jié)構(gòu)主要包括陣列基板、彩膜基板以及位于陣列基板和彩膜基板之間的液晶分子層。陣列基板上主要設(shè)置有陣列排布的薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線，彩膜基板上主要設(shè)置有黑矩陣和彩色濾色層。其中，黑矩陣的作用主要在于遮擋陣列基板上設(shè)置的薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線，使液晶顯示器具有較好的顯示效果，因此黑矩陣應(yīng)具有合適的線寬，以便剛好完全遮擋薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線。此外，為了實(shí)現(xiàn)更好的遮擋效果，還可以使黑矩陣和彩色濾色層等結(jié)構(gòu)直接設(shè)置于陣列基板上，其中黑矩陣位于陣列排布的薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線的上方。
[0003]以上所述表明，黑矩陣的線寬的準(zhǔn)確設(shè)定對(duì)液晶顯示器的顯示效果有很大影響。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，實(shí)際曝光工藝進(jìn)行時(shí)，掩膜板與黑矩陣或者彩色濾色層基板之間存在一定的間隙，該間隙導(dǎo)致實(shí)際制得的黑矩陣或者彩色濾色層的線寬與所使用的掩膜板上相應(yīng)圖案的線寬之間存在偏差。這一偏差導(dǎo)致實(shí)際制得的黑矩陣的線寬與設(shè)定的線寬不一致，因此黑矩陣不能夠?qū)⒈∧ぞw管、數(shù)據(jù)線和柵線剛好完全遮擋，降低了液晶顯示器的顯示效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種基板的制作方法，能夠避免實(shí)際制得的黑矩陣或者彩色濾色層的線寬與設(shè)定的線寬之間的偏差，使黑矩陣能夠?qū)⒈∧ぞw管、數(shù)據(jù)線和柵線剛好完全遮擋，同時(shí)能夠得到更加精細(xì)化的黑矩陣或者彩色濾色層圖案，提高了液晶顯示器的顯示效果。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種基板的制作方法，采用如下技術(shù)方案:
[0006]一種基板的制作方法包括:
[0007]形成待處理層，在所述待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成所述遮光層的圖案；
[0008]利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝；
[0009]去除所述遮光層。
[0010]所述遮光層的材質(zhì)為金屬。
[0011]所述待處理層為黑色感光樹(shù)脂，利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，所述待處理層形成黑矩陣。
[0012]所述基板的制作方法，所述基板為彩膜基板，所述制作方法還包括:
[0013]在所述基板上形成彩色濾色層；
[0014]在形成的所述黑矩陣和所述彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
[0015]所述待處理層為彩色感光樹(shù)脂，利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，所述待處理層形成彩色濾色層。
[0016]所述基板的制作方法，所述基板為彩膜基板，所述制作方法還包括:
[0017]在所述基板上形成黑矩陣；
[0018]在形成的所述黑矩陣和所述彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
[0019]所述基板的制作方法，所述基板為陣列基板，所述形成待處理層，在所述待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成所述遮光層的圖案之前，還包括:
[0020]在襯底基板上形成柵極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括柵線和柵極的圖形；
[0021]在形成的包括所述柵線和所述柵極的圖形上，形成柵極絕緣層；
[0022]在形成的所述柵極絕緣層上，形成半導(dǎo)體薄膜，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成包括有源層的圖形；
[0023]在形成的包括所述有源層的圖形上，形成源極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括數(shù)據(jù)線和源極的圖形；
[0024]在形成的包括所述數(shù)據(jù)線和所述源極的圖形上，形成鈍化層。
[0025]所述基板的制作方法，在所述去除所述遮光層之后，還包括:
[0026]在形成的所述黑矩陣以及所述鈍化層上形成對(duì)應(yīng)于漏極的過(guò)孔；
[0027]形成透明導(dǎo)電層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括像素電極的圖形，所述像素電極通過(guò)所述過(guò)孔與所述漏極電連接。
[0028]使用刻蝕的方法去除所述遮光層。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種如上所述的基板的制作方法。待處理層上圖案化的遮光層作為待處理層曝光過(guò)程中的掩膜板，使得掩膜板和待處理層之間不存在間隙，從而制作出的待處理層的圖形尺寸和預(yù)先設(shè)定的尺寸具有一致性。當(dāng)待處理層為黑色感光樹(shù)脂或者彩色感光樹(shù)脂時(shí)，應(yīng)用上述方法制作的基板上的黑矩陣或者彩色濾色層的線寬與設(shè)定的線寬一致，因此黑矩陣能夠剛好完全將薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線遮擋，提高了液晶顯示器的顯示效果，同時(shí)降低了能耗和成本。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0030]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0031]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作方法流程圖；
[0032]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作過(guò)程示意圖一；
[0033]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作過(guò)程示意圖二 ；
[0034]圖4為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作過(guò)程示意圖三；
[0035]圖5為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作過(guò)程示意圖四；
[0036]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中的基板的制作過(guò)程示意圖五；
[0037]圖7為本發(fā)明實(shí)施例中的彩膜基板的示意圖；
[0038]圖8為本發(fā)明實(shí)施例中的彩膜基板的制作方法流程圖一；
[0039]圖9為本發(fā)明實(shí)施例中的彩膜基板的制作方法流程圖二 ；[0040]圖10為本發(fā)明實(shí)施例中的陣列基板的平面示意圖；
[0041]圖11為本發(fā)明實(shí)施例中的圖10中的陣列基板沿A-A’方向的截面示意圖；
[0042]圖12為本發(fā)明實(shí)施例中的陣列基板的制作方法流程圖一；
[0043]圖13為本發(fā)明實(shí)施例中的陣列基板的制作方法流程圖二。
[0044]附圖標(biāo)記說(shuō)明:[0045]1 一襯底基板；2—待處理層；3—遮光層；
[0046]4一光刻膠；5—黑矩陣；6—彩色濾色層；
[0047]7一透明保護(hù)層；8—柵線；9一柵極；
[0048]10—柵極絕緣層；11 一有源層；12—數(shù)據(jù)線；
[0049]13一源極；14一漏極；15—純化層；
[0050]16—過(guò)孔；17—像素電極。
【具體實(shí)施方式】
[0051]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0052]實(shí)施例一
[0053]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種基板的制作方法，如圖1所示，該制作方法包括:
[0054]步驟S101、形成待處理層，在待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成遮光層的圖案。
[0055]步驟S102、利用遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝。
[0056]步驟S103、去除遮光層。
[0057]為了同時(shí)滿(mǎn)足較好的遮光效果和準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移掩膜板的圖案的要求，本發(fā)明實(shí)施例中的遮光層的材質(zhì)優(yōu)選為金屬。
[0058]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種如上所述的基板的制作方法。待處理層上圖案化的遮光層作為待處理層曝光過(guò)程中的掩膜板，使得掩膜板和待處理層之間不存在間隙，從而制作出的待處理層的圖形尺寸和預(yù)先設(shè)定的尺寸具有一致性。當(dāng)待處理層為黑色感光樹(shù)脂或者彩色感光樹(shù)脂時(shí)，應(yīng)用上述方法制作的基板上的黑矩陣或者彩色濾色層的線寬與設(shè)定的線寬一致，因此黑矩陣能夠剛好完全將薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線遮擋，提高了液晶顯示器的顯示效果，同時(shí)降低了能耗和成本。
[0059]具體地，上述制作方法可以如下所述:
[0060]首先，如圖2所示，在襯底基板1上形成待處理層2。需要說(shuō)明的是，在實(shí)際情況中，襯底基板1和待處理層2之間還可以設(shè)置有其他結(jié)構(gòu)，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限制，其中襯底基板1可以為玻璃基板、石英基板等透光性好的基板。
[0061]其次，如圖3所示，在待處理層2上形成遮光層3。本發(fā)明實(shí)施例中，遮光層3的材質(zhì)優(yōu)選為金屬，可以為鑰、鋁、銅等金屬，其厚度可以為200~3000埃，但遮光層3的材質(zhì)不局限于金屬，其他可以很好地轉(zhuǎn)移掩膜板的圖案的遮光材料均可作為遮光層3。
[0062]再次，在遮光層3上涂覆光刻膠4，使用掩膜板遮蓋進(jìn)行曝光，經(jīng)過(guò)顯影、刻蝕等步驟后，形成如圖4所示的遮光層3的圖案，其中遮光層3的圖案上覆蓋有光刻膠4。
[0063]然后，如圖5所示，利用遮光層3的圖案作為掩膜板對(duì)待處理層2進(jìn)行曝光，經(jīng)過(guò)顯影、刻蝕等工藝后，曝光部分的待處理層2被除去。
[0064]最后，去除遮光層3和光刻膠4，形成如圖6所示的圖案化的待處理層5，通常采用刻蝕的方法去除遮光層3。本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選的是在去除圖案化的遮光層3的同時(shí)去除光刻膠4，也可以在形成遮光層3的圖案后，直接去除光刻膠4，再使用沒(méi)有光刻膠4覆蓋的圖案化的遮光層3作為掩膜板對(duì)待處理層2進(jìn)行曝光，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限定。
[0065]需要說(shuō)明的是，待處理層2的材質(zhì)可以為基板上各種結(jié)構(gòu)所需的材質(zhì)，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限制。示例性地，待處理層2的材質(zhì)可以為黑色感光樹(shù)脂，則利用遮光層3的圖案作為掩膜板對(duì)待處理層2進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，待處理層2形成黑矩陣5 ;待處理層2的材質(zhì)也可以為彩色感光樹(shù)脂，則利用遮光層3的圖案作為掩膜板對(duì)待處理層2進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，待處理層2形成彩色濾色層6。彩色濾色層包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域，每個(gè)區(qū)域的制作過(guò)程都可以包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法。
[0066]實(shí)施例二
[0067]具體地，當(dāng)待處理層2為黑色感光樹(shù)脂時(shí)，基板為彩膜基板時(shí)，如圖7所示，彩膜基板主要包括依次設(shè)置的襯底基板1、黑矩陣5和彩色濾色層6、透明保護(hù)層7等結(jié)構(gòu)。如圖8所示，該制作方法還包括:
[0068]步驟S801、在基板上形成彩色濾色層。
[0069]如圖7所示，彩色濾色層6的材質(zhì)為彩色感光樹(shù)脂，彩色濾色層6包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域，每個(gè)區(qū)域選用的為相應(yīng)顏色的彩色感光樹(shù)脂制成。
[0070]可以使用噴墨打印、顏料分散法、印刷等方法在基板上形成彩色濾色層6。其中，由于彩色濾色層6包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域，應(yīng)分三次分別形成。示例性地，先形成紅色區(qū)域，應(yīng)在基板上涂布一層紅色感光樹(shù)脂，使用相應(yīng)的掩膜板遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影，得到紅色區(qū)域；然后形成綠色區(qū)域，在整個(gè)基板上涂布綠色感光樹(shù)脂，使用相應(yīng)的掩膜板遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影，得到綠色區(qū)域；最后形成藍(lán)色區(qū)域，在整個(gè)基板上涂布藍(lán)色感光樹(shù)脂，使用相應(yīng)的掩膜板遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影，最后得到藍(lán)色區(qū)域。經(jīng)過(guò)上述過(guò)程后，在整個(gè)基板上形成包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域的彩色濾色層6。
[0071]需要說(shuō)明的是，彩色濾色層6的制備可以采用以上所述的現(xiàn)有技術(shù)中的方法，也可以采用本發(fā)明實(shí)施例中提供的制作方法。為了保證制作的黑矩陣5的線寬與預(yù)先設(shè)計(jì)的線寬一致，若采用現(xiàn)有技術(shù)制作彩色濾色層6，則可以在形成黑矩陣5之后制作彩色濾色層6 ;若采用本發(fā)明實(shí)施例中的方法制作彩色濾色層6，則彩色濾色層6的制備可以在形成黑矩陣5之后，也可以在形成黑矩陣5之前，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限制。
[0072]步驟S802、在形成的黑矩陣和彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
[0073]可以通過(guò)沉積、涂覆等方式在形成的黑矩陣5和彩色濾色層6上形成透明保護(hù)層
7。一般地，透明保護(hù)層7選用的材料優(yōu)選為環(huán)氧樹(shù)脂系和亞克力樹(shù)脂系高分子材料。
[0074]此外，還可以通過(guò)沉積、濺射、涂覆等方式在所述透明保護(hù)層7上形成透明導(dǎo)電膜。一般地，透明導(dǎo)電膜選用的材料可以為氧化銦錫或氧化銦鋅等透明導(dǎo)電物。透明導(dǎo)電膜的設(shè)定可以根據(jù)實(shí)際液晶顯示器的需要而定，示例性地，當(dāng)液晶顯示器采用高級(jí)超維場(chǎng)轉(zhuǎn)換技術(shù)時(shí)，彩膜基板上不需要設(shè)置有透明導(dǎo)電膜。[0075]實(shí)施例三
[0076]當(dāng)待處理層2為彩色感光樹(shù)脂時(shí)，基板為如圖7所示的彩膜基板時(shí)，由于彩色濾色層6包括紅色區(qū)域、綠色區(qū)域和藍(lán)色區(qū)域，因此在制作過(guò)程中可以重復(fù)實(shí)施例一中的制作方法三次，從而制作整個(gè)彩色濾色層6。彩色濾色層6制作的線寬與預(yù)先設(shè)計(jì)的線寬一致，則制作的黑矩陣5的線寬也可以與預(yù)先設(shè)計(jì)的線寬一致。具體地，如圖9所示，該制作方法還包括:
[0077]步驟S901、在基板上形成黑矩陣。
[0078]黑矩陣5所用的材質(zhì)優(yōu)選為黑色感光樹(shù)脂，可以使用噴墨打印、顏料分散法、印刷等方法在基板上形成黑矩陣。示例性地，可以在基板上涂布一層黑色感光樹(shù)脂，然后使用帶有所需圖案的掩膜板遮蓋，經(jīng)紫外曝光，顯影，最后在基板上形成黑矩陣5。
[0079]需要說(shuō)明的是，黑矩陣5的制備可以采用以上所述的現(xiàn)有技術(shù)中的方法，也可以采用本發(fā)明實(shí)施例中提供的制作方法。為了保證制作的黑矩陣5的線寬與預(yù)先設(shè)計(jì)的線寬一致，若采用現(xiàn)有技術(shù)制作黑矩陣5，則可以在形成彩色濾色層6之后制作黑矩陣5 ;若采用本發(fā)明實(shí)施例中的方法制作黑矩陣5，則黑矩陣5的制備可以在形成彩色濾色層6之后，也可以在形成彩色濾色層6之前，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限制。
[0080]步驟S902、在形成的黑矩陣和彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
[0081]可以通過(guò)沉積、涂覆等方式在形成的黑矩陣5和彩色濾色層6上形成透明保護(hù)層
7。一般地，透明保護(hù)層7選用的材料優(yōu)選為環(huán)氧樹(shù)脂系和亞克力樹(shù)脂系高分子材料。
[0082]此外，還可以通過(guò)沉積、濺射、涂覆等方式在所述透明保護(hù)層7上形成透明導(dǎo)電膜。一般地，透明導(dǎo)電膜選用的材料可以為氧化銦錫或氧化銦鋅等透明導(dǎo)電物。透明導(dǎo)電膜的設(shè)定可以根據(jù)實(shí)際液晶顯示器的需要而定，示例性地，當(dāng)液晶顯示器采用高級(jí)超維場(chǎng)轉(zhuǎn)換技術(shù)時(shí)，彩膜基板上不需要設(shè)置有透明導(dǎo)電膜。
[0083]實(shí)施例四
[0084]當(dāng)待處理層2為黑色感光樹(shù)脂或者彩色感光樹(shù)脂，基板為陣列基板時(shí)，液晶顯示器應(yīng)用的是COA (color filter on array,彩色濾光片位于陣列基板上)技術(shù)。此時(shí)，待處理層2為黑色感光樹(shù)脂或者彩色感光樹(shù)脂時(shí)，陣列基板具有相同的結(jié)構(gòu)。具體如圖10和圖11所示，陣列基板主要包括依次設(shè)置的襯底基板1、柵線8和柵極9、柵極絕緣層10、有源層
11、數(shù)據(jù)線12和源極13以及漏極14、鈍化層15、黑矩陣5和彩色濾色層6 (為清楚顯示其他結(jié)構(gòu)，故圖10中未示出黑矩陣5和彩色濾色層6)、像素電極17等結(jié)構(gòu)。因此該制作方法在形成待處理層2，在待處理層2上形成遮光層3，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成遮光層3的圖案之前還包括如圖12所示的步驟:
[0085]步驟S1201、在襯底基板上形成柵極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括柵線和柵極的圖形。
[0086]首先，如圖10和圖11所示，可以通過(guò)濺射、熱蒸發(fā)等方法在襯底基板1上形成一層?xùn)艠O金屬層。在形成柵極金屬層之前，可以在襯底基板1上先形成一層緩沖層。
[0087]其次，在柵極金屬層上涂覆一層光刻膠，使用具有包括柵線8和柵極9圖形的掩膜板進(jìn)行遮蓋，然后曝光、顯影、刻蝕，最后剝離光刻膠，形成包括柵線8和柵極9的圖形。
[0088]步驟S1202、在形成的包括柵線和柵極的圖形上，形成柵極絕緣層。
[0089]可以通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等方法在柵線8和柵極9的圖形上形成柵極絕緣層10。
[0090]步驟S1203、在形成的柵極絕緣層上，形成半導(dǎo)體薄膜，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成包括有源層的圖形。
[0091]首先，可以通過(guò)濺射等方法在柵極絕緣層10上形成半導(dǎo)體薄膜。
[0092]其次，在半導(dǎo)體薄膜上涂覆一層光刻膠，然后使用具有包括有源層11圖形的掩膜板進(jìn)行遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕，最后剝離光刻膠，形成包括有源層11的圖形。
[0093]步驟S1204、在形成的包括有源層的圖形上，形成源極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括數(shù)據(jù)線和源極的圖形。
[0094]首先，在形成的包括有源層11的圖形上，可以通過(guò)濺射、熱蒸發(fā)等方法形成一層源極金屬層。
[0095]其次，在形成的源極金屬層上涂覆一層光刻膠，然后使用具有包括數(shù)據(jù)線12和源極13的圖形的掩膜板進(jìn)行遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕，最后剝離光刻膠，形成包括數(shù)據(jù)線12和源極13的圖形，還可以同時(shí)形成漏極14。
[0096]步驟S1205、在形成的包括數(shù)據(jù)線和源極的圖形上，形成鈍化層。
[0097]可以通過(guò)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等方法在數(shù)據(jù)線12和源極13的圖形上形成一層鈍化層15。
[0098]經(jīng)過(guò)步驟S1201?S1205后形成的陣列基板主要包括襯底基板1、柵線8和柵極
9、柵極絕緣層10、有源層11、數(shù)據(jù)線12和源極13以及漏極14、鈍化層15。然后在陣列基板上制作黑矩陣5和彩色濾色層6。
[0099]具體地，當(dāng)待處理層2為黑色感光樹(shù)脂時(shí)，可以先采用本發(fā)明實(shí)施例提供的制作方法在鈍化層15上形成黑矩陣5，然后通過(guò)本發(fā)明實(shí)施例提供的制作方法或者現(xiàn)有技術(shù)的方法制作彩色濾色層6 ;也可以先采用本發(fā)明實(shí)施例提供的制作方法在鈍化層15上形成彩色濾色層6，然后通過(guò)本發(fā)明實(shí)施例提供的制作方法制作黑矩陣5。當(dāng)待處理層2為彩色感光樹(shù)脂時(shí)，黑矩陣5和彩色濾色層6的制作方法與上述方法類(lèi)似，本發(fā)明實(shí)施例在此不做贅述。
[0100]當(dāng)基板為陣列基板，待處理層2為黑色感光樹(shù)脂或者彩色感光樹(shù)脂時(shí)，經(jīng)過(guò)上述制作過(guò)程后，形成的陣列基板主要包括襯底基板1、柵線8和柵極9、柵極絕緣層10、有源層
11、數(shù)據(jù)線12和源極13以及漏極14、鈍化層15、黑矩陣5和彩色濾色層6。因此，該制作方法在去除遮光層3之后還包括如圖13所示的步驟:
[0101]步驟S1301、在形成的黑矩陣以及鈍化層上形成對(duì)應(yīng)于漏極的過(guò)孔。
[0102]使用具有過(guò)孔16的圖形的掩膜板對(duì)黑矩陣以及鈍化層15進(jìn)行遮蓋，然后經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等步驟后，剝離光刻膠，在黑矩陣以及鈍化層15相應(yīng)位置上形成了對(duì)應(yīng)于漏極14的過(guò)孔。
[0103]步驟S1302、形成透明導(dǎo)電層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括像素電極的圖形，像素電極通過(guò)過(guò)孔與漏極電連接。
[0104]首先，可以通過(guò)濺射等方法形成一層透明導(dǎo)電層。
[0105]其次，在形成的透明導(dǎo)電層上涂覆一層光刻膠，然后使用具有包括像素電極17的圖形的掩膜板進(jìn)行遮蓋，進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕，最后剝離光刻膠，形成包括像素電極17圖形。像素電極17通過(guò)過(guò)孔16與漏極14電連接。[0106]需要說(shuō)明的是，若液晶顯示器使用的是高級(jí)超維場(chǎng)轉(zhuǎn)換技術(shù)，則上述陣列基板的結(jié)構(gòu)和制作方法應(yīng)該發(fā)生相應(yīng)變化，此外陣列基板也可以為頂柵型陣列基板等其他結(jié)構(gòu)的陣列基板，制作方法也應(yīng)相應(yīng)發(fā)生變化，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限制。
[0107]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板的制作方法，其特征在于，包括:形成待處理層，在所述待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成所述遮光層的圖案；利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝；去除所述遮光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述遮光層的材質(zhì)為金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述待處理層為黑色感光樹(shù)脂，利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，所述待處理層形成黑矩陣。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板的制作方法，其特征在于，所述基板為彩膜基板，所述制作方法還包括:在所述基板上形成彩色濾色層；在形成的所述黑矩陣和所述彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述待處理層為彩色感光樹(shù)脂，利用所述遮光層的圖案作為掩膜板對(duì)所述待處理層進(jìn)行構(gòu)圖工藝之后，所述待處理層形成彩色濾色層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板的制作方法，其特征在于，所述基板為彩膜基板，所述制作方法還包括:在所述基板上形成黑矩陣；在形成的所述黑矩陣和所述彩色濾色層上形成透明保護(hù)層。
7.根據(jù)權(quán)利要求3或5所述的基板的制作方法，其特征在于，所述基板為陣列基板，所述形成待處理層，在所述待處理層上形成遮光層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成所述遮光層的圖案之前，還包括:在襯底基板上形成柵極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括柵線和柵極的圖形；在形成的包括所述柵線和所述柵極的圖形上，形成柵極絕緣層；在形成的所述柵極絕緣層上，形成半導(dǎo)體薄膜，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成包括有源層的圖形；在形成的包括所述有源層的圖形上，形成源極金屬層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括數(shù)據(jù)線和源極的圖形；在形成的包括所述數(shù)據(jù)線和所述源極的圖形上，形成鈍化層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述去除所述遮光層之后，還包括:在形成的所述黑矩陣以及所述鈍化層上形成對(duì)應(yīng)于漏極的過(guò)孔；形成透明導(dǎo)電層，通過(guò)構(gòu)圖工藝，形成包括像素電極的圖形，所述像素電極通過(guò)所述過(guò)孔與所述漏極電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，使用刻蝕的方法去除所述遮光層。
【文檔編號(hào)】H01L21/02GK103646852SQ201310681507
【公開(kāi)日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月12日
【發(fā)明者】張鋒, 惠官寶, 曹占鋒, 姚琪 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司