一種透明導電膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種透明導電膜，包括基材，并在基材表面依次鍍覆底層、黑色層、導電層和保護層，然后對黑色層、導電層和保護層進行圖案蝕刻，形成網格線圖案，網格線沿著第一方向和第二方向布設，網格線之間形成的網格單元為透明區(qū)，透明區(qū)的形狀為四邊形。導電層為金屬網格，阻抗低，適用于中大屏幕觸摸屏，并且具有較高的透光率和抗干擾能力，減小設備的耗電；并且金屬網格與現有技術中ITO導電膜相比，成本大大降低。
【專利說明】—種透明導電膜【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及導電層【技術領域】，特別涉及一種金屬網格的透明導電膜。
【背景技術】
[0002]透明導電膜廣泛應用于觸摸屏、平板顯示、光伏器件、電磁屏蔽等領域，特別在電容式觸摸屏領域的應用快速增長。觸摸屏是可接收觸摸等輸入信號的感應裝置。觸摸屏賦予了信息交互嶄新的面貌，是極富吸引力的全新信息交互設備。觸摸屏技術的發(fā)展引起了國內外的普遍關注，已成為光電行業(yè)異軍突起的朝陽高新技術產業(yè)。
[0003]透明導電膜作為觸摸屏中至關重要的組成部分，目前，觸摸屏的導電膜主要是以ITO (氧化銦錫)通過真空鍍膜、圖形化蝕刻的工藝形成于絕緣基材上。但是ITO材料昂貴，生產成本很高；并且受鍍膜溫度限制，ITO鍍在基材上不能夠做到低阻抗，不利于做成大面積的觸摸屏，阻抗高了電容式觸摸屏會降低性能，甚至驅動集成電路將無法驅動其正常工作。
[0004]另外，ITO制成的導電膜的透光率不是很高，通常只有80%-88%左右，這樣影響到了顯示的亮度、對比度以及色彩等，當透光率較低時，如果想看清屏幕就必須調高亮度，設備的耗電必然會增加，同時對眼睛的刺激也會增加。
【發(fā)明內容】
[0005]本發(fā)明目的是:提供一種透明導電膜，用多層復合結構的網格層替代ΙΤ0，降低阻抗，減少成本，并且具有良好的透光率(透光率可達88%-90%)。
[0006]本發(fā)明的技術方案是:
一種透明導電膜包括基材和網格線層?；陌ǖ谝槐砻婧偷诙砻妫谝槐砻婧偷诙砻嫦鄬υO置。網格線層鍍覆在第二表面，網格線層中的網格線之間形成的網格單元為透明區(qū)，網格線層包括黑色層、導電層和保護層，黑色層成形于第二表面，其為金屬氧化物層；導電層為金屬層；保護層為金屬合金層，用于防止導電層氧化。
[0007]優(yōu)選的，所述網格線層中的網格線分別沿著第一方向和第二方向布設，第一方向和第二方向相交，透明區(qū)為四邊形。
[0008]優(yōu)選的，所述第二表面和黑色層之間還成形有底層，底層為Si02層。
[0009]優(yōu)選的，所述黑色層可以代替所述保護層。
[0010]優(yōu)選的，所述導電層中的金屬為銅。
[0011]優(yōu)選的，所述導電層的厚度為0.5_5um。
[0012]優(yōu)選的，所述黑色層中的金屬氧化物為氧化鉻、氧化鎳的混合物，黑色層的厚度為40nm-100nmo
[0013]優(yōu)選的，所述保護層中的金屬合金為銅鎳合金或不銹鋼，保護層的厚度為20nm-500nmo
[0014]優(yōu)選的， 所述基材為玻璃或者透明塑料膜。[0015]本發(fā)明中導電膜的透光率、阻抗與網格線的線寬以及線距有關。網格線距離越大，線寬越小，透光率就越高；而網格線的距離越小，線寬越大，導電性能就越高，阻抗就越低。
[0016]所述的透明導電膜，利用真空濺射鍍膜或蒸發(fā)鍍膜的方法依次將各層鍍覆于基材之上，形成各個鍍層，然后再利用蝕刻的方法制得網格線。
[0017]本發(fā)明的優(yōu)點是:
1.用金屬網格線代替ITO導電膜，阻抗明顯變小，能夠穩(wěn)定適用于中大屏幕觸摸屏；相比ITO導電膜具有更高的透光率，在相同的顯示亮度情況下，使用本發(fā)明的導電膜時的耗電量更低，對眼睛的刺激也更小；并且，金屬網格的價格大大低于ITO導電膜，降低了觸摸屏的成本。
[0018]2.黑色層利用光學干涉得到表面為黑色，可以減少可見反射光，使得網格線不易被肉眼看見。
[0019]3.當基材的第二表面噴涂一些油墨圖案之后，不易于進行鍍膜，然而在第二表面和黑色層之間加設Si02的底層后，較易進行鍍膜，使得各層能夠牢固鍍覆在基材的第二表面，不易脫落。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020]下面結合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步描述:
圖1為本發(fā)明蝕刻前的結構示意圖，
圖2為本發(fā)明的結構示意圖。
[0021]其中:1.基材，2.底層，3.黑色層，4.導電層，5.保護層。
【具體實施方式】
[0022]實施例1:
本發(fā)明實施例1提供了一種透明導電膜，如圖1所示，本發(fā)明涉及的透明導電膜從下至上依次包括有基材1、底層2、黑色層3、導電層4、保護層5，基材I為玻璃或者為透明塑料膜，其包括相對設置的第一表面和第二表面，在基材I的第二表面首先用真空濺射鍍膜或蒸發(fā)鍍膜的方法鍍覆底層2，底層2為透明的Si02層，第二表面上可以噴涂油墨，形成油墨圖案；然后在底層2上依次鍍覆黑色層3、導電層4和保護層5，其中，黑色層3為氧化鉻和氧化鎳的混合物，其厚度為40nm-100nm，利用光學干涉的方法能夠使得肉眼看到的為黑色表面；導電層4為金屬層，優(yōu)選為銅，其厚度為0.5-5um ;保護層5為金屬合金層，優(yōu)選為銅鎳合金或不銹鋼，其厚度為20nm-500nm，保護層5用來防止導電層4氧化。覆膜完成之后，然后對黑色層3、導電層4和保護層5進行蝕刻，形成網格線，網格線分為兩個方向，分為第一方向和第二方向，網格線之間相交，網格線之間的間隙形成網格單元為透明區(qū)，網格單元為四邊形。當本實施例中的透明導電膜與顯示屏配合使用時，顯示屏在保護層5的外側，肉眼從第一表面朝向第二表面觀察，在透光方向上，導電層4和保護層5的投影均投射到黑色層3上，肉眼將看不到導電層4和保護層5的網格狀圖案。當本實施例中將導電層4的厚度設定為2um，金屬網格線的線寬為4-5um，線距為300_500um，此時的面電阻的數值在10歐姆左右，當基材I使用的是1.1mm厚的普通玻璃時，透光率能夠達到90%左右。
[0023]實施例2: 本發(fā)明實施例2提供了另一種透明導電膜，本實施例與實施例1相比，將保護層5換成黑色層3，黑色層3也能起到防止氧化的功能，這樣，肉眼也能夠從另一側進行觀察。
[0024]本領域的技術人員容易理解，以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種透明導電膜，其特征在于，包括: 基材，包括第一表面和第二表面，第一表面和第二表面相對設置； 所述第二表面鍍覆有網格線層，網格線層中的網格線之間形成的網格單元為透明區(qū)，網格線層包括: 黑色層，成形于第二表面，其為金屬氧化物層， 導電層，其為金屬層， 保護層，其為金屬合金層，防止導電層氧化。
2.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述網格線層中的網格線分別沿著第一方向和第二方向布設，第一方向和第二方向相交，透明區(qū)為四邊形。
3.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述第二表面和黑色層之間還成形有底層，底層為SiO2層。
4.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述黑色層可以代替所述保護層。
5.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述導電層中的金屬為銅。
6.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述導電層的厚度為0.5-5um。
7.根據權利要求1或4所述的透明導電膜，其特征在于，所述黑色層中的金屬氧化物為氧化鉻、氧化鎳的混合物，黑色層的厚度為40nm-100nm。
8.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述保護層中的金屬合金為銅鎳合金或不銹鋼，保護層的厚度為20nm-500nm。
9.根據權利要求1所述的透明導電膜，其特征在于，所述基材為玻璃或者透明塑料膜。
【文檔編號】H01B5/14GK103474133SQ201310444660
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年9月26日 優(yōu)先權日:2013年9月26日
【發(fā)明者】王立新 申請人:蘇州勝利光學玻璃有限公司