專利名稱：像素界定層及制備方法、oled基板、顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于有機(jī)電致發(fā)光二極管顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種像素界定層的制備方法及像素界定層、OLED基板、顯示裝置。
背景技術(shù)：
有機(jī)電致發(fā)光二極管(OLED,Organic Light Emitting Diode)是一種有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件，其具有制備工藝簡(jiǎn)單、成本低、發(fā)光效率高、易形成柔性結(jié)構(gòu)等優(yōu)點(diǎn)。因此，利用有機(jī)電致發(fā)光二極管的顯示技術(shù)已成為一種重要的顯示技術(shù)。現(xiàn)有技術(shù)中，針對(duì)有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件，其有機(jī)電致發(fā)光層形成方法有:一、真空蒸鍍方法，適用于有機(jī)小分子，其特點(diǎn)是有機(jī)電致發(fā)光層的形成不需要溶劑，薄膜厚度均一，但是設(shè)備投資大、材料利用率低、不適用于大尺寸產(chǎn)品的生產(chǎn)；二、采用有機(jī)電致發(fā)光材料的溶液制成有機(jī)電致發(fā)光層，包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等，適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點(diǎn)是設(shè)備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產(chǎn)上優(yōu)勢(shì)突出。特別是噴墨打印技術(shù)，能將溶液精準(zhǔn)的噴墨到像素區(qū)中，形成有機(jī)電致發(fā)光層。但是其最大的難點(diǎn)是有機(jī)電致發(fā)光材料的溶液在像素區(qū)內(nèi)難以形成厚度均一的有機(jī)電致發(fā)光層。在日本專利JP2008243406中公開(kāi)了一種有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件制備方法，其中，像素界定層(PDL)由兩層組成，第一層(下層)由無(wú)機(jī)親性材料(親性材料對(duì)有機(jī)電致發(fā)光材料的溶液有吸引性)組成，第二層(上層)由有機(jī)疏性材料(疏性材料對(duì)有機(jī)電致發(fā)光材料的溶液有排斥性)組成，采用兩層浸潤(rùn)性不同的材料組成的像素界定層，能夠使有機(jī)電致發(fā)光材料的溶液精準(zhǔn)地噴墨打印和形成厚度均一的有機(jī)電致發(fā)光材料薄膜；在制備像素界定層時(shí)需要先做無(wú)機(jī)親性材料層，在無(wú)機(jī)親性液材料層上制備有機(jī)疏性材料層，再將兩層材料通過(guò)構(gòu)圖工藝制成像素界定層。同樣，在歐洲專利EP0989778A1公開(kāi)了在基底上形成兩層結(jié)構(gòu)的像素界定層的方法，通過(guò)使用等離子體共同處理，使之第一層(下層)具有高表面能(親性材料)，第二層(上層)具有低表面能(疏性材料)，也能滿足精確地噴墨打印和薄膜均一性的需求。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:兩層結(jié)構(gòu)的像素界定層制備要通過(guò)兩步完成制備，步驟繁瑣，需要投入不同的設(shè)備，尤其是涉及到親性材料，特別是無(wú)機(jī)親性材料時(shí)要用到等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)，設(shè)備昂貴。此外，由于有機(jī)無(wú)機(jī)材料之間存在界面問(wèn)題，易發(fā)生分層。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題包括，針對(duì)現(xiàn)有的像素界定層的制備步驟繁瑣的問(wèn)題，提供一種步驟簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)的像素界定層的制備方法及像素界定層、OLED基板、顯示裝置。

解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種像素界定層的制備方法，包括如下步驟:
步驟1、將混合溶液形成在基底上，形成混合溶液薄膜；所述混合溶液包括溶劑以及溶解在溶劑中的親性材料、疏性材料；步驟2、對(duì)上述混合溶液薄膜進(jìn)行熱處理工藝，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層；步驟3、通過(guò)構(gòu)圖工藝形成包括像素界定層的圖形。本發(fā)明將親性材料與疏性材料及其溶劑制成混合溶液，故其可以一步形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，步驟簡(jiǎn)單，適用性更廣。優(yōu)選的是，所述溶劑包括親性材料溶解劑以及疏性材料溶解劑，所述親性材料溶解劑的沸點(diǎn)高于疏性材料溶解劑的沸點(diǎn)；所述步驟2具體包括:對(duì)混合溶液薄膜先在第一溫度加熱，后于第二溫度加熱，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，其中，第一溫度高于疏性材料溶解劑的沸點(diǎn)且低于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)，第二溫度高于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)。優(yōu)選的是，所述疏性材料溶解劑體積比占溶劑總體積的30% 60%。進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述親性材料溶解劑為N，N- 二甲基甲酰胺、N，N- 二甲基乙酰胺或二甲基亞砜中任意一種；所述疏性材料溶解劑為四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷或丙酮中任意一種。進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述第一溫度為10 30°C ;所述第二溫度為150 500°C。

優(yōu)選的是，所述步驟2具體包括:蒸干混合溶液薄膜中的溶劑，之后將其加熱到疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，其中疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低于親性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述蒸干混合溶液薄膜中的溶劑的溫度低于疏性材料的玻璃化
轉(zhuǎn)變溫度。進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為150 300°C ；優(yōu)選的是，所述親性材料為剛性聚合物，所述疏性材料為柔性聚合物。進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述剛性聚合物為聚酰亞胺、雙酚A聚碳酸酯、主鏈中含有烷基的聚合物以及主鏈中含有環(huán)狀剛性結(jié)構(gòu)的聚合物中的任意一種；所述柔性聚合物為聚硅氧烷、含氟的聚烯烴、含氟的聚環(huán)氧烷烴中的任意一種。更進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述含氟的聚烯烴為氟化聚丙烯、氟化聚1-丁烯、氟化聚4-甲基-1-戊烯中的任意一種；所述含氟的聚環(huán)氧烷烴為氟化聚環(huán)氧乙烷或氟化聚環(huán)氧丙烷。進(jìn)一步優(yōu)選的是，混合溶液中還包括光刻膠。解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種像素界定層，所述像素界定層由上述方法制備的。由于本發(fā)明的像素界定層是由上述制備方法制備的，故其步驟簡(jiǎn)單，使得工藝及其設(shè)備成本降低。
優(yōu)選的是，所述像素界定層為所述像素界定層為從上部到下部親性材料含量逐漸增高，疏性材料含量逐漸降低的結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的是，所述像素界定層包括上層為疏性材料層，下層為親性材料層的兩層結(jié)構(gòu)。解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種OLED基板，所述OLED基板包括上
述像素界定層。解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述OLED基板。


圖1為本發(fā)明的實(shí)施例2、3的像素界定層制備方法在基底上形成像素界定材料層后的結(jié)構(gòu)不意圖；圖2為本發(fā)明的實(shí)施例2、3、5的像素界定層制備方法所形成的像素界定層的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明的實(shí)施例2的像素界定層制備方法所形成的像素界定層中采用噴墨打印法形成有機(jī)薄膜的原理示意圖；圖4為本發(fā)明的實(shí)施例2的像素界定層制備方法所形成的像素界定層中采用噴墨打印法形成有機(jī)薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明的實(shí)施例6的OLED面板示意圖；以及，圖6為本發(fā)明的實(shí)施 例6的OLED面板另一種示意圖。其中附圖標(biāo)記為:101、基底；102、第一電極；103、像素界定材料層；201、像素界定層；301、液體；401、有機(jī)薄膜；501、有機(jī)電致發(fā)光層；502、第二電極；5011、有機(jī)電致發(fā)光材料層；5012、空穴注入層；5013、空穴傳輸層；5014、電子傳輸層；5015、電子注入層。
具體實(shí)施例方式為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。實(shí)施例1:本實(shí)施例提供一種像素界定層的制備方法，包括如下步驟:步驟1、將混合溶液涂覆形成在基底上，形成混合溶液薄膜；所述混合溶液體系包括親性材料、疏性材料以及溶劑；步驟2、對(duì)上述混合溶液薄膜進(jìn)行熱處理工藝，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層；步驟3、通過(guò)一次構(gòu)圖工藝在像素界定材料層上形成包括像素界定層的圖形。本實(shí)施例將親性材料與疏性材料及其溶劑混合，故其可以一步形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，然后通過(guò)構(gòu)圖工藝形成像素界定層，與現(xiàn)有技術(shù)相比較步驟簡(jiǎn)單，適用性更廣。實(shí)施例2:結(jié)合圖1、2所示，本實(shí)施例提供一種像素界定層201的制備方法，其具體步驟如下:步驟1、將混合溶液涂覆形成在基底101上，形成混合溶液薄膜；所述混合溶液包括親性材料、疏性材料以及溶劑；所述溶劑包括親性材料溶解劑以及疏性材料溶解劑(即親性材料主要溶于低沸點(diǎn)溶解劑,疏性材料主要溶于高沸點(diǎn)溶解劑)。其中，基底101通常為OLED顯示裝置的陣列基板的基底101，其上還可形成有第一電極102、薄膜晶體管驅(qū)動(dòng)電路(圖中未示出)等其他結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的，所疏性材料溶解劑(高沸點(diǎn)溶解劑)為N，N- 二甲基甲酰胺、N，N- 二甲基乙酰胺或二甲基亞砜中任意一種；親性材料溶解劑(低沸點(diǎn)溶解劑)為四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷或丙酮中任意一種。其中，親疏性材料溶解劑的比例直接影響著親性材料與疏性材料的分離結(jié)果，疏性材料溶解劑的含量越高，疏性材料就聚集在溶液薄膜表面越多，但是為了滿足親性材料溶解劑對(duì)親性材料的溶解和上層疏性材料的含量，一般可以把疏性材料溶解劑的體積占溶劑總體積的30% 60%。步驟2、對(duì)混合溶液薄膜先在第一溫度加熱，后于第二溫度加熱。當(dāng)對(duì)混合溶液薄膜先在第一溫度加熱時(shí)，也就是低溫加熱時(shí)，由于疏性材料主要溶于低沸點(diǎn)溶解劑中，在低溫條件下，隨著低沸點(diǎn)溶解劑的揮發(fā)，疏性材料隨之遷移到薄膜表面并析出；而當(dāng)對(duì)第二溫度加熱時(shí)，也就是高溫加熱時(shí)，由于親性材料主要溶于高沸點(diǎn)溶解劑中，在高溫條件下，隨著高沸點(diǎn)溶解劑的揮發(fā)，親性材料也逐漸析出，最后形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層103。進(jìn)一步的，第一溫度高于疏性材料溶解劑的沸點(diǎn)且低于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)，第二溫度高于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)。優(yōu)選的，第一溫度可以為10 30°C，第二溫度可以為150 500°C。步驟3、通過(guò)構(gòu)圖工藝在像素界定材料層103上形成包括像素界定層201的圖形。優(yōu)選的，在混合溶劑中還包括光刻膠，此時(shí)步驟3不用再次涂布光刻膠層，而可直接對(duì)像素界定材料層103 進(jìn)行曝光、顯影，這樣可以進(jìn)一步簡(jiǎn)化工藝步驟。如圖3、4所示，本實(shí)施例中形成的像素界定層201，上部的親性材料含量小于上部的疏性材料含量，所以上部表現(xiàn)為疏性，對(duì)液體301有排斥性，故當(dāng)對(duì)像素界定層201限定的像素區(qū)內(nèi)噴墨打印時(shí)，即使液體301偏離像素區(qū)域時(shí)也會(huì)流入像素區(qū)內(nèi)。由于像素界定層201的下部的親性材料含量大于疏性材料含量，所以下部表現(xiàn)為親性，對(duì)溶液有吸引性，故當(dāng)液體301噴到像素區(qū)后自然形成液體301薄厚均一的有機(jī)薄膜401。進(jìn)一步的，像素界定層上部表現(xiàn)為疏性，化學(xué)活性物質(zhì)含量低，可以有效提高噴墨打印薄膜厚度的均一性，有利于提高0LED/PLED (高分子有機(jī)電致發(fā)光二極管)器件的壽命。實(shí)施例3:結(jié)合圖1、2所示，本實(shí)施例提供一種像素界定層的制備方法，與實(shí)施例2的制備方法大體相同，本實(shí)施例的方法包括如下步驟:步驟1、將混合溶液涂覆在基底101上，形成混合溶液薄膜；所述混合溶液包括親性材料、疏性材料以及溶劑。其中，與實(shí)施例1中的溶劑不同，本實(shí)施例的溶劑可以包括對(duì)親性材料和疏性材料均可以溶解的至少一種溶解劑，也可以是至少兩種分別能夠溶解親性材料、疏性材料的溶解劑。步驟2、在完成上述步驟的基板上形成像素界定材料層103，具體包括如下步驟:
步驟201、蒸干混合液薄膜中的溶劑，形成固態(tài)薄膜。優(yōu)選的，所述蒸干混合溶液薄膜中的溶劑的溫度低于疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。即當(dāng)溫度小于疏性材料(柔性聚合物)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度時(shí)，溶劑就可以被蒸干所述蒸干混合溶液薄膜中的溶劑的溫度一般為100°c以內(nèi)。。步驟202、之后將其加熱到疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，其中該加熱溫度低于親性材料玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層103。其中，隨著加熱溫度升高到疏性材料(柔性聚合物)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近時(shí)，疏性材料(柔性聚合物)的鏈段容易運(yùn)動(dòng)并向薄膜表面聚集，然后隨著退火溫度時(shí)間的延長(zhǎng)(退火時(shí)間一般為15min 60min),最終在固態(tài)薄膜表面形成一層疏性材料,在疏性材料下部為親性材料。若加熱溫度也達(dá)到親性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近，則親性材料(剛性聚合物)內(nèi)部結(jié)構(gòu)也會(huì)發(fā)生運(yùn)動(dòng)，但是其不會(huì)像疏性材料(柔性聚合物)運(yùn)動(dòng)那樣劇烈，所以聚集到聚合物薄膜表面的仍然是疏性材料含量大于親性材料含量。其中，優(yōu)選地，所述親性材料為剛性聚合物，所述疏性材料為柔性聚合物。進(jìn)一步優(yōu)選的，所述剛性聚合物為聚酰亞胺、雙酚A聚碳酸酯、主鏈中含有苯環(huán)的聚合物、主鏈中含有環(huán)狀剛性結(jié)構(gòu)的聚合物(由此主鏈不容易旋轉(zhuǎn)拉伸)；所述柔性聚合物為聚硅氧烷、含氟的聚烯烴、含氟的聚環(huán)氧烷烴中的任意一種，例如為氟化聚丙烯、氟化聚1- 丁烯、氟化聚4-甲基-1-戊烯、氟化聚環(huán)氧乙烷、氟化聚環(huán)氧丙烷等。進(jìn)一步優(yōu)選，所述疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為150 300°C。

步驟3與實(shí)施例1相同，此處不重復(fù)追述。實(shí)施例4如圖2所示，本實(shí)施例提供一種像素界定層，所述像素界定層201是由實(shí)施例1、2或3中任意一種方法制備的。本實(shí)施例的像素界定層201可以是從下部的親性材料含量大于疏性材料含量的慢慢過(guò)渡到上部的疏性材料含量大于親性材料含量的結(jié)構(gòu)，優(yōu)選的，像素界定層201為從上部到下部親性材料含量逐漸增高,疏性材料含量逐漸降低的結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，像素界定層也可以是上部是疏性材料，下部是親性材料的兩層結(jié)構(gòu)。由于本發(fā)明的像素界定層201是由上述制備方法制備的，只需要一步成膜工藝，故其步驟簡(jiǎn)單，使得工藝及其設(shè)備成本降低。實(shí)施例5如圖2所示，本實(shí)施例提供了一種OLED基板，其中，OLED基板的像素界定層201是由實(shí)施例1、2或3中任意一種方法制備的。本實(shí)施例OLED基板的制備方法，具體包括下述步驟:步驟1、通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底101上形成包括第一電極102 (通常為陽(yáng)極，當(dāng)然若為陰極也可行)的圖形；步驟2、制備像素界定層201，制備方法采用實(shí)施例1、2、3中任意一種方法，此處不重復(fù)追述；由于本實(shí)施例中的像素界定層201是實(shí)施例1、2或3中的制備方法制備的，故其工藝步驟簡(jiǎn)單，同時(shí)該像素界定層201的上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量，所以應(yīng)用噴墨打印法制備的有機(jī)電致發(fā)光層501、空穴注入層5012以及空穴傳輸層5013的膜的厚度均一。實(shí)施例6如圖5所示，本實(shí)施例提供了一種OLED面板，其中，OLED面板包括OLED基板，所述OLED基板的像素界定層201是由實(shí)施例1、2或3中任意一種方法制備的。本實(shí)施例OLED面板的制備方法，具體包括下述步驟:步驟1、通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底101上形成包括第一電極102 (通常為陽(yáng)極，當(dāng)然若為陰極也可行)的圖形；步驟2、制備像素界定層，制備方法采用實(shí)施例1、2、3中任意一種方法，此處不重復(fù)追述；步驟3、在由像素界定層201限定的像素區(qū)中的第一電極102層上形成有機(jī)電致發(fā)光層501 ；如圖6所示，有機(jī)電致發(fā)光層501是指在電流作用下發(fā)光的結(jié)構(gòu)，其可以是單層結(jié)構(gòu)，也可以由多個(gè)不同的層組成；有機(jī)電致發(fā)光層501至少包括有機(jī)電致發(fā)光材料層5011，但其還可以包括:位于有機(jī)電致發(fā)光材料層5011與陰極(通常為第二電極502)間的電子傳輸層5014(ETL)和電子注入層5015(EIL);位于有機(jī)電致發(fā)光材料層5011與陽(yáng)極(通常為第一電極102)間的空穴注入層5012 (HIL)和空穴傳輸層5013 (HTL)等其他結(jié)構(gòu)。因此，步驟3還可以具體包括:
步驟301、在像素界定層201限定的像素區(qū)中的第一電極102層上形成空穴注入層5012 ；步驟302、在空穴注入層5012上形成空穴傳輸層5013 ；步驟303、在空穴傳輸層上形成有機(jī)電致發(fā)光材料層5011 ;步驟304、在有機(jī)電致發(fā)光材料層層5011上形成電子傳輸層5014 ；步驟305、在電子傳輸層5014上形成電子注入層5015。步驟4、在有機(jī)電致發(fā)光層501上形成第二電極502層(通常為陰極，當(dāng)然若為陽(yáng)極也可行)。其中，所述在像素界定層201限定的像素區(qū)中的陽(yáng)極(第一電極102)層上形成空穴注入層5012，在空穴注入層5012上形成空穴傳輸層5013，在空穴傳輸層5013以及在形成有機(jī)電致發(fā)光材料層5011，均采用噴墨打印法形成。所述在有機(jī)電致發(fā)光材料層5011上形成電子傳輸層5014,在電子傳輸層5014上形成電子注入層5015，以及在電子注入層5015上形成陰極(第二電極502層)，采用蒸鍍方法形成。由于本實(shí)施例中的像素界定層201是實(shí)施例1、2或3中的制備方法制備的，故其工藝步驟簡(jiǎn)單，同時(shí)該像素界定層201的上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量，所以應(yīng)用噴墨打印法制備的有機(jī)電致發(fā)光層501、空穴注入層5012以及空穴傳輸層5013的膜的厚度均一。當(dāng)然也可以采用上述同樣的方法制備PLED (高分子有機(jī)電致發(fā)光二極管)，PLED屬于OLED中的一種，其與常規(guī)的OLED的區(qū)別在于其中使用的是高分子有機(jī)電致發(fā)光層。
實(shí)施例7本實(shí)施例提供一種顯示裝置，所述陣列基板包括實(shí)施例6中所述的OLED面板。該顯示裝置可以為:手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。本實(shí)施例的顯示裝置中具有實(shí)施例6中所述的OLED結(jié)構(gòu)，故其制備工藝簡(jiǎn)單、成本低。當(dāng)然，本實(shí)施例的有機(jī)電致發(fā)光二極管顯示裝置中還可具有其他的常規(guī)結(jié)構(gòu)，如與陣列基板對(duì)盒的封閉基板、電源單元、顯示驅(qū)動(dòng)單元等?？梢岳斫獾氖?，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可 以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種像素界定層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟: 步驟1、將混合溶液形成在基底上，形成混合溶液薄膜；所述混合溶液包括溶劑以及溶解在溶劑中的親性材料、疏性材料； 步驟2、對(duì)上述混合溶液薄膜進(jìn)行熱處理工藝，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層； 步驟3、通過(guò)構(gòu)圖工藝形成包括像素界定層的圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述溶劑包括親性材料溶解劑以及疏性材料溶解劑，所述親性材料溶解劑的沸點(diǎn)高于疏性材料溶解劑的沸點(diǎn)；所述步驟2具體包括: 對(duì)混合溶液薄膜先在第一溫度加熱，后于第二溫度加熱，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含 量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，其中，第一溫度高于疏性材料溶解劑的沸點(diǎn)且低于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)，第二溫度高于親性材料溶解劑的沸點(diǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述疏性材料溶解劑體積比占溶劑總體積的30% 60%。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層的制備方法，其特征在于， 所述親性材料溶解劑為N，N- 二甲基甲酰胺、N, N- 二甲基乙酰胺或二甲基亞砜中任意一種； 所述疏性材料溶解劑為四氫呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷或丙酮中任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的像素界定層的制備方法，其特征在于， 所述第一溫度為10 30°C ; 所述第二溫度為150 500°C。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述步驟2具體包括: 去除混合溶液薄膜中的溶劑，之后將其加熱到疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層，其中疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低于親性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述蒸干混合溶液薄膜中的溶劑的溫度低于疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述疏性材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為150 300°C。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中任意一項(xiàng)所述的像素界定層的制備方法，其特征在于， 所述親性材料為剛性聚合物； 所述疏性材料為柔性聚合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的像素界定層的制備方法，其特征在于， 所述剛性聚合物為聚酰亞胺、雙酚A聚碳酸酯、主鏈中含有烷基的聚合物以及主鏈中含有環(huán)狀剛性結(jié)構(gòu)的聚合物中的任意一種； 所述柔性聚合物為聚硅氧烷、含氟的聚烯烴、含氟的聚環(huán)氧烷烴中的任意一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的像素界定層的制備方法，其特征在于， 所述含氟的聚烯烴為氟化聚丙烯、氟化聚1-丁烯、氟化聚4-甲基-1-戊烯中的任意一種； 所述含氟的聚環(huán)氧烷烴為氟化聚環(huán)氧乙烷或氟化聚環(huán)氧丙烷。
12.根據(jù)權(quán)利要求1 8中任意一項(xiàng)所述的像素界定層的制備方法，其特征在于，所述混合溶液中還包括光刻膠。
13.一種像素界定層，其特征在于，所述像素界定層是由權(quán)利要求1 12中任意一種制備方法制備的。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的像素界定層，其特征在于，所述像素界定層為從上部到下部親性材料含量逐漸增高,疏性材料含量逐漸降低的結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的像素界定層，其特征在于，所述像素界定層包括上層為疏性材料層，下層為親性材料層的兩層結(jié)構(gòu)。
16.—種OLED基板,其特征在于,所述OLED基板包括權(quán)利要求13-15任一權(quán)利要求所述的像素界定層。
17.一種顯示裝 置，其特征在于，包括權(quán)利要求16所述的OLED基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種像素界定層的制備方法及通過(guò)像素界定層制備OLED基板、顯示裝置，屬于有機(jī)電致發(fā)光二極管顯示技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的具有親疏兩性的像素界定層制備步驟繁瑣的問(wèn)題。本發(fā)明的像素界定層的制備方法，包括步驟1、將混合溶液形成在基底上，形成混合液薄膜；所述混合溶液包括親性材料、疏性材料以及溶劑；步驟2、對(duì)上述混合溶液薄膜進(jìn)行熱處理工藝，形成上部的親性材料的含量小于下部親性材料含量，上部疏性材料含量大于下部的疏性材料含量的像素界定材料層；步驟3、通過(guò)構(gòu)圖工藝在像素界定材料層上形成包括像素界定層的圖形。本發(fā)明步驟簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)。
文檔編號(hào)H01L27/32GK103227190SQ20131015963
公開(kāi)日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2013年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月28日
發(fā)明者侯文軍, 劉則 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司