具有良好的光提取性能的無(wú)機(jī)粒子散射膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜以及其制造方法，其中包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層是形成于發(fā)光裝置界面或透明襯底上以便經(jīng)由光散射效應(yīng)實(shí)現(xiàn)高光提取效應(yīng)，且平坦化層是形成于所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上以便顯示高平度和高硬度。所述公開(kāi)的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的光提取效應(yīng)、平度以及硬度極佳且因此可應(yīng)用于多種領(lǐng)域中，如影像顯示裝置、發(fā)光元件、太陽(yáng)能電池。
【專利說(shuō)明】具有良好的光提取性能的無(wú)機(jī)粒子散射膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜以及其制造方法，其中包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層是形成于發(fā)光裝置界面或透明襯底上以便經(jīng)由光散射效應(yīng)實(shí)現(xiàn)高光提取效應(yīng)，且平坦化層是形成于所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上以便顯示高平度和高硬度。
【背景技術(shù)】
[0002]在發(fā)光裝置的情況下，當(dāng)光線發(fā)射時(shí)，由于發(fā)光裝置界面上的折射率差異，所以光功率發(fā)生反射損失。迄今為止，已研究和開(kāi)發(fā)一種在表面或透明襯底上形成抗反射膜以增加發(fā)光裝置的光功率的方法，或一種通過(guò)經(jīng)由在表面上蝕刻形成不均勻性來(lái)經(jīng)由散射增加光功率的方法。 [0003]已向透明襯底(如玻璃或塑料襯底)提供具有光透射和抗反射功能的保護(hù)膜(抗反射膜)，尤其用于透鏡或影像顯示裝置。一般來(lái)說(shuō)，抗反射膜以多層膜形式(高折射率層、中折射率層以及低折射率層)形成，包含含有多種金屬氧化物的透明薄膜層。所述透明薄膜層在彼此上分成層且具有不同折射率。當(dāng)通過(guò)涂布制造抗反射膜時(shí)，使用粘合劑樹(shù)脂作為基質(zhì)來(lái)形成膜。一般來(lái)說(shuō)，所述粘合劑樹(shù)脂的折射率在1.45到1.55的范圍內(nèi)。因此，通過(guò)選擇用于每一層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的種類和量，適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)所述層的折射率。特別來(lái)說(shuō)，對(duì)于高折射率層，需要具有高折射率的無(wú)機(jī)細(xì)粒。極其重要的是均一地分散具有高折射率的無(wú)機(jī)細(xì)粒而不是聚集于具有足夠膜強(qiáng)度的基質(zhì)上。
[0004]與此不同的是，在具有散射性質(zhì)的低反射表面結(jié)構(gòu)中，從發(fā)光體發(fā)射的光線在界面處反射且返回到發(fā)光裝置，同時(shí)將由轉(zhuǎn)化為熱能所引起的損失降到最低。因此，可實(shí)現(xiàn)高光提取效應(yīng)。由于所述優(yōu)點(diǎn)，具有散射性質(zhì)的低反射膜適合用于太陽(yáng)電池等以及發(fā)光裝置中。換句話說(shuō)，已提出多種解決方案來(lái)擾亂襯底-空氣界面(例如微透鏡或粗糙表面)以便對(duì)到達(dá)所述界面的光線產(chǎn)生影響。為經(jīng)由散射改良光提取效率，已積極進(jìn)行關(guān)于通過(guò)在發(fā)光裝置表面上形成不均勻性或納米線來(lái)制造經(jīng)由光散射具有低反射表面的膜的研究以及關(guān)于使電極結(jié)構(gòu)成波狀的研究(出版物[M.藤田(M.Fujita)等人；日本應(yīng)用物理學(xué)雜志(Jpn.J.Appl.Phys.) 44 (6A),第 3669-3677 頁(yè)(2005)])。然而，預(yù)期在散射層表面上的電極構(gòu)型中，所形成的具有表面不均勻性的所述結(jié)構(gòu)最后對(duì)裝置的電場(chǎng)具有有害影響。因此，其應(yīng)用范圍有限。
[0005]已經(jīng)有另一種將散射元件引入襯底或有機(jī)粘合劑中(參考R.巴特爾特(R.Bathelt),有機(jī)電子學(xué)(Organic Electronics) 8，293-299 (2007)、W02002037580A1 或韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)案10-2009-0128487)以停止襯底模式且改變來(lái)自裝置的光線方向的方法。同樣，早先已數(shù)次嘗試將散射或衍射元件引入核心-襯底界面以便擾亂所述界面。特別來(lái)說(shuō)，根據(jù)這些嘗試，韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)案10-2009-0128487提出光散射層，其在有機(jī)粘合劑(折射率Nb)內(nèi)包含兩種具有不同折射率的填充劑(Nf1 *Nf2)。光散射層的組分的折射率滿足Nf2MbMf1，且由于三種組分之中的折射率差異，從而產(chǎn)生光散射現(xiàn)象。然而，在將折射率與有機(jī)粘合劑的折射率不同的無(wú)機(jī)粒子引入有機(jī)粘合劑中的情況下，因?yàn)橛袡C(jī)粘合劑與無(wú)機(jī)粒子之間的折射率差異不大，所以散射效應(yīng)不高。因此，存在一個(gè)問(wèn)題，即光提取效應(yīng)可能減半。
[0006]同樣，在有機(jī)發(fā)光裝置(OLED)的結(jié)構(gòu)中，最近報(bào)導(dǎo)了關(guān)于在透明襯底上形成光散射層以便使光提取效率最大的研究(R.巴特爾特，有機(jī)電子學(xué)8，293-299 (2007))。在此研究中，報(bào)導(dǎo)了一種通過(guò)使用包含孔隙的聚丙烯酸系散射膜來(lái)增強(qiáng)光散射效率的方法。此處，在用于此方法中的樹(shù)脂的情況下，在長(zhǎng)期使用時(shí)，由于褪色或由水分引起的類似情況可使得發(fā)光效率降低。同樣，用作有機(jī)回填劑的樹(shù)脂具有低折射率(n=l.4到1.5)，且因此具有一個(gè)問(wèn)題，即其散射效應(yīng)無(wú)法進(jìn)一步得到改良。
[0007]同樣，韓國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)案10-2010-0138939公開(kāi)一種通過(guò)在高折射率玻璃中形成孔隙所獲得的氧化硅系的散射玻璃板。然而，所述散射玻璃板具有一個(gè)問(wèn)題，即在其工藝中其無(wú)法直接施用于發(fā)光裝置表面上，且就其工藝來(lái)說(shuō)不適合用于多種形狀和形式的襯底中。
[0008]因此，本發(fā)明人可通過(guò)引入折射率(例如1.7或高于1.7)高于孔隙(折射率約I)的無(wú)機(jī)氧化物粒子作為散射粒子來(lái)使光散射效應(yīng)最大。換句話說(shuō)，其已發(fā)明一種經(jīng)由光散射具有高光提取效應(yīng)的光學(xué)薄膜，其通過(guò)制備具有高折射率的納米尺寸粒子粉末，且經(jīng)由涂布于發(fā)光體表面或多種形狀和形式的襯底上使其形成具有孔隙的無(wú)機(jī)化合物納米粒子膜來(lái)實(shí)現(xiàn)。同樣，通過(guò)在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上形成平坦化層，本發(fā)明人已發(fā)明一種無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其平度和硬度極佳且因此對(duì)裝置的電場(chǎng)和導(dǎo)電性無(wú)有害影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種顯示高光提取效應(yīng)的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜。
[0010]本發(fā)明的另一目的在于提供一種平度和硬度極佳的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜。
[0011]本發(fā)明的又一目的在于提供一種制造無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜是用于改良光提取的散射膜，且包含具有孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及用于保護(hù)所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層且使其平坦化的平坦化層。
[0013]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的折射率為1.7或高于1.7，優(yōu)選為1.7到3.0。
[0014]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒包含金屬氧化物，所述金屬氧化物包含選自由以下組成的群組的金屬:L1、Be、B、Na、Mg、S1、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、N1、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、T1、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、In 以及其組合。
[0015]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬氧化物是選自由以下組成的群組:氧化鋯(ZrO2);氧化鉿(HfO2);氧化鉭(Ta2O5);氧化鈦(TiO2);氧化釔(Y2O3);氧化鋅(ZnO);由氧化釔、氧化鎂(MgO )、氧化鈣(CaO )或氧化鋪(CeO2)穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化錯(cuò)(Y2O3-ZrO2、MgO-ZrO2, CaO-ZrO2, CeO2-ZrO2)；以及其混合物。
[0016]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，金屬氧化物為由氧化釔穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化鋯。
[0017]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的平均粒徑(D5tl)在I納米到I微米、優(yōu)選5納米到500納米的范圍內(nèi)。
[0018]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，平坦化層為有機(jī)涂布膜形成材料，且所述有機(jī)涂布膜形成材料為聚丙烯酸系樹(shù)脂、聚酰亞胺系的樹(shù)脂或其混合物。
[0019]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，平坦化層為無(wú)機(jī)涂布膜形成材料，且所述無(wú)機(jī)涂布膜形成材料包含娃化合物。
[0020]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，硅化合物包含二氧化硅、有機(jī)硅、硅酸鹽或其混合物。
[0021]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成材料還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。
[0022]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的厚度在100納米到30微米的范圍內(nèi)。[0023]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面平度(Ra)在I納米到10納米的范圍內(nèi)。
[0024]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面硬度在3H到9H的范圍內(nèi)。
[0025]一種制造根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法包含以下步驟:提供襯底；在所述襯底上制造包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層。
[0026]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在襯底上制造包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的步驟包含以下步驟:將包含無(wú)機(jī)細(xì)粒和溶劑的無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物涂覆于襯底上；以及加熱所述無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物以便去除所述溶劑并形成包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層。
[0027]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層的步驟包含以下步驟:在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上形成有機(jī)聚合物薄膜，隨后進(jìn)行熱固化。
[0028]在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層的步驟包含以下步驟:將無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物涂覆于無(wú)機(jī)細(xì)粒層上；從所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物去除溶劑；以及通過(guò)對(duì)去除溶劑后所獲得的無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物進(jìn)行熱處理、電子射線處理或UV射線處理來(lái)形成平坦化層。
[0029]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物包含選自由硅烷、硅氧烷、倍半硅氧烷、硅酸鹽、硅醇、硅氮烷以及其混合物組成的群組的化合物以及溶劑。
[0030]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。
[0031]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物、有機(jī)涂布膜形成組合物或無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物是通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布或網(wǎng)版印刷來(lái)涂覆。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的玻璃、發(fā)光裝置、太陽(yáng)電池襯底、有機(jī)聚合物膜或發(fā)光元件包含無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜。
[0033]根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的光提取效應(yīng)、平度以及硬度極佳，且因此可應(yīng)用于多種領(lǐng)域中，如影像顯示裝置、發(fā)光元件、太陽(yáng)電池等。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0034]圖1是展示根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的橫截面的示意圖。
[0035]圖2是根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的橫截面的掃描電子顯微(SEM)相片。
[0036]圖3展示無(wú)機(jī)細(xì)粒層以及無(wú)機(jī)細(xì)粒層加上平坦化層上的表面平度(原子力顯微鏡(AFM))的測(cè)量結(jié)果。
[0037]圖4是展示合成由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粉末的工藝的示意圖。[0038]圖5是由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粉末的X射線衍射圖。
[0039]圖6是由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粉末的SEM相片。
[0040]圖7是由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粉末的SEM相片。
[0041]圖8是由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粉末的透射電子顯微(TEM)相片。
[0042]圖9是展示由實(shí)例2-3制造的厚度為9.8微米的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的橫截面的SEM相片。
[0043]圖10是展示由實(shí)例2-3制造的厚度為4.4微米的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的橫截面的SEM相片。
[0044]圖11是展示由實(shí)例2-3制造的厚度為1.8微米的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的橫截面的SEM相片。 【具體實(shí)施方式】
[0045]無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜
根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜是用于改良光提取的散射膜，且包含具有孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及用于保護(hù)所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層且使其平坦化的平坦化層。
[0046]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的折射率為1.7或高于1.7，優(yōu)選為1.7到3.0。
[0047]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒包含金屬氧化物，所述金屬氧化物包含選自由以下組成的群組的金屬:L1、Be、B、Na、Mg、S1、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、N1、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、T1、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、In 以及其組合。
[0048]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬氧化物是選自由以下組成的群組:氧化鋯(ZrO2);氧化鉿(HfO2);氧化鉭(Ta2O5):氧化鈦(TiO2);氧化乾(Y2O3):氧化鋅(ZnO);由氧化釔、氧化鎂(MgO )、氧化鈣(CaO )或氧化鋪(CeO2)穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化錯(cuò)(Y2O3-ZrO2、MgO-ZrO2, CaO-ZrO2, CeO2-ZrO2)；以及其混合物。
[0049]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，金屬氧化物是由氧化釔穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化鋯。
[0050]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的平均粒徑(D5tl)在I納米到I微米、優(yōu)選5納米到500納米的范圍內(nèi)。
[0051]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒是通過(guò)共沉淀法來(lái)制備。舉例來(lái)說(shuō)，無(wú)機(jī)細(xì)?？赏ㄟ^(guò)一系列工藝來(lái)制備，包含以下步驟:制備包含金屬氧化物的水溶液；通過(guò)經(jīng)由將所述水溶液與催化劑、溶劑以及中和劑混合而調(diào)節(jié)PH值以及通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)溫度來(lái)制備均一沉淀物；經(jīng)由過(guò)濾和洗滌步驟來(lái)均一地混合所述沉淀物；以及在熱處理?xiàng)l件下調(diào)節(jié)比表面積和結(jié)晶度。
[0052]舉例來(lái)說(shuō)，由氧化釔穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化鋯可通過(guò)一系列工藝來(lái)制備，包含以下步驟:制備且純化氧化鋯水溶液和氧化釔水溶液；通過(guò)經(jīng)由將所述水溶液與催化劑、溶劑以及中和劑混合而調(diào)節(jié)PH值以及通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)溫度來(lái)制備均一沉淀物；經(jīng)由過(guò)濾和洗滌步驟來(lái)均一地混合所述沉淀物；以及在熱處理?xiàng)l件下調(diào)節(jié)比表面積和結(jié)晶度。
[0053]在氧化鋯的情況下，可使用八水合氯化氧鋯(ZrOCl3 ? SH2O)、水合硝酸氧鋯(ZrO (NO3) 2 -XH2O)或硫酸鋯，且在氧化釔的情況下，可使用六水合硝酸釔(Y (NO3) 3 *6H20)或六水合氯化釔(YCl3 ? 6H20)。[0054]作為中和劑，可使用至少一種來(lái)自氫氧化銨(NH40H)、碳酸銨((NH4) 2C03)、碳酸氫銨(NH4HCO3)、氫氧化鈉(NaOH)以及氫氧化鉀(KOH)中的材料。
[0055]將適量原材料溶解于水中且使所得溶液經(jīng)受過(guò)濾步驟。接著將催化劑滴入溶液中以便使所述材料共沉淀。
[0056]產(chǎn)生沉淀物后，對(duì)反應(yīng)溫度的調(diào)節(jié)可調(diào)節(jié)由Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米粒子的粒徑分布和比表面積。用于合成的反應(yīng)溫度可在室溫(20°C)到100°C的范圍內(nèi)。
[0057]經(jīng)由過(guò)濾步驟將沉淀物分離為粉末和液體且經(jīng)受洗滌步驟。 [0058]通過(guò)在100°C下干燥24小時(shí)，接著在200°C到1100°C的溫度范圍下經(jīng)受熱處理I到5小時(shí)以便獲得幾納米到幾十納米的球形粉末來(lái)使在以上所述步驟后獲得的沉淀物脫水。
[0059]經(jīng)由以上所述方法，可獲得粒子直徑尺寸為I納米到500納米且粒子比表面積為5平方米/克到100平方米/克的納米粉末。所形成的粒子的形狀、尺寸以及分布可通過(guò)掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope ;FE_SEM)和透射電子顯微鏡(transmission electron microscope ;TEM)來(lái)觀察。粒子的結(jié)晶度可經(jīng)由X射線衍射儀(X-ray diffractometer ；XRD)來(lái)觀察。
[0060]在無(wú)機(jī)細(xì)粒之間形成孔隙，同時(shí)使無(wú)機(jī)細(xì)粒成層?？紫兜某叽绾土靠赏ㄟ^(guò)控制無(wú)機(jī)細(xì)粒來(lái)調(diào)節(jié)，且對(duì)尺寸、形狀等不存在限制。
[0061]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒層可還包括能夠固定無(wú)機(jī)細(xì)粒層的表面的涂布膜形成材料，如粘合劑。
[0062]如上所述制造的包含無(wú)機(jī)細(xì)粒的無(wú)機(jī)細(xì)粒層具有粗糙表面(Ra>100--)。因此，可能出現(xiàn)瑕疵，如直接涂布于層上的電極開(kāi)口或發(fā)光裝置變形。
[0063]因此，本發(fā)明人以如下方式配置無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜:其包含無(wú)機(jī)細(xì)粒層，所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層包含具有高折射率的無(wú)機(jī)細(xì)粒以及具有與無(wú)機(jī)細(xì)粒不同的折射率的孔隙；以及平坦化層，所述平坦化層包含固定物，即能夠固定結(jié)構(gòu)且使結(jié)構(gòu)平坦化的材料。以上描述展示于圖1中。
[0064]使用可將無(wú)機(jī)細(xì)粒層的納米粒子粘著于襯底上的粘著性材料作為平坦化層形成材料。其用于固定具有孔隙的光散射納米粒子的混合結(jié)構(gòu)，改良襯底上的納米粒子的粘著性質(zhì)，以及使光散射膜的表面平坦化并增強(qiáng)所述表面。
[0065]使無(wú)機(jī)細(xì)粒層上的平坦化層成層可另外引起多種效應(yīng)。第一，根據(jù)涂布方法或添加劑，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的表面的平度(Ra)值可為20納米到200納米。可使平坦化層成層以獲得較低平度(Ra)。表面平度(Ra)是由原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope ;AFM)測(cè)量。第二，為補(bǔ)足無(wú)機(jī)細(xì)粒層的低表面硬度且防止散射層結(jié)構(gòu)因物理力而崩潰，可使涂布膜形成材料成層。此舉可增強(qiáng)無(wú)機(jī)細(xì)粒層結(jié)構(gòu)以及表面的機(jī)械強(qiáng)度。表面機(jī)械強(qiáng)度是由鉛筆硬度測(cè)試(KS-D-6711-92)測(cè)量且表面硬度是由三菱鉛筆(MITSUBISHI pencil)測(cè)量。
[0066]舉例來(lái)說(shuō)，在使固定物成層之前，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的表面粗糙(平度(Ra)為約0.18微米)。同時(shí)，使固定物成層可使表面平度降低到2納米到5納米。表面平度(Ra)是由AFM(原子力顯微鏡)測(cè)量，且無(wú)機(jī)細(xì)粒層加上平坦化層的橫截面是由掃描電子顯微鏡(FE-SEM)觀察。結(jié)果展示于圖2和圖3中。
[0067]經(jīng)由圖2中所示的電子顯微相片，發(fā)現(xiàn)就橫截面來(lái)說(shuō)，使玻璃、無(wú)機(jī)細(xì)粒層以及平坦化層依序成層，且平坦化層的表面為平坦的。
[0068]使固定物成層后的表面的機(jī)械強(qiáng)度是由鉛筆硬度測(cè)試(KS-D-6711-92)測(cè)量，且表面硬度是由三菱鉛筆測(cè)量。因此，無(wú)機(jī)細(xì)粒層的表面硬度為約6B。同樣，當(dāng)添加平坦化層時(shí)，硬度可增加到3H到6H (圖3)。
[0069]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，平坦化層為有機(jī)涂布膜形成材料，且有機(jī)涂布膜形成材料為聚丙烯酸系樹(shù)脂、聚酰亞胺系的樹(shù)脂或其混合物。
[0070]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，平坦化層為無(wú)機(jī)涂布膜形成材料。在本發(fā)明中，在制備無(wú)機(jī)涂布膜形成材料時(shí)，可使用旋涂式玻璃(spin on glass ;S0G)工藝。因此,無(wú)機(jī)涂布膜形成材料可包含硅化合物。
[0071]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，硅化合物包含二氧化硅、有機(jī)硅、硅酸鹽或其混合物。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成材料還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。
[0072]同樣，當(dāng)平坦化層為無(wú)機(jī)涂布膜形成材料時(shí)，可有效地抑制一些問(wèn)題，如在制造有機(jī)發(fā)光裝置(OLED)等的需要高溫或高能量的工藝(如化學(xué)氣相沉積(chemical vapordeposition ；CVD))中一些有機(jī)涂布膜形成材料的降解或變性。
[0073]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，平坦化層為二氧化硅涂布膜形成材料，且所述二氧化娃月吳形成材料是通過(guò)涂覆包含含有四烷氧基硅烷、單烷氧基硅烷以及二烷基二烷氧基硅烷中的至少一者的混合物的水解產(chǎn)物作為主要組分的溶液以及熱處理所涂覆的溶液來(lái)產(chǎn)生。
[0074]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的厚度為100納米到30微米。
[0075]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面平度(Ra)為I納米到10納米。
[0076]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面硬度為3H到9H。
[0077]制造無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法
制造根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法包含以下步驟:提供襯底；在所述襯底上制造包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層。
[0078]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在襯底上制造包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的步驟包含以下步驟:將包含無(wú)機(jī)細(xì)粒和溶劑的無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物涂覆于襯底上；以及加熱所述無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物以便去除所述溶劑且形成包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層。
[0079]在通過(guò)涂布制造無(wú)機(jī)細(xì)粒層的情況下，需要選擇用于涂布的無(wú)機(jī)粒子的種類和量以便適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)光學(xué)特征。為此，極其重要的是均一地分散無(wú)機(jī)細(xì)粒而無(wú)聚集。換句話說(shuō)，這些材料是以納米尺寸粒子形式制備，且分散于有機(jī)溶劑或水中。分散溶液內(nèi)的粒子的分散穩(wěn)定性必須極佳。為此，可將分散劑、粘合劑、增塑劑等與無(wú)機(jī)細(xì)粒一起溶解于溶劑中。
[0080]有機(jī)溶劑可為選自由以下組成的群組的任一者:醇、醚、乙酸酯、酮以及甲苯或其混合物。特定來(lái)說(shuō)，可使用以下各物:醇，如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇或二丙酮醇；醚，如四氫呋喃、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇烷基醚；乙酸酯，如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯；酮，如乙酰丙酮或丙酮，但本發(fā)明并不限于此。
[0081]同樣，高沸點(diǎn)溶劑可與所述溶劑組合使用?？膳c所述溶劑組合使用的高沸點(diǎn)溶劑的實(shí)例可包含N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞砜或苯甲基乙醚溶劑。
[0082]制造根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法包含將一層具有高折射率的材料涂布于發(fā)光裝置表面或透明襯底上的步驟?？梢钥僧a(chǎn)生納米結(jié)構(gòu)化表面的方式在有機(jī)材料中提供納米結(jié)構(gòu)化特征。接著在納米結(jié)構(gòu)化表面上，可以可形成平坦化層的方式外涂布平坦化材料。
[0083]無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物可通過(guò)多種方法涂覆于發(fā)光裝置的表面或襯底上，如旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布、網(wǎng)版印刷等。
[0084]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在制造無(wú)機(jī)細(xì)粒層時(shí)，可使用旋轉(zhuǎn)涂布方法。將分散液涂覆于玻璃板上，且經(jīng)受旋轉(zhuǎn)涂布。此時(shí)，將無(wú)機(jī)材料分散液的濃度調(diào)節(jié)在5%到50%的范圍內(nèi)。在旋轉(zhuǎn)涂布時(shí)，在500轉(zhuǎn)/分鐘到5000轉(zhuǎn)/分鐘的旋轉(zhuǎn)速度條件下涂布薄膜。在完成旋轉(zhuǎn)涂布后，在100°C下施加熱30秒以便穩(wěn)定玻璃表面粒子并干燥薄膜表面。
[0085]此外，為固定所述包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層的表面結(jié)構(gòu)，可使用有機(jī)或無(wú)機(jī)粘合劑。經(jīng)由用于散射溶劑和有機(jī)添加劑的干燥步驟，形成經(jīng)涂布的膜。接著在250°C到700°C的溫度下將其燒結(jié)以便形成經(jīng)無(wú)機(jī)細(xì)粒層涂布的透明襯底 。
[0086]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層的步驟可包含以下步驟:在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上形成有機(jī)聚合物薄膜，隨后進(jìn)行熱固化。舉例來(lái)說(shuō)，為形成平坦化層，可在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上形成有機(jī)聚合物薄膜，隨后在230°C下熱固化30分鐘。
[0087]如以上所提及，在本發(fā)明中，為將無(wú)機(jī)涂布膜形成材料制造為平坦化層，可使用SOG (旋涂式玻璃)工藝。所述SOG工藝主要指示將溶解于有機(jī)溶劑中的玻璃旋轉(zhuǎn)涂覆于水表面上，隨后進(jìn)行熱處理以便形成二氧化硅絕緣膜。然而，在本發(fā)明中，所述工藝可以略微不同的方式使用。
[0088]用作SOG工藝的原材料的硅化合物的實(shí)例包含硅烷、硅氧烷、倍半硅氧烷、硅酸鹽、娃醇、娃氣燒、聚娃氣燒(包含S1、O、(N、H)、烷基、烷氧基等的化合物)等。這些材料可單獨(dú)使用或組合使用。同樣，所述硅化合物可溶解于溶劑中，優(yōu)選溶解于有機(jī)溶劑(例如醇或乙酸丁酯)中以便制備無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物。
[0089]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物包含選自由硅烷、硅氧烷、倍半硅氧烷、硅酸鹽、硅醇、硅氮烷以及其混合物組成的群組的化合物以及溶劑。
[0090]通過(guò)從無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物去除有機(jī)溶劑，且燒結(jié)無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物，可獲得包含硅酸玻璃(SiO2)作為主要組分的SOG (旋涂式玻璃)層。接著視構(gòu)成SOG材料層的材料而定，可在SOG材料層上照射電子射線或UV射線以便獲得包含硅酸玻璃(SiO2)作為主要組分的SOG層。
[0091]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層的步驟包含以下步驟:將無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物涂覆于無(wú)機(jī)細(xì)粒層上；從所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物去除溶劑；以及通過(guò)對(duì)去除溶劑后所獲得的無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物進(jìn)行熱處理、電子射線處理或UV射線處理來(lái)形成平坦化層。
[0092]作為SOG工藝的原材料的硅化合物包含有機(jī)基質(zhì)與無(wú)機(jī)基質(zhì)的材料。更特定來(lái)說(shuō)，其可包含甲基硅氧烷、甲基倍半硅氧烷、苯基硅氧烷、苯基倍半硅氧烷、甲基苯基硅氧燒、甲基苯基倍半硅氧烷或娃酸鹽聚合物。同樣，娃化合物可包含具有通式(HciUSiOmci)X的氫硅氧烷聚合物，以及具有通式(HSiO1Jx(此處x>約8)的氫倍半硅氧烷聚合物。同樣，其包含氫倍半硅氧烷、烷氧基氫化硅氧烷或羥基氫化硅氧烷。硅化合物可另外包含具有通式OU ClSiO1.5_2.0) nOV1.ClSiO1.5_2.0) m 的有機(jī)氫化硅氧烷聚合物或具有通式(HSiO1.5) n (RSiO1.5) m(此處m>0，n+m>約8，且R=烷基或芳基)的有機(jī)氫化倍半硅氧烷聚合物。
[0093]同樣，硅化合物可通常由硅烷反應(yīng)物合成，如三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、二甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷以及二苯基二甲氧基硅烷。鹵硅烷，尤其為氯硅烷還可用作硅烷反應(yīng)物，例如三氯硅烷、甲基三氯硅烷、乙基三氯硅烷、苯基三氯硅烷、四氯硅烷、二氯硅烷、甲基二氯硅烷、二甲基二氯硅烷、氯二乙氧基硅烷、氣二甲氧基硅烷、氣甲基二乙氧基硅烷、氣乙基二乙氧基硅烷、氣苯基二乙氧基硅烷、氯甲基三甲氧基硅烷、氯乙基三甲氧基硅烷以及氯苯基三甲氧基硅烷。
[0094]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物可還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物以使熱處理后的物理斷裂(如裂痕)最少。
[0095]使用無(wú)機(jī)涂布膜形成材料制造平坦化層的方法可包含例如以下步驟:通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布、噴涂、網(wǎng)版印刷等將無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物涂覆于無(wú)機(jī)細(xì)粒層上；經(jīng)由用于散射溶劑的干燥步驟來(lái)形成經(jīng)涂布的膜；以及通過(guò)在250°C到700°C的溫度下燒結(jié)經(jīng)涂布的膜來(lái)制造無(wú)機(jī)涂布膜形成材料。
[0096]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布或網(wǎng)版印刷來(lái)涂覆無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物、有機(jī)涂布膜形成組合物或無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物。
[0097]制造無(wú)機(jī)細(xì)粒層的方法可還包括制備涂布液以形成涂布層的步驟。在此情況下，在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上，外涂布平坦化層。涂布所述層的方法可包含旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布、噴涂或網(wǎng)版印刷，但不限于所述涂布方法。
[0098]在通過(guò)上述方法制造的薄膜中，視薄膜材料、薄膜厚度、薄膜形成方法以及孔隙形成方法而定，可不同地測(cè)量規(guī)則透射率、散射透射率、散射反射率以及散射層。這些光學(xué)特征可通過(guò)使用UV/Vis光譜儀在350納米到800納米的波長(zhǎng)范圍內(nèi)來(lái)測(cè)量。
[0099]根據(jù)本發(fā)明的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的光提取性能、平度以及硬度極佳，且因此可優(yōu)選應(yīng)用于玻璃、發(fā)光裝置、太陽(yáng)電池襯底、有機(jī)聚合物膜、發(fā)光元件等的領(lǐng)域中。
[0100]下文將參考以下實(shí)例詳細(xì)描述本發(fā)明。然而，以下實(shí)例僅出于說(shuō)明性目的且不打算限制本發(fā)明的范圍。
[0101]實(shí)例
實(shí)例1.無(wú)機(jī)細(xì)粒的制備 實(shí)例1-1.將12.5重量％ ZrOCl3 ? 8H20和2重量％ Y(NO3)3 ? 6H20溶解于水中，且與氫氧化銨(NH4OH)的混合物液體反應(yīng)以制備溶液(在pH=9.00時(shí)沉淀)。在使所制備的沉淀溶液在室溫下反應(yīng)I小時(shí)后，反應(yīng)完成。經(jīng)由過(guò)濾步驟分離沉淀物和溶液，且將分離出的沉淀物分散于蒸餾水中且用蒸餾水洗滌，且經(jīng)由具有I微米孔隙的過(guò)濾器脫水，隨后重復(fù)洗滌。在100°C下在干燥器中干燥經(jīng)脫水的沉淀物24小時(shí)，且在800°C下在空氣氣氛下在電爐中經(jīng)受熱處理I小時(shí)。
[0102]上述工藝展示于圖4中。同樣，關(guān)于所合成的納米粉末，X射線衍射結(jié)果和掃描電子顯微(SEM)相片分別展不于圖5和圖6中。
[0103]實(shí)例1-2.將12.5重量％ ZrOCl3 *8H20和2重量％ Y (NO3) 3 *6H20溶解于包含添加劑的蒸餾水中，且與氫氧化銨(NH4OH)的混合物液體反應(yīng)以制備溶液(在pH=9.00時(shí)沉淀)。在使所制備的沉淀溶液在室溫下反應(yīng)I小時(shí)，接著在升高到60°C的反應(yīng)溫度下反應(yīng)3小時(shí)后，反應(yīng)完成。從那時(shí)起，進(jìn)行與實(shí)例1-1中相同的工藝。關(guān)于所合成的納米粉末，X射線衍射結(jié)果和掃描電子顯微(SEM)相片分別展不于圖5和圖7中。
[0104]實(shí)例1-3.除了將添加劑滴入氧化鋯水溶液和氧化釔水溶液中之外，此工藝以與實(shí)例1-2中所述相同的方式進(jìn)行。在使所得溶液在室溫下反應(yīng)I小時(shí)后，接著在升高到60°C的反應(yīng)溫度下進(jìn)一步反應(yīng)3小時(shí)。從那時(shí)起，進(jìn)行與實(shí)例1-1中相同的工藝。由此方法獲得的粒子的尺寸小于實(shí)例1-2中的粒子。
[0105]根據(jù)所述結(jié)果，可見(jiàn)實(shí)例1-1中所制備的YSZ粉末顯示更完善的結(jié)晶度(參見(jiàn)圖5)。
[0106]經(jīng)由實(shí)例1-1中所制備的YSZ粒子的透射電子顯微(TEM)相片，可證實(shí)粒子的形狀和尺寸。經(jīng)由透射電子顯微相片發(fā)現(xiàn)粒徑在50納米到60納米的范圍內(nèi)。結(jié)果展示于圖8中。
[0107]實(shí)例2.無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的制造 實(shí)例2-1.將納米尺寸氧化鋯粉末與添加劑混合于有機(jī)溶劑中。研磨所得溶液3小時(shí)以制備分散液。將所述分散液涂布于玻璃襯底上。在100°C下在干燥器中將溶劑干燥30秒后，在250°C下加熱所涂布的液體30分鐘以便使無(wú)機(jī)細(xì)粒層成層。接著在無(wú)機(jī)細(xì)粒層上涂布聚丙烯酸系化合物以使平坦化層成層。
[0108]實(shí)例2-2.通過(guò)使用納米尺寸氧化釔粉末，以與實(shí)例2-1中所述相同的方式制備分散液，且使無(wú)機(jī)細(xì)粒層和平坦化層成層。
[0109]實(shí)例2-3.通過(guò)使用由氧化釔穩(wěn)定且尺寸為50納米到60納米的氧化鋯(YSZ)，以與實(shí)例2-1中所述相同的方式制備分散液，且使無(wú)機(jī)細(xì)粒層和平坦化層成層。此處，通過(guò)改變涂布條件，使無(wú)機(jī)細(xì)粒層以I微米到10微米的厚度成層。
[0110]實(shí)例2-4.將由氧化釔穩(wěn)定且尺寸為50納米到60納米的氧化鋯(YSZ)粉末與添加劑混合于有機(jī)溶劑中。研磨所得溶液48小時(shí)以制備分散液。通過(guò)改變涂布條件將所述分散液以0.5微米到2微米的厚度涂布于玻璃襯底上。在140°C下在干燥器中將所涂布的玻璃襯底干燥5分鐘以便去除所述溶劑。接著在500°C下加熱襯底30分鐘以便對(duì)無(wú)機(jī)細(xì)粒層進(jìn)行熱處理。
[0111]在涂布無(wú)機(jī)細(xì)粒層后，在其上涂布平坦化層。此處，通過(guò)將0.8克SOG涂布液(T0K,LML-系列)涂覆于玻璃襯底上，隨后進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布來(lái)形成平坦化層。接著在氮?dú)鈿夥障拢?00°C下進(jìn)行硬烘(hard-baking) 30分鐘以便得到散射玻璃。
[0112]比較實(shí)例I
用上面具有孔隙形成因素的硅有機(jī)化合物涂布玻璃襯底，且在100°c下在干燥器中干燥30秒以去除溶劑。接著在230°C下加熱襯底30分鐘以便在玻璃上形成包含孔隙的氧化娃層。[0113]比較實(shí)例2
使用僅實(shí)例2和比較實(shí)例I中所使用的玻璃襯底。
[0114]比較實(shí)例3
在玻璃襯底上，以400轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn)涂布SOG涂布液(TOK，LML-系列)30秒。接著在熱板上，經(jīng)由在150°C下預(yù)烘3分鐘來(lái)干燥溶劑。接著在氮?dú)鈿夥障?，?00°C下進(jìn)行硬烘30分鐘。
[0115]在實(shí)例2-1、實(shí)例2-2、實(shí)例2-3以及實(shí)例2-4以及比較實(shí)例I中所制備的包含散射膜的玻璃襯底，比較實(shí)例2中所使用的玻璃襯底，以及比較實(shí)例3中所制備的僅經(jīng)SOG涂布液涂布的玻璃襯底上，由UV/Vis光譜儀測(cè)量透射率和反射率。根據(jù)這些結(jié)果，在550納米波長(zhǎng)下的這些值記錄在表1中。
[0116]【表1】
【權(quán)利要求】
1.一種用于改良光提取的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其包含具有孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及用于保護(hù)所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層且使其平坦化的平坦化層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的折射率為1.7或高于1.7。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒包含金屬氧化物，所述金屬氧化物包含選自由以下組成的群組的金屬:L1、Be、B、Na、Mg、S1、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、N1、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、T1、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、In 以及其組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述金屬氧化物是選自由以下組成的群組:氧化錯(cuò)(ZrO2);氧化鉿(HfO2);氧化鉭(Ta2O5);氧化鈦(TiO2);氧化釔(Y2O3);氧化鋅(ZnO);由氧化釔、氧化鎂(MgO)、氧化鈣(CaO)或氧化鈰(CeO2)穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化鋯(Y2O3-ZrO2、MgO-ZrO2、CaO-ZrO2, CeO2-ZrO2)；以及其混合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述金屬氧化物為由氧化釔穩(wěn)定或部分穩(wěn)定的氧化鋯。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層的無(wú)機(jī)細(xì)粒的平均粒徑(D5tl)在I納米到I微米的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述平坦化層包含有機(jī)涂布膜形成材料，且所述有機(jī)涂布膜形成材料包含聚 丙烯酸系樹(shù)脂、聚酰亞胺系的樹(shù)脂或其混合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述平坦化層包含無(wú)機(jī)涂布膜形成材料，且所述無(wú)機(jī)涂布膜形成材料包含硅化合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述硅化合物包含二氧化硅、有機(jī)硅、硅酸鹽或其混合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)涂布膜形成材料還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的厚度在100納米到30微米的范圍內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面平度(Ra)在I納米到10納米的范圍內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的表面硬度在3H到9H的范圍內(nèi)。
14.一種制造無(wú)機(jī)細(xì)粒散射膜的方法，所述方法包含以下步驟: 提供襯底； 在所述襯底上制造包含孔隙的無(wú)機(jī)細(xì)粒層；以及 在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造平坦化層。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中在所述襯底上制造包含所述孔隙的所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層的所述步驟包含以下步驟: 將包含無(wú)機(jī)細(xì)粒和溶劑的無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物涂覆于所述襯底上；以及 加熱所述無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物以便去除所述溶劑且形成包含所述孔隙的所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造所述平坦化層的所述步驟包含以下步驟:在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上形成有機(jī)聚合物薄膜，隨后進(jìn)行熱固化。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中在所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上制造所述平坦化層的所述步驟包含以下步驟: 將無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物涂覆于所述無(wú)機(jī)細(xì)粒層上； 從所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物去除溶劑；以及 通過(guò)對(duì)去除所述溶劑后所獲得的所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物進(jìn)行熱處理、電子射線處理或UV射線處理來(lái)形成所述平坦化層。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物包含選自由硅烷、硅氧烷、倍半硅氧烷、硅酸鹽、硅醇、硅氮烷以及其混合物組成的群組的化合物以及所述溶劑。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物還包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。
20.根據(jù)權(quán)利要求15到17中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述無(wú)機(jī)細(xì)粒涂布組合物、所述有機(jī)涂布膜形成組合物或所述無(wú)機(jī)涂布膜形成組合物是通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布、浸潰涂布、狹縫涂布或網(wǎng)版印刷來(lái)涂覆。
21.一種玻璃、發(fā)光裝置、太陽(yáng)電池襯底、有機(jī)聚合物膜或發(fā)光元件，其包含根據(jù)權(quán)利要求I到13中任一權(quán)利要求所述的無(wú) 機(jī)細(xì)粒散射膜。
【文檔編號(hào)】H01L31/042GK103608295SQ201280031464
【公開(kāi)日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2012年7月13日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月14日
【發(fā)明者】柳匡鉉, 金華泳, 金成國(guó), 李龍珍, 閔盛煥 申請(qǐng)人:Ltc有限公司