專利名稱：發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其整合復(fù)數(shù)光源模塊用以改善待測物亮度特性不均勻之互相補(bǔ)償技木。
背景技術(shù)：
光學(xué)鏡頭處理檢測對象為高速高精度光學(xué)影像檢測技術(shù)，運(yùn)用機(jī)器設(shè)備視覺效果做為檢測技術(shù)之標(biāo)準(zhǔn)，作為改良傳統(tǒng)利用人力使用光學(xué)儀器逐一完成檢測之缺失，應(yīng)用層面從高科技產(chǎn)業(yè)之研發(fā)、制造品管，擴(kuò)及至國防、民生、醫(yī)療、環(huán)保、電カ等領(lǐng)域。
廣義的光學(xué)檢測為結(jié)合光學(xué)感測系統(tǒng)、訊號處理系統(tǒng)及分析軟件，應(yīng)用層面涵蓋宇宙探測、航空、衛(wèi)星遙測、生物醫(yī)學(xué)、エ業(yè)生產(chǎn)質(zhì)量檢測、指紋比對、機(jī)器人控制、多媒體技術(shù)等。狹義的光學(xué)檢測則指大量應(yīng)用エ業(yè)自動(dòng)化的薄膜晶體管/液晶顯示器、晶體管與印刷電路板等エ業(yè)制程上的光學(xué)檢測設(shè)備，以及半導(dǎo)體、集成電路、消費(fèi)性電子產(chǎn)品、自動(dòng)化機(jī)械、金屬鋼鐵業(yè)、紡織皮革エ業(yè)、汽車電子、建筑材料、保全監(jiān)視等產(chǎn)業(yè)。光學(xué)檢查是エ業(yè)制程中常見的代表性作法，利用光學(xué)儀器擷取成品表面狀態(tài)，再以計(jì)算機(jī)影像處理技術(shù)檢測出異物或圖案異常等瑕疵，屬于非接觸式檢測。一般高精度光學(xué)影像檢測整體系統(tǒng)涵蓋技術(shù)領(lǐng)域，包含量測鏡頭制造技術(shù)、光學(xué)照明處理手法、定位量測原理、電子電路電性驅(qū)動(dòng)測試技術(shù)、影像處理系統(tǒng)以及自動(dòng)化應(yīng)用技術(shù)等相關(guān)技術(shù)整合，針對使用設(shè)備業(yè)者開發(fā)出符合高科技產(chǎn)業(yè)產(chǎn)品制造需求。以液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的光學(xué)檢測設(shè)備為例，其設(shè)備組成構(gòu)件包含檢測鏡頭、光源(各方向打光)、系統(tǒng)主機(jī)(由計(jì)算機(jī)與外圍連接接ロ組件組成)、主機(jī)屏幕、網(wǎng)絡(luò)連結(jié)、集線器、動(dòng)カ控制、伺服驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、可程序邏輯控制器等構(gòu)件組合而成，其中，特別是針對光源打光處理部份，由于檢測裝置之光源必須配合儀器鏡頭設(shè)置方向，不論鏡頭擷取影像之方向是由左往右、由上往下、甚至是由左上往右下等各種方向之鏡頭取像角度，光源設(shè)置位置均成為極為關(guān)鍵之影響要件，例如光源于檢測產(chǎn)品表面光源是否充足、每ー角度光線是否均勻、或者是光源照射方向是否與構(gòu)件配置位置互相干渉、上述各配置要件都是影響高精度之光學(xué)檢測設(shè)備測試良率高低與否之關(guān)鍵。請參閱第I圖，是習(xí)知技藝之立體分解示意圖。通常檢測設(shè)備僅設(shè)置ー排光源用以照射待測物，由于單一光源12模塊照射時(shí)，其亮度均勻性特性曲線圖于兩側(cè)邊前、后段有明顯下降趨勢，此原因系光源側(cè)邊亮度不充足之緣故，所以鏡頭13經(jīng)常無法正確判別待檢測產(chǎn)品之真實(shí)輸出特性。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是透過復(fù)數(shù)光源模塊設(shè)計(jì)，該光源模塊以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，且每ー組單一光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，將復(fù)數(shù)光源模塊單元整合于單ー檢測機(jī)臺設(shè)備中，配合多層堆棧結(jié)構(gòu)，使檢測裝置實(shí)際檢驗(yàn)時(shí)每一光源模塊側(cè)邊亮度下降現(xiàn)象互相獲得補(bǔ)償，進(jìn)而更正確判讀待檢測產(chǎn)品之真實(shí)輸出特性。為實(shí)現(xiàn)上述的目的，本實(shí)用新型提出ー種發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，包括ー攝影部、一擴(kuò)散層、一介質(zhì)層、復(fù)數(shù)光源模塊及ー輻射模塊；攝影部用以擷取影像，擴(kuò)散層位于攝影部前方用以均勻化光源，并于擴(kuò)散層內(nèi)部空間將光線產(chǎn)生會(huì)聚，介質(zhì)層位于擴(kuò)散層前方用以提供光源穿透，復(fù)數(shù)光源模塊位于介質(zhì)層前方，將復(fù)數(shù)光源模塊容置固定于ー承載件內(nèi)表面，其中復(fù)數(shù)光源模塊系以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，且每ー組單一光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，輻射模塊位于承載件下方。利用復(fù)數(shù)光源模塊設(shè)計(jì)，將每一光源模塊以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，且每ー組單一光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，其中復(fù)數(shù)光源模塊系以串行排序或并列排序配置形式組合而成，通常光源模塊之光源選用發(fā)光二極管或雷射ニ極管，由于通常在進(jìn)行大尺寸液晶面板檢測時(shí)，単一排光源模塊皆會(huì)明顯產(chǎn)生亮度下降現(xiàn)象，經(jīng)本創(chuàng)作之設(shè)計(jì)，將復(fù)數(shù)光源模塊利用串行或并列混合配置，且光源模塊單元統(tǒng)一整合配置于單ー檢測 機(jī)臺設(shè)備中，經(jīng)由亮度均勻性曲線圖量測后，確實(shí)能將每一光源模塊實(shí)際檢驗(yàn)時(shí)兩側(cè)邊曲線下降現(xiàn)象互相進(jìn)行補(bǔ)償，使檢測機(jī)臺更能正確判斷出待檢測產(chǎn)品之真實(shí)輸出特性。另外，配合特別研究設(shè)計(jì)之迭層式結(jié)構(gòu)，將擴(kuò)散層及介質(zhì)層利用夾持片固定定位于攝影部及復(fù)數(shù)光源模塊之間，且擴(kuò)散層及介質(zhì)層之上、下配置排列順序可互為更換，由于擴(kuò)散層可用以均勻化光源，并于擴(kuò)散層內(nèi)部空間進(jìn)行投射光線會(huì)聚，使復(fù)數(shù)光源模塊產(chǎn)生之打光光線更加均勻，進(jìn)而提高復(fù)數(shù)光源模塊整合照明效率。

圖I是習(xí)知技藝之立體分解示意圖。圖2是本創(chuàng)作第一實(shí)施例之立體分解示意圖。圖3是本創(chuàng)作第二實(shí)施例之立體分解示意圖。附圖標(biāo)號說明12 光源 13 鏡頭20 發(fā)光二極管模塊21 攝影部 22 擴(kuò)散層23 介質(zhì)層24 光源模塊 25 福射模塊26 承載件
具體實(shí)施方式
如圖2所示，是本創(chuàng)作第一實(shí)施例之立體分解示意圖。發(fā)光二極管模塊20包括一攝影部21、一擴(kuò)散層22、一介質(zhì)層23、復(fù)數(shù)光源模塊24及ー輻射模塊25 ;攝影部21用以擷取待測試產(chǎn)品表面影像，擴(kuò)散層22位于攝影部21前方，利用擴(kuò)散層22使復(fù)數(shù)光源模塊24之投射光線均勻化，并于擴(kuò)散層22內(nèi)部空間將投射光線加以會(huì)聚，介質(zhì)層23位于擴(kuò)散層22前方用以提供光源穿透，復(fù)數(shù)光源模塊24位于介質(zhì)層23前方，將復(fù)數(shù)光源模塊24容置固定于ー承載件26內(nèi)表面，其中復(fù)數(shù)光源模塊24系以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，且每ー組單一光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，輻射模塊25則配置承載于該承載件26下方。本創(chuàng)作利用復(fù)數(shù)光源模塊24設(shè)計(jì)，將光源模塊24依序以規(guī)律比例經(jīng)由串行排序或并列排序配置組合，其中每ー組光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，并將復(fù)數(shù)光源模塊24統(tǒng)ー均勻配置整合于單ー檢測機(jī)臺中，例如本實(shí)施例中設(shè)置串行混合并列之六組光源模塊24，而每ー組光源模塊24分別由三顆發(fā)光二極管241依序排序連接組成，該光源模塊24之光源可分別選用發(fā)光二極管241或雷射ニ極管，經(jīng)本創(chuàng)作之設(shè)計(jì)，當(dāng)檢測設(shè)備商欲進(jìn)行大尺寸液晶面板檢測時(shí)，由于六組光源模塊24會(huì)產(chǎn)生之六條亮度均勻性曲線，而每一條曲線兩側(cè)曲線下降處會(huì)互相進(jìn)行補(bǔ)償，使六條曲線連 接后之整段亮度均勻性曲線平均值仍然會(huì)趨近平衡，使照設(shè)于液晶面板整體表面之發(fā)散光線更加均勻，更有利于檢測設(shè)備商正確判斷出待測產(chǎn)品真實(shí)輸出特性。另外，再配合攝影部21及復(fù)數(shù)光源模塊24之間配置之?dāng)U散層22及介質(zhì)層23，由于擴(kuò)散層22可用以均勻化光源，并會(huì)預(yù)先于擴(kuò)散層22內(nèi)部進(jìn)行光源模塊24之照射光線會(huì)聚，且擴(kuò)散層22及介質(zhì)層23，上、下配置順序可互為更換，使復(fù)數(shù)光源模塊24打光光線更加均勻。如圖3所示，是本創(chuàng)作第二實(shí)施例之立體分解示意圖。本實(shí)施例與上述第一實(shí)施例雷同，其差異處在于將光源模塊24依序以串行及并列排序形式混合配置組成，其每ー組光源組件組成之?dāng)?shù)量也完全相等，本實(shí)施例中，共配置有十二組光源模塊24，而每ー組光源模塊24分別由三顆發(fā)光二極管241以串行混合并列排序連接。另外，攝影部21及復(fù)數(shù)光源模塊24之間的擴(kuò)散層22及介質(zhì)層23分別增加至兩片，并以相對并排形式配置，使擴(kuò)散層均勻化光源之效率更佳，進(jìn)而加強(qiáng)光源模塊24光線會(huì)聚效果，使復(fù)數(shù)光源模塊24打光光線更加均勻。經(jīng)上述各實(shí)施例逐一說明得知，不論檢測設(shè)備商欲進(jìn)行再大尺寸之待測物產(chǎn)品，均能藉由本創(chuàng)作之設(shè)計(jì)有效改善液晶面板整體表面均勻性光線不均勻之特性獲得補(bǔ)償，更能精準(zhǔn)判斷待測物真實(shí)輸出特性。惟以上所作的說明及圖面的顯示均僅為利用本發(fā)明的技術(shù)手段所呈現(xiàn)的單ー較佳實(shí)施例而已，自不能用以限制本發(fā)明的權(quán)利范圍，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者援引本發(fā)明的精神所作的等效修飾或變化設(shè)計(jì)，皆應(yīng)為申請專利范圍的敘述所涵蓋，合先陳明。
權(quán)利要求1.ー種發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，包括 ー攝影部，系用以擷取影像； 一擴(kuò)散層，位于該攝影部前方，系用以均勻化光源并于擴(kuò)散層內(nèi)部空間將光線產(chǎn)生會(huì)聚； 一介質(zhì)層，位于該擴(kuò)散層前方，系用以提供光源穿透； 其特征在于復(fù)數(shù)光源模塊，位于該介質(zhì)層前方，系容置固定于ー承載件內(nèi)表面，該復(fù)數(shù)光源模塊系以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，其中每ー組單一 光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等；以及ー輻射模塊，位于該承載件下方。
2.如權(quán)利要求I所述的發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其特征在干，擴(kuò)散層及介質(zhì)層系利用至少ー夾持片加以固定定位。
3.如權(quán)利要求I所述的發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其特征在干，擴(kuò)散層及介質(zhì)層之配置排列順序可互為更換。
4.如權(quán)利要求I所述的發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其特征在于，擴(kuò)散層將光線產(chǎn)生會(huì)聚之效果系于擴(kuò)散層內(nèi)部空間完成。
5.如權(quán)利要求I所述的發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其特征在于，復(fù)數(shù)光源模塊系以串行或并列配置形式排列組合而成。
6.如權(quán)利要求I所述的發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，其特征在于，復(fù)數(shù)光源模塊之光源為發(fā)光二極管或雷射ニ極管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種發(fā)光二極管模塊檢驗(yàn)，包括一攝影部、一擴(kuò)散層、一介質(zhì)層、復(fù)數(shù)光源模塊及一輻射模塊；攝影部用以擷取影像，擴(kuò)散層位于攝影部前方用以均勻化光源，介質(zhì)層位于擴(kuò)散層前方用以提供光源穿透，復(fù)數(shù)光源模塊位于介質(zhì)層前方，將復(fù)數(shù)光源模塊容置固定于一承載件內(nèi)表面，其中復(fù)數(shù)光源模塊系以規(guī)則性比例之多組單一光源組件排列而成，且每一組單一光源組件組成之?dāng)?shù)量皆相等，輻射模塊位于承載件下方。本創(chuàng)作特征在于透過復(fù)數(shù)模塊光源配置及特殊迭層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使待測物前、后段亮度下降現(xiàn)象獲得補(bǔ)償。
文檔編號H01L21/66GK202633246SQ20122002837
公開日2012年12月26日 申請日期2012年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月19日
發(fā)明者羅友群, 方志恒 申請人:由田信息技術(shù)(上海)有限公司