專利名稱：線路柱式絕緣子上釉裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于電瓷絕緣子上釉裝置，具體涉及線路柱式絕緣子上釉裝置。
背景技術(shù)：
電瓷的生產(chǎn)制造工藝中，為了提高電瓷的機(jī)械強(qiáng)度、絕緣性能，使電瓷表面具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性，對(duì)電瓷產(chǎn)品燒成前需進(jìn)行上釉?，F(xiàn)有的上釉裝置多為淋釉，此種上釉方式不適用于干法成型坯件的上釉，干法成型坯件的上釉可采用噴釉，但目前尚無專門的上釉裝置來配合噴釉工藝。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能上釉均勻，窯后無色差，無堆釉的線路柱式絕緣子上釉裝置。為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種線路柱式絕緣子上釉裝置，包括支撐架、電機(jī)和固定坯體的卡盤，電機(jī)固定在支撐架上；電機(jī)、卡盤和坯體同軸轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有如下特點(diǎn)上釉均勻，由于坯體隨著電機(jī)勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，通過淋釉的方式上釉降低了手工浸釉過程中人為因素(如目測(cè)誤差、手的抖動(dòng)等)的影響，有效保證了坯體表面的釉層均勻，窯后無色差、無堆釉，減少了瓷件的報(bào)廢率，改善了產(chǎn)品外觀，同時(shí)減少了產(chǎn)品機(jī)械強(qiáng)度的分散性，提高了產(chǎn)品強(qiáng)度。
以下結(jié)合附圖
和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明圖I是本實(shí)用新型線路柱式絕緣子上釉裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；I、坯體2、卡盤3、電機(jī)4、支撐架。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，本實(shí)用新型提供一種線路柱式絕緣子上釉裝置，包括支撐架4、電機(jī)3和固定坯體I的卡盤2，電機(jī)3固定在支撐架4上；電機(jī)3、卡盤2和坯體I同軸轉(zhuǎn)動(dòng)，由于坯體I隨著電機(jī)3勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，通過淋釉或者噴釉的方式上釉降低了手工浸釉過程中人為因素(如目測(cè)誤差、手的抖動(dòng)等)的影響，有效保證了坯體表面的釉層均勻，窯后無色差、無堆釉，減少了瓷件的報(bào)廢率，改善了產(chǎn)品外觀，同時(shí)減少了產(chǎn)品機(jī)械強(qiáng)度的分散性，提高了產(chǎn)品強(qiáng)度。本實(shí)用新型工作進(jìn)程如下a、使用鋼材或者其他材料制作成型支撐架4，形成工作平臺(tái)山、將電機(jī)3固定在工作平臺(tái)上；c、將卡盤2安裝在電機(jī)3軸上，使坯體I主體桿固定于卡盤上，使電機(jī)3軸、卡盤2、坯體I同軸轉(zhuǎn)動(dòng)，完成旋轉(zhuǎn)淋釉或者噴釉。以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)的前提下，還可以作出若干變形和改進(jìn)，這些都不會(huì)影響本實(shí)用新型實(shí)施的效果和專利的 實(shí)用性。
權(quán)利要求1.一種線路柱式絕緣子上釉裝置，其特征在于包括支撐架、電機(jī)和固定坯體的卡盤，電機(jī)固定在支撐架上；電機(jī)、卡盤和坯體同軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
專利摘要本實(shí)用新型屬于電瓷絕緣子上釉裝置，具體公開了線路柱式絕緣子上釉裝置，包括支撐架、電機(jī)和固定坯體的卡盤，電機(jī)固定在支撐架上；電機(jī)、卡盤和坯體同軸轉(zhuǎn)動(dòng)，由于坯體隨著電機(jī)勻速轉(zhuǎn)動(dòng)，通過淋釉的方式上釉降低了手工浸釉過程中人為因素的影響，有效保證了坯體表面的釉層均勻，且窯后無色差、無堆釉。
文檔編號(hào)H01B19/04GK202422887SQ201120518960
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月13日
發(fā)明者尹文敏, 李孝華, 陶軾 申請(qǐng)人:重慶鴿牌電瓷有限公司