專利名稱：盤型疊式旋磁真空滅弧室的制作方法
技術領域：
本實用新型屬真空斷路器領域，尤其涉及盤型疊式旋磁真空滅弧室。
背景技術：
在電力系統(tǒng)中，高壓開關設備起控制與保護作用。高壓斷路器是最為重要電氣設備，主要用于關合、開斷電路。近年來，隨著電力工業(yè)的快速發(fā)展，電壓等級和容量日益提升，高性能、低污染的用電需求為真空斷路器的發(fā)展提供了更為廣闊的研發(fā)和應用空間。真空滅弧室觸頭結構的改進主要經(jīng)歷了圓盤形平板觸頭、橫向磁場觸頭及縱向磁場觸頭三個階段。(1)圓盤形平板觸頭圓盤形平板觸頭結構簡單，機械強度高，通常用于真空負荷開關或真空接觸器中。對于圓盤形平板觸頭來說，當開斷電流較大時，陽極將會出現(xiàn)斑點， 真空電弧將產(chǎn)生強烈的收縮現(xiàn)象，金屬蒸氣電弧將由擴散型轉(zhuǎn)變?yōu)槭湛s型，進而導致開斷失敗。(2)橫向磁場觸頭觸頭片上開有螺旋槽并且當有電流流過觸頭時將會產(chǎn)生一個與弧柱軸線方向垂直的磁場。橫向磁場觸頭與電弧電流相互作用而產(chǎn)生的洛倫茲力使電弧沿圓周方向運動，橫向磁場會將運動時的電弧彎曲拉長，使電弧電壓及電弧能量變大，導致開斷能力受到限制，并且電弧集聚時對觸頭的燒蝕程度仍比電弧擴散時強烈，弧隙中剩余等離子體在電流過零時的密度仍較高，恢復電壓較高時仍會發(fā)生重燃現(xiàn)象。(3)縱向磁場觸頭縱向磁場觸頭結構它的磁力線與電弧電流流向一致，可以抵抗電弧的收縮，提高電弧由擴散型轉(zhuǎn)變?yōu)槭湛s型的臨界值。當電流過零后，縱向磁場對等離子體及中性粒子的擴散和衰減十分不利。渦流的存在不僅減小觸頭間縱向磁場強度，且使縱向磁場滯后于電流變化，使電流過零時觸頭間仍有剩余縱向磁場。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型旨在克服現(xiàn)有技術的不足之處而提供一種盤型疊式旋磁真空滅弧室， 其可以在提供橫向磁場的同時，又產(chǎn)生縱向磁場的作用，更加有利于電弧能量的逸散，電弧降溫塊，絕緣性能好，開斷能力強，安裝維護方便，運行可靠性高。為解決上述技術問題，本實用新型是這樣實現(xiàn)的盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿、觸頭杯底、鐵芯及觸頭杯；所述觸頭杯底及觸頭杯與導電桿依次固定配接；所述鐵芯置入觸頭杯內(nèi)；在所述鐵芯上等份開有繞組槽；兩組以上同軸線圈繞組疊放置入繞組槽內(nèi)并依次錯開一定角度θ。作為一種優(yōu)選方案，本實用新型所述繞組槽的個數(shù)為12 30個。作為另一種優(yōu)選方案，本實用新型所述繞組槽的槽寬為2. 5 3mm。進一步地，本實用新型所述線圈繞組沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。更進一步地，本實用新型在所述觸頭杯底的端部固定設有觸頭片。另外，本實用新型所述角度θ在5° 15°之間。[0014]本實用新型在通三相交流電后，傳導電流經(jīng)過導電桿流入觸頭杯內(nèi)，通過繞組線圈，在觸頭杯內(nèi)形成旋轉(zhuǎn)磁場，由于存在錯開式的線圈繞組排布，在同一時刻每組線圈產(chǎn)生的磁場方向并不相同，并通過另一側相同結構的觸頭共同作用，在中間氣隙中產(chǎn)生了不同旋轉(zhuǎn)頻率的旋轉(zhuǎn)磁場，同時也加大了旋轉(zhuǎn)磁場的強度。驅(qū)動電弧能量在動靜觸頭之間高速旋轉(zhuǎn)，快速釋放能量，從而減小電弧燃燒時間，延長開關壽命。本實用新型所采用的新型觸頭結構使真空滅弧室內(nèi)的電弧能量經(jīng)旋轉(zhuǎn)磁場的帶動，由傳統(tǒng)的軸向流動變?yōu)樾郎u形式流動，在運動過程中氣體發(fā)生動能的徑向交換，快速帶走電弧能量，使電弧熄滅。本實用新型觸頭結構可有效降低電弧溫度，加速電弧能量釋放，降低觸頭燒蝕程度，保護觸頭結構，提高真空斷路器開斷能力。
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步說明。

圖1為本實用新型整體結構示意圖。圖2為本實用新型鐵芯開槽示意圖。圖3為本實用新型線圈繞組示意圖。圖4為本實用新型同軸線圈繞組示意圖。圖中1、導電桿；2、觸頭杯底；3、觸頭杯；4、觸頭片；5、電?。?、繞組槽；7、鐵芯；
8、線圈繞組。
具體實施方式
如圖所示，盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿1、觸頭杯底2、鐵芯7及觸頭杯3 ；所述觸頭杯底2及觸頭杯3與導電桿1依次固定配接；所述鐵芯7置入觸頭杯3內(nèi)；在所述鐵芯7上等份開有繞組槽6 ；兩組以上同軸線圈繞組8疊放置入繞組槽6內(nèi)并依次錯開一定角度θ。本實用新型2 5組同軸線圈繞組8疊放置入繞組槽6內(nèi)并依次錯開一定角度θ，角度取10°。本實用新型所述繞組槽6的個數(shù)為12 30個。本實用新型所述繞組槽6的槽寬為2. 5 3mm。本實用新型所述線圈繞組8沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。為保護觸頭中的線圈繞組8，本實用新型在所述觸頭杯底2的端部固定設有觸頭片4。本實用新型盤型疊式旋磁真空滅弧室，通過在觸頭杯上的開槽，可以將觸頭杯等同與電機的電樞，電樞繞組的有效導體在空間沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。線圈繞組采用銅板沖刺然后焊接制造而成。參見圖1所示，盤型疊式旋磁真空滅弧室包括導電桿1、觸頭杯底2、觸頭杯(電樞)3、觸頭片4。參見圖2所示，本實用新型在觸頭杯(電樞)3內(nèi)放置每隔30°開一個槽6的鐵芯7，槽寬為2. 5mm。參見圖3所示，本實用新型的線圈繞組8采用銅板沖刺然后焊接制造而成，沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。參見圖4所示，本實用新型將一組同軸鐵芯疊放在觸頭杯內(nèi)，并錯開一定角度10° 0本實用新型對動、靜觸頭均采用此結構。在開斷過程中，動、靜之間將會出現(xiàn)電弧區(qū)域，通過三相交流電的作用，在動、靜觸頭線圈繞組的作用下，在觸頭表面將出現(xiàn)旋轉(zhuǎn)磁場，由于真空電弧是由金屬等離子體構成，通過電弧的作用，在動、靜觸頭之間的電弧區(qū)域也將產(chǎn)生強烈的旋轉(zhuǎn)磁場，通過旋轉(zhuǎn)磁場的強力作用，快速帶走電弧能量，使電弧熄滅，有效降低電弧溫度，加速電弧能量釋放，降低觸頭燒蝕程度，保護觸頭結構，提高真空斷路器開斷能力。本實用新型能夠滿足特殊工況下的開斷要求，同時本實用新型具有很強的容性電流開斷能力，并且通過仿真試驗研究，可以提高產(chǎn)品可靠性、安全運行。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權利要求1.盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于，包括導電桿(1)、觸頭杯底(2)、鐵芯(7)及觸頭杯(3)；所述觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)與導電桿(1)依次固定配接；所述鐵芯(7)置入觸頭杯(3)內(nèi)；在所述鐵芯(7)上等份開有繞組槽(6)；兩組以上同軸線圈繞組(8)疊放置入繞組槽(6)內(nèi)并依次錯開一定角度θ。
2.根據(jù)權利要求1所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于所述繞組槽(6)的個數(shù)為12 30個。
3.根據(jù)權利要求2所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于所述繞組槽(6)的槽寬為2. 5 3mm0
4.根據(jù)權利要求3所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于所述線圈繞組(8)沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構。
5.根據(jù)權利要求4所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于在所述觸頭杯底(2)的端部固定設有觸頭片(4)。
6.根據(jù)權利要求5所述的盤型疊式旋磁真空滅弧室，其特征在于所述角度θ在5° 15°之間。
專利摘要本實用新型屬真空斷路器領域，尤其涉及一種盤型疊式旋磁真空滅弧室，它包括導電桿(1)、觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)；觸頭杯底(2)及觸頭杯(3)與導電桿(1)依次固定配接；在觸頭杯(3)內(nèi)放置等份開有繞組槽(6)的鐵芯(7)；在繞組槽(6)內(nèi)置入線圈繞組(8)；線圈繞組(8)沿徑向呈輻射狀分布成盤式結構；在觸頭杯底(2)的端部固定設有觸頭片(4)；兩組以上同軸線圈繞組(8)疊放置入繞組槽(6)內(nèi)并依次錯開一定角度θ。本實用新型可以在提供橫向磁場的同時，又產(chǎn)生縱向磁場的作用，更加有利于電弧能量的逸散，電弧降溫塊，絕緣性能好，開斷能力強，安裝維護方便，運行可靠性高。
文檔編號H01H33/664GK202332703SQ20112051159
公開日2012年7月11日 申請日期2011年12月9日 優(yōu)先權日2011年12月9日
發(fā)明者劉曉明, 曹云東, 賴增輝 申請人:沈陽工業(yè)大學