專利名稱：太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置。
背景技術(shù)：
太陽(yáng)能電池硅片在切割過(guò)程中表面會(huì)殘留切割液、硅粉、氧化硅及其它金屬離子， 故需要將太陽(yáng)能電池硅片送入清洗裝置進(jìn)行水預(yù)洗、堿洗、酸洗以去除其表面上的雜質(zhì)。如圖ι所示，傳統(tǒng)的清洗裝置中的堿洗槽1上設(shè)置有進(jìn)液口 2和溢流口 3，進(jìn)液口 2上設(shè)置有進(jìn)液管4，溢流口 3上設(shè)置有溢流管5，進(jìn)液口 2的底面水平位置高于溢流口 3的底面水平位置。由于堿洗槽1中的堿液在清洗過(guò)程中容易產(chǎn)生浮沫6，而進(jìn)液口 2的底面水平位置高于溢流口 3的底面水平位置，由進(jìn)液口 2進(jìn)入堿洗槽1的水流存在落差且方向雜亂，這樣導(dǎo)致產(chǎn)生的浮沫流向分散和容易積聚在進(jìn)液口 2的附近，清洗時(shí)浮沫6容易粘附在硅片的表面使硅片表面形成花斑，影響硅片的質(zhì)量。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所需解決的技術(shù)問(wèn)題是將提供一種能及時(shí)將浮沫排走的太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置。為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置，包括堿洗槽，堿洗槽上設(shè)置有進(jìn)液口和溢流口，進(jìn)液口上設(shè)置有進(jìn)液管，溢流口上設(shè)置有溢流管，進(jìn)液口的底面水平位置與溢流口的底面水平位置持平、或低于溢流口的底面水平位置。本實(shí)用新型的有益效果結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能有效將堿洗槽中產(chǎn)生的浮沫排出，降低清洗時(shí)的硅片與浮沫接觸的概率，從而提高太陽(yáng)能硅片的質(zhì)量。

圖1是本實(shí)用新型背景技術(shù)中所述的太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置的示意圖。圖2是本實(shí)用新型所述的太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置的示意圖。圖1中1、堿洗槽，2、進(jìn)液口，3、溢流口，4、進(jìn)液管，5、溢流管，6、浮沫。圖2中1、堿洗槽，2、進(jìn)液口，3、溢流口，4、進(jìn)液管，5、溢流管，6、浮沫。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。如圖2所示，太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置，包括堿洗槽1，堿洗槽1上設(shè)置有進(jìn)液口 2和溢流口 3，進(jìn)液口 2上設(shè)置有進(jìn)液管4，溢流口 3上設(shè)置有溢流管5，進(jìn)液口 2的底面水平位置與溢流口 3的底面水平位置持平。工作時(shí)，堿液從進(jìn)液管4進(jìn)入進(jìn)液口 2然后流進(jìn)堿洗槽1內(nèi)，堿液在溢流口 3流出至溢流管5中再進(jìn)入另外的槽中。清洗時(shí)在堿液的表面產(chǎn)生的浮沫6，由于進(jìn)液口 2的底面水平位置與溢流口 3的底面水平位置持平，堿液進(jìn)入堿洗槽1內(nèi)沒(méi)有落差，故堿洗槽1中堿液的流動(dòng)方向比較單一，就會(huì)在堿洗槽1中水平面上形成從進(jìn)液口 2不斷流向溢流口 3的較強(qiáng)水流，堿液的流動(dòng)帶著堿液表層的浮沫一起及時(shí)流出溢流口 3，這樣浮沫6就不會(huì)積聚在進(jìn)液口 2的附近，清洗時(shí)可以減少硅片與浮沫6的接觸，減少硅片表面產(chǎn)生花斑的幾率。進(jìn)液口 2的底面水平位置低于溢流口 3的底面水平位置，本實(shí)用新型不再舉例說(shuō)明，其原理與進(jìn)液口 2的底面水平位置與溢流口 3的底面水平位置持平一樣，即堿洗槽1內(nèi)水流方向單一，浮沫6隨水流方向流出至溢流口 3及時(shí)排出。本實(shí)用新型所述的太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能有效將堿洗槽中產(chǎn)生的浮沫排出，降低清洗時(shí)硅片與浮沫接觸的概率，從而提高太陽(yáng)能電池硅片的質(zhì)量。
權(quán)利要求1.太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置，包括堿洗槽，堿洗槽上設(shè)置有進(jìn)液口和溢流口，進(jìn)液口上設(shè)置有進(jìn)液管，溢流口上設(shè)置有溢流管，其特征在于進(jìn)液口的底面水平位置與溢流口的底面水平位置持平、或低于溢流口的底面水平位置。 專利摘要本實(shí)用新型公開了一種太陽(yáng)能電池硅片的清洗裝置，包括堿洗槽，堿洗槽上設(shè)置有進(jìn)液口和溢流口，進(jìn)液口上設(shè)置有進(jìn)液管，溢流口上設(shè)置有溢流管，進(jìn)液口的底面的水平位置與溢流口的底面水平位置持平、或低于溢流口的底面水平位置。實(shí)用新型所述的太陽(yáng)能硅片的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能有效將堿洗槽中產(chǎn)生的浮沫排出，降低清洗時(shí)的硅片與浮沫接觸的概率，從而提高太陽(yáng)能硅片的質(zhì)量。本實(shí)用新型能廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能硅片的清洗裝置中。
文檔編號(hào)H01L31/18GK202219250SQ20112023698
公開日2012年5月16日 申請(qǐng)日期2011年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月7日
發(fā)明者陶國(guó)偉 申請(qǐng)人:蘇州赤誠(chéng)洗凈科技有限公司