專利名稱：刻蝕方法和系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種刻蝕方法和系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
隨著超大規(guī)模集成電路(ULSI，Ultra Large Scale htegration)的飛速發(fā)展，集成電路制造工藝變得越來越復(fù)雜和精細(xì)，對(duì)刻蝕效果的要求也越來越嚴(yán)格。目前半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中的各刻蝕步驟，一般多分為主刻蝕和過刻蝕兩步，主刻蝕采用捕捉刻蝕停止點(diǎn)的方式適時(shí)的停止主刻蝕，但如果達(dá)到預(yù)設(shè)的最大主刻蝕時(shí)間仍沒有找到刻蝕停止點(diǎn)， 也同樣會(huì)停止主刻蝕，之后采用固定刻蝕時(shí)間的方式進(jìn)行過刻蝕，以避免刻蝕殘留。但是現(xiàn)有技術(shù)中的上述刻蝕方法，往往會(huì)出現(xiàn)刻蝕殘留，下面以金屬層的刻蝕過程為例進(jìn)行說明。金屬層刻蝕過程中的主刻蝕應(yīng)終止在金屬和氧化物的界面處，即主刻蝕過程中如果掃描到了氧化物，即停止主刻蝕，進(jìn)入過刻蝕步驟，但如果在預(yù)設(shè)的金屬層主刻蝕時(shí)間范圍內(nèi)沒有掃描到氧化物，也同樣會(huì)停止主刻蝕進(jìn)入過刻蝕步驟。采用上述方式，一般情況下，主刻蝕步驟就能夠捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，但是，實(shí)際操作中，由于各種原因，很多時(shí)候主刻蝕步驟未能捕捉到刻蝕停止點(diǎn)便因達(dá)到預(yù)設(shè)的主刻蝕停止時(shí)間而停止了，之后進(jìn)入過刻蝕步驟，在固定的時(shí)間內(nèi)完成過刻蝕。這樣便導(dǎo)致刻蝕停止點(diǎn)之后，實(shí)際的過刻蝕時(shí)間小于正常的過刻蝕時(shí)間，即實(shí)際上整個(gè)刻蝕過程刻蝕掉的金屬層的厚度小于正常的刻蝕厚度，這種情況下，往往容易導(dǎo)致金屬層的刻蝕殘留，或者器件的CD (關(guān)鍵尺寸)偏大等不良后果。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種刻蝕方法和系統(tǒng)，避免了因過早地停止主刻蝕，而導(dǎo)致過刻蝕之后的刻蝕殘留以及器件CD偏大等問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供了如下技術(shù)方案一種刻蝕方法，包括主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果否，則進(jìn)入過刻蝕步驟繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止，以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；所述過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果是，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值；采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。優(yōu)選的，還包括主刻蝕停止時(shí)捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，則按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕。優(yōu)選的，還包括所述過刻蝕停止前未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，則停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序。優(yōu)選的，所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值與刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間的關(guān)系式為t2 = t^hyhi ；其中，t2為最大主刻蝕時(shí)間的修正值，、為最大主刻蝕時(shí)間，Ii2為捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度，Ii1為主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度。優(yōu)選的，所述捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度為，捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值；所述主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度為，主刻蝕停止時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值。優(yōu)選的，所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值為按照此時(shí)刻蝕設(shè)備的主刻蝕速率，達(dá)到刻蝕停止點(diǎn)所需的主刻蝕時(shí)間。優(yōu)選的，所述刻蝕方法應(yīng)用于柵介質(zhì)層和/或金屬層的刻蝕過程。本發(fā)明實(shí)施例公開了一種刻蝕系統(tǒng)，包括第一判斷單元，用于主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止占-
I I ■^ \\\ 第一控制單元，用于所述主刻蝕停止時(shí)未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備進(jìn)入過刻蝕繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止，以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；第二判斷單元，用于過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止占-
I I ■^ \\\ 計(jì)算單元，用于當(dāng)過刻蝕停止前捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值；第一反饋單元，用于采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。優(yōu)選的，還包括第二控制單元，用于所述主刻蝕停止時(shí)捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕；第二反饋單元，用于所述過刻蝕停止前未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序。優(yōu)選的，還包括存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)最大主刻蝕時(shí)間、最大過刻蝕時(shí)間、正常過刻蝕時(shí)間和最大主刻蝕時(shí)間的修正值中的至少一種數(shù)據(jù)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明實(shí)施例提供的刻蝕方法和系統(tǒng)，通過在主刻蝕和過刻蝕停止之后，增加判斷主刻蝕停止時(shí)以及過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)的步驟，進(jìn)而根據(jù)判斷結(jié)果確定最初的最大主刻蝕時(shí)間的設(shè)置是否合理，如果在過刻蝕過程中捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，說明最初的最大主刻蝕時(shí)間設(shè)置過短，需適當(dāng)延長(zhǎng)最大主刻蝕時(shí)間，以避免后續(xù)刻蝕過程中， 主刻蝕之后剩余的刻蝕層厚度超出了過刻蝕的刻蝕厚度范圍，而且在本次刻蝕過程中，通過控制過刻蝕的刻蝕方式，也避免了刻蝕殘留等問題。
綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例通過引入判斷機(jī)制以及時(shí)間反饋機(jī)制，通過控制刻蝕設(shè)備的刻蝕方式，避免了現(xiàn)有技術(shù)中因過早的停止主刻蝕，而導(dǎo)致的過刻蝕之后的刻蝕殘留以及器件CD偏大等問題。


通過附圖所示，本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢(shì)將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按實(shí)際尺寸等比例縮放繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本發(fā)明的主旨。圖1為本發(fā)明實(shí)施例一公開的刻蝕方法的流程圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例二公開的刻蝕系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。其次，本發(fā)明結(jié)合示意圖進(jìn)行詳細(xì)描述，在詳述本發(fā)明實(shí)施例時(shí)，為便于說明，表示器件結(jié)構(gòu)的剖面圖會(huì)不依一般比例作局部放大，而且所述示意圖只是示例，其在此不應(yīng)限制本發(fā)明保護(hù)的范圍。此外，在實(shí)際制作中應(yīng)包含長(zhǎng)度、寬度及深度的三維空間尺寸。正如背景技術(shù)部分所述，采用現(xiàn)有技術(shù)中的刻蝕方法，容易導(dǎo)致刻蝕殘留或器件 CD偏大等問題，發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，出現(xiàn)這些問題的原因在于，刻蝕過程中過早的停止了主刻蝕過程，而過刻蝕過程的時(shí)間和速度又是固定的，使得主刻蝕停止之后，剩余的需刻蝕掉的材料厚度超出了過刻蝕的刻蝕厚度范圍，進(jìn)而導(dǎo)致了刻蝕殘留或器件的CD偏大等問題。 而如果主刻蝕過程中僅以尋找刻蝕停止點(diǎn)的方式確定是否停止主刻蝕，反而會(huì)出現(xiàn)其它問題，如設(shè)備損壞的情況下，使刻蝕過程的安全性降低，導(dǎo)致器件缺陷，因此，必須采取其它刻蝕方式，既保證刻蝕的安全性，也避免刻蝕殘留或器件CD偏大。實(shí)施例一基于此，本實(shí)施例一提供了一種刻蝕方法，該方法的流程圖如圖1所示，包括以下步驟步驟SlOl 刻蝕設(shè)備啟動(dòng)，開始主刻蝕；步驟S102 達(dá)到最大主刻蝕時(shí)間或捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)，主刻蝕停止；步驟S103 主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果是，進(jìn)入步驟S104，如果否，進(jìn)入步驟S105 ；需要說明的是，本實(shí)施例中增加該步判斷步驟，是為了確定最初設(shè)置的最大主刻蝕時(shí)間是否足以捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，為后續(xù)是否需延長(zhǎng)最大主刻蝕時(shí)間打下基礎(chǔ)。步驟S104 如果主刻蝕停止在刻蝕停止點(diǎn)，則說明設(shè)置的最大主刻蝕時(shí)間已經(jīng)足以捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，即可以按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕；步驟S105 如果主刻蝕過程在達(dá)到最大主刻蝕時(shí)間時(shí)停止，且在停止時(shí)仍未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，排除設(shè)備的原因，就是最初設(shè)置的最大主刻蝕時(shí)間過短，使主刻蝕過早停止，因此需進(jìn)入過刻蝕步驟繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)；本實(shí)施例中所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)能夠自動(dòng)停止，并且在捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，自動(dòng)按照正常的過刻蝕時(shí)間繼續(xù)進(jìn)行過刻蝕，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)也能夠自動(dòng)停止。本實(shí)施例的過刻蝕步驟與現(xiàn)有技術(shù)中不同，在剛進(jìn)入過刻蝕過程時(shí)，以捕捉刻蝕停止點(diǎn)的方式進(jìn)行過刻蝕，待捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再以正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕， 以確?？涛g干凈，沒有刻蝕殘留；若過刻蝕過程中不能捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，說明可能是刻蝕設(shè)備出現(xiàn)問題，則需按照預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間停止過刻蝕，以避免因刻蝕時(shí)間過長(zhǎng)而導(dǎo)致對(duì)晶片造成損害。該步驟中，過刻蝕過程中捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)之后，無須停止過刻蝕，而是直接按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕，當(dāng)然，期間也可以停止過刻蝕，但為了節(jié)省生產(chǎn)時(shí)間，一般選擇前者。步驟S106 過刻蝕過程停止，過刻蝕停止原因如上所述；步驟S107 所述過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果否，進(jìn)入步驟S108，如果是，進(jìn)入步驟S109 ；步驟S108 若過刻蝕過程中仍未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，則停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序；本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，導(dǎo)致刻蝕過程異常的原因有多種，如果在足夠長(zhǎng)的刻蝕時(shí)間內(nèi)，仍舊沒有捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，這就說明刻蝕過程的參數(shù)設(shè)置并非主要原因，而是刻蝕設(shè)備或者生產(chǎn)過程的前層工序出現(xiàn)異常，因此必須停止后續(xù)的刻蝕過程，檢查可能出現(xiàn)問題的步驟，以避免后續(xù)的刻蝕過程異常。步驟S109 若過刻蝕過程中捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，說明最初設(shè)置的最大主刻蝕時(shí)間過短，則根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值，所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值為按照此時(shí)刻蝕設(shè)備的主刻蝕速率，達(dá)到刻蝕停止點(diǎn)所需的主刻蝕時(shí)間， 該最大主刻蝕時(shí)間的修正值大于最大主刻蝕時(shí)間；步驟SllO 采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。需要說明的是，本實(shí)施例中所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值與刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間的關(guān)系式為t2 = t^hyhi ；其中，t2為最大主刻蝕時(shí)間的修正值，、為最大主刻蝕時(shí)間，h2為捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度，即捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值； Ii1為主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度，即主刻蝕停止時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，除了上述關(guān)系式之外，還有其它多種關(guān)系式可以得出所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值，如t2 = Ij(Hh3A1), Il3為過刻蝕過程捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)，過刻蝕的刻蝕厚度，也就是捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕層厚度與主刻蝕停止時(shí)的刻蝕層厚度的差值，其它符號(hào)表示的含義與上一關(guān)系式相同。若實(shí)現(xiàn)上述計(jì)算過程，則需要在刻蝕過程中實(shí)時(shí)的記錄各刻蝕步驟中刻蝕層的厚度，所需記錄的數(shù)據(jù)包括進(jìn)行刻蝕前刻蝕層的厚度、主刻蝕停止時(shí)刻蝕層的厚度以及過刻蝕過程中，捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕層厚度?？傊瑴y(cè)量點(diǎn)和測(cè)量的厚度不同，所使用的關(guān)系式也不同，具體使用哪種測(cè)量方式和計(jì)算方式，本實(shí)施例中不做具體限定，只要能夠得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值即可。本實(shí)施例的刻蝕方法，通過增加判斷步驟，進(jìn)而通過逐步排除的確定出現(xiàn)問題的原因，是主刻蝕過早停止還是刻蝕設(shè)備出現(xiàn)異常等，若原因是最大主刻蝕時(shí)間設(shè)置過短，則適當(dāng)延長(zhǎng)最大主刻蝕時(shí)間，并通過引入時(shí)間反饋機(jī)制，采用延長(zhǎng)后的最大主刻蝕時(shí)間對(duì)后續(xù)的刻蝕過程進(jìn)行控制，以避免刻蝕殘留，而且在本次刻蝕過程中，通過控制過刻蝕的刻蝕方式，也避免了刻蝕殘留以及器件CD偏大等問題。另外，本實(shí)施例的方法是根據(jù)生產(chǎn)過程循環(huán)進(jìn)行的，對(duì)每一次刻蝕過程均可以進(jìn)行調(diào)整，保證生產(chǎn)過程的連續(xù)性。本實(shí)施例中所述的刻蝕方法，可以應(yīng)用于多種刻蝕層的刻蝕步驟中，如柵介質(zhì)層的刻蝕、側(cè)墻的刻蝕、金屬層的刻蝕等，只要各刻蝕層的刻蝕過程主要分為主刻蝕和過刻蝕即可，下面以金屬層的刻蝕為例，對(duì)本實(shí)施例的刻蝕方法進(jìn)行詳細(xì)說明。金屬層的刻蝕過程中，主刻蝕應(yīng)停止在金屬和氧化物的界面處，在實(shí)際刻蝕過程中，主刻蝕過程刻蝕掉的刻蝕層為金屬層，刻蝕之前，記錄下金屬層的厚度h/，當(dāng)主刻蝕停止后，判斷主刻蝕停止的原因，如果主刻蝕停止在刻蝕停止點(diǎn)，即金屬和氧化物的界面處， 則按照正常過刻蝕時(shí)間進(jìn)入過刻蝕，如果主刻蝕停止在最大主刻蝕時(shí)間t1;記錄下主刻蝕停止時(shí)金屬層的厚度ti2’，進(jìn)而得出主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度Ii1 = h/ _h2’，并進(jìn)入過刻蝕步驟；過刻蝕過程，先采用捕捉刻蝕停止點(diǎn)的方式進(jìn)行過刻蝕，如果期間捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，記錄下此時(shí)金屬層的厚度ti3’，并得到捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度Ii2 = V -h3’，根據(jù)最大主刻蝕時(shí)間的修正值t2與Wh2的關(guān)系式t2 = ^h2A1，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值，并按照正常過刻蝕時(shí)間繼續(xù)進(jìn)行過刻蝕，直至此次過刻蝕停止；之后， 采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程；如果過刻蝕過程中也沒有捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，則在到達(dá)最大過刻蝕時(shí)間時(shí)，自動(dòng)停止過刻蝕過程，以避免刻蝕掉的厚度過大，同時(shí)停止刻蝕設(shè)備，即停止后續(xù)的刻蝕過程， 檢查刻蝕設(shè)備和前層工藝是否發(fā)生異常，直至異常修復(fù)后，才能繼續(xù)刻蝕。該方法通過引入時(shí)間反饋機(jī)制，可以更為合理的控制主刻蝕和過刻蝕的時(shí)間，避免刻蝕殘留和過刻蝕等不良現(xiàn)象的發(fā)生。實(shí)施例二與方法實(shí)施例相對(duì)應(yīng)，本實(shí)施例公開了一種刻蝕系統(tǒng)，該系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖如圖2所示，該系統(tǒng)包括第一判斷單元11，用于主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)；第一控制單元13，用于所述主刻蝕停止時(shí)未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備進(jìn)入過刻蝕繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止，以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；第二判斷單元15，用于過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕
8停止點(diǎn)；計(jì)算單元16，用于當(dāng)過刻蝕停止前捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值；第一反饋單元18，用于采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。另外，該系統(tǒng)還包括第二控制單元12，用于所述主刻蝕停止時(shí)捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕；第二反饋單元17，用于所述過刻蝕停止前未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序。存儲(chǔ)單元14，用于存儲(chǔ)最大主刻蝕時(shí)間、最大過刻蝕時(shí)間、正常過刻蝕時(shí)間和最大主刻蝕時(shí)間的修正值中的至少一種數(shù)據(jù)。需要說明的是，本說明書中實(shí)施例公開的裝置而言，由于其與實(shí)施例公開的方法相對(duì)應(yīng)，所以描述的比較簡(jiǎn)單，相關(guān)之處參見方法部分說明即可。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，然而并非用以限定本發(fā)明。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此， 凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種刻蝕方法，其特征在于，包括主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果否，則進(jìn)入過刻蝕步驟繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止， 以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；所述過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果是，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值； 采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕方法，其特征在于，還包括主刻蝕停止時(shí)捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，則按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的刻蝕方法，其特征在于，還包括所述過刻蝕停止前未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)，則停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕方法，其特征在于，所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值與刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間的關(guān)系式為t2 = Vtl2Al1 ；其中，t2為最大主刻蝕時(shí)間的修正值，ti為最大主刻蝕時(shí)間，Ii2為捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度，Ii1為主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕方法，其特征在于，所述捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕厚度為，捕捉到刻蝕停止點(diǎn)時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值；所述主刻蝕停止時(shí)的刻蝕厚度為，主刻蝕停止時(shí)的刻蝕層厚度與刻蝕前的刻蝕層厚度的差值。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕方法，其特征在于，所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值為按照此時(shí)刻蝕設(shè)備的主刻蝕速率，達(dá)到刻蝕停止點(diǎn)所需的主刻蝕時(shí)間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的刻蝕方法，其特征在于，所述刻蝕方法應(yīng)用于柵介質(zhì)層和/或金屬層的刻蝕過程。
8.一種刻蝕系統(tǒng)，其特征在于，包括第一判斷單元，用于主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止占.^ w\ 第一控制單元，用于所述主刻蝕停止時(shí)未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備進(jìn)入過刻蝕繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止，以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；第二判斷單元，用于過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止占.^ w\ 計(jì)算單元，用于當(dāng)過刻蝕停止前捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值；第一反饋單元，用于采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的刻蝕系統(tǒng)，其特征在于，還包括第二控制單元，用于所述主刻蝕停止時(shí)捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，控制刻蝕設(shè)備按照正常的過刻蝕時(shí)間進(jìn)行過刻蝕；第二反饋單元，用于所述過刻蝕停止前未捕捉到刻蝕停止點(diǎn)的情況下，停止整個(gè)刻蝕過程，檢查刻蝕設(shè)備和/或前層工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的刻蝕系統(tǒng)，其特征在于，還包括存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)最大主刻蝕時(shí)間、最大過刻蝕時(shí)間、正常過刻蝕時(shí)間和最大主刻蝕時(shí)間的修正值中的至少一種數(shù)據(jù)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種刻蝕方法和系統(tǒng)，該方法包括主刻蝕停止后，判斷所述主刻蝕停止時(shí)是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果否，進(jìn)入過刻蝕步驟繼續(xù)捕捉刻蝕停止點(diǎn)，所述過刻蝕步驟在達(dá)到預(yù)設(shè)的最大過刻蝕時(shí)間時(shí)，以及捕捉到刻蝕停止點(diǎn)之后，再經(jīng)過了正常的過刻蝕時(shí)間時(shí)自動(dòng)停止；所述過刻蝕停止后，判斷所述過刻蝕停止前是否捕捉到了刻蝕停止點(diǎn)，如果是，根據(jù)刻蝕厚度和最大主刻蝕時(shí)間，得出最大主刻蝕時(shí)間的修正值；采用所述最大主刻蝕時(shí)間的修正值進(jìn)行下一次刻蝕過程。本發(fā)明實(shí)施例通過引入判斷機(jī)制以及時(shí)間反饋機(jī)制，通過控制刻蝕設(shè)備的刻蝕方式，避免了現(xiàn)有技術(shù)中因過早的停止主刻蝕，而導(dǎo)致的過刻蝕之后的刻蝕殘留以及器件CD偏大等問題。
文檔編號(hào)H01L21/02GK102486987SQ20101056845
公開日2012年6月6日 申請(qǐng)日期2010年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月1日
發(fā)明者李健, 胡駿 申請(qǐng)人:無錫華潤(rùn)上華半導(dǎo)體有限公司, 無錫華潤(rùn)上華科技有限公司