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一種鈍化保護(hù)二極管芯片及其加工方法

文檔序號:6944634閱讀:236來源:國知局
專利名稱:一種鈍化保護(hù)二極管芯片及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及的是一種二極管芯片及其加工方法,尤其涉及一種具有鈍化保護(hù)結(jié)構(gòu)的二極管芯片及其加工方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有二極管芯片普遍采用單層鈍化,一般使用玻璃等較脆的絕緣材料作鈍化層, 這種二極管芯片在封裝時,由于外層環(huán)氧樹脂需要先軟化,通過壓模的方式將環(huán)氧樹脂做成所設(shè)計的形狀,在此過程中,環(huán)氧樹脂還需要經(jīng)過固化,即將軟化的環(huán)氧樹脂變成凝固狀態(tài)(固化溫度在175°C左右),于是環(huán)氧樹脂將產(chǎn)生一種向二極管本體內(nèi)的機械應(yīng)力,此應(yīng)力比較大,容易將二極管芯片之鈍化層擠壓碎,甚至擠碎二極管芯片,從而導(dǎo)致器件失效。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種在封裝溫度下,能可靠地保護(hù)芯片及其鈍化層,進(jìn)而解決封 裝隱患,且制作方法簡單的鈍化保護(hù)二極管芯片及其加工方法。本發(fā)明的技術(shù)方案是所述芯片上部邊緣處設(shè)有鈍化保護(hù)層,所述鈍化保護(hù)層外還設(shè)有一層耐熱、絕緣和具有彈性的緩沖保護(hù)層。本發(fā)明的加工方法是,以正面開口溝槽的晶片為原料;然后,在所述溝槽的邊緣采用光刻工藝設(shè)置一層具有脆性的鈍化保護(hù)層,實現(xiàn)PN結(jié)的鈍化,接著,按以下步驟加工1)、涂布;在晶片表面均勻涂布液態(tài)的摻有增感劑的聚酰亞胺,確保其滲入所述溝槽;2)、軟烤;將涂布有聚酰亞胺的晶片置入90-120°C環(huán)境中,0. 5-1小時,使涂層凝結(jié);3)、掩膜;按晶片上溝槽規(guī)則制作掩膜板,掩膜板上溝槽處透光;將掩膜板覆蓋于晶片上;4)、光照固化;對覆蓋有掩膜板的晶片進(jìn)行曝光,將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶片表面,經(jīng)光照的涂層固化,未受光照的涂層仍為凝結(jié)狀態(tài);隨即,去除仍為凝結(jié)狀態(tài)的涂層;5)、燒結(jié)涂層;將上步驟加工的晶片置入280-320°C環(huán)境中,2-4小時,使固化的涂層牢固地?zé)Y(jié)于鈍化保護(hù)層表面;6)、裂片;制得。本發(fā)明的二極管芯片,包括兩層鈍化層,內(nèi)層(鈍化保護(hù)層)直接鈍化PN結(jié),外層 (緩沖保護(hù)層)保護(hù)內(nèi)層,外層主要起保護(hù)內(nèi)層和緩沖外界壓力的作用,外層材料具有良好的耐熱性能、可塑性能和絕緣性能,此層材料可以通過光刻工藝制作。本發(fā)明中緩沖保護(hù)層屬于耐熱性好、可塑性好及絕緣性好的材料(如聚酰亞胺等高分子材料),二極管封裝固化溫度一般在175°C左右,必須要求其耐熱性能良好;在封裝過程中,環(huán)氧樹脂由軟化狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楣袒癄顟B(tài)時,會產(chǎn)生一個向芯片內(nèi)的收縮力,通常叫做機械應(yīng)力,此機械應(yīng)力如果直接作用于芯片上玻璃質(zhì)脆性的鈍化層,極易導(dǎo)致芯片失效,所以要求外層材料的可塑性能、彈性要好;為了避免封裝過程中二極管兩極導(dǎo)通,所以要求外層材料的絕緣性能要好。本發(fā)明解決了上述因封裝產(chǎn)生之機械應(yīng)力導(dǎo)致芯片鈍化層破碎的問題,在現(xiàn)有的鈍化層外面再增加一層緩沖層,此緩沖層可以緩沖封裝產(chǎn)生的機械應(yīng)力,而保護(hù)鈍化層和芯片,有效的克服了二極管因封裝機械應(yīng)力導(dǎo)致的失效。本發(fā)明通過涂布、軟烤、掩膜、光照固化、燒結(jié)涂層等步驟,實現(xiàn)了外層與內(nèi)層的牢固結(jié)合,從而能有效抵御在封裝工序中,環(huán)氧樹脂固化時,作用于芯片及鈍化層上的機械應(yīng)力。


圖1本發(fā)明中帶有鈍化保護(hù)層晶片的結(jié)構(gòu)示意2本發(fā)明方法中步驟1)的狀態(tài)參考3是本發(fā)明方法中步驟3)的狀態(tài)參考4是本發(fā)明方法中步驟3)中去除仍為凝結(jié)狀態(tài)涂層后晶片的狀態(tài)參考5是本發(fā)明方法中步驟5)實施后,晶片的狀態(tài)參考6是本發(fā)明方法所制得的芯片的結(jié)構(gòu)示意中1是鈍化保護(hù)層,2是芯片,20是晶片,3是溝槽,4是聚酰亞胺涂層,5是掩膜板,41是固化的涂層,42是緩沖保護(hù)層。
具體實施例方式本發(fā)明如圖6所示,所述芯片2上部邊緣處設(shè)有鈍化保護(hù)層1,所述鈍化保護(hù)層1 外還設(shè)有一層耐熱、絕緣和具有彈性的緩沖保護(hù)層42。本發(fā)明的加工方法如圖1-6所示,以正面開口溝槽3的晶片20為原料;然后,在所述溝槽3的邊緣采用光刻工藝設(shè)置一層具有脆性的鈍化保護(hù)層1,實現(xiàn)PN結(jié)的鈍化,接著, 按以下步驟加工1)、涂布;在溝槽3上緣帶有鈍化保護(hù)層1的晶片20表面均勻涂布液態(tài)的摻有增感劑的聚酰亞胺,確保其滲入所述溝槽3,形成聚酰亞胺涂層4 ;2)、軟烤;將涂布有聚酰亞胺涂層4的晶片20置入90_120°C環(huán)境中,0. 5-1小時,
使聚酰亞胺涂層4凝結(jié);3)、掩膜;按晶片20上溝槽的規(guī)則制作掩膜板5,掩膜板5上對應(yīng)溝槽3處透光; 將掩膜板5覆蓋于晶片20上;4)、光照固化;對覆蓋有掩膜板5的晶片20進(jìn)行曝光,將掩膜板5上的圖形轉(zhuǎn)移到晶片20表面,經(jīng)光照的聚酰亞胺涂層4固化,形成固化的涂層41未受光照的聚酰亞胺涂層 4仍為凝結(jié)狀態(tài);隨即,去除仍為凝結(jié)狀態(tài)的涂層材料,即通過顯影劑的化學(xué)原理在顯定影機上把未感光的部分涂層溶解掉;5)、燒結(jié)涂層;將上步驟加工的晶片20置入280-320°C環(huán)境中,2-4小時,使固化的涂層41牢固地?zé)Y(jié)鈍化保護(hù)層表面,燒結(jié)過程中,固化的涂層41體積縮?。?)、裂片;制得單粒上部邊緣處帶有雙層保護(hù)層的芯片2。制作時,鈍化層1可采用光刻工藝將二極管芯片的PN結(jié)作鈍化,其鈍化材質(zhì)通常采用玻璃等鈍化。保護(hù)層42也可采用光刻方式制作,制作步驟如圖1-6所示。下面以聚酰亞胺為原材料介紹其實施方法。
原材料選用液態(tài)聚酰亞胺,制作之前需準(zhǔn)備設(shè)計所需圖案的掩膜板,然后在聚酰亞胺里面加入適量的增:::,并攪拌均勻,此時的聚酰亞胺與增感劑的混合物具有感光性,用旋轉(zhuǎn)式方法將此混合物均勻涂布于已經(jīng)做好PN結(jié)鈍化層的晶片表面,軟烤(溫度‘ -120°C )后曝光,將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶片表面;接著顯影,其目的是將不需要的聚酰亞胺薄層去除;再燒結(jié),燒結(jié)溫度約為30(TC左右,經(jīng)過此步驟以后,聚酰亞胺薄膜和鈍化層牢固的結(jié)合在一起,最后按照晶片表面的溝槽線將晶片切割成一個一個的小芯片(即圖 6所示),按照這樣的步驟方法制作出的芯片即雙層鈍化保護(hù)二極管芯片。
權(quán)利要求
1.一種鈍化保護(hù)二極管芯片,所述芯片上部邊緣處設(shè)有鈍化保護(hù)層,其特征在于,所述鈍化保護(hù)層外還設(shè)有一層耐熱、絕緣和具有彈性的緩沖保護(hù)層。
2.—種權(quán)利要求1所述一種鈍化保護(hù)二極管芯片的加工方法,以正面開口溝槽的晶片為原料;然后,在所述溝槽的邊緣采用光刻工藝設(shè)置一層具有脆性的鈍化保護(hù)層,實現(xiàn)PN 結(jié)的鈍化,其特征在于,接著,按以下步驟加工1)、涂布;在晶片表面均勻涂布液態(tài)的摻有增感劑的聚酰亞胺,確保其滲入所述溝槽;2)、軟烤;將涂布有聚酰亞胺的晶片置入90-120°C環(huán)境中,0.5-1小時,使涂層凝結(jié);3)、掩膜;按晶片上溝槽規(guī)則制作掩膜板,掩膜板上溝槽處透光;將掩膜板覆蓋于晶片上;4)、光照固化;對覆蓋有掩膜板的晶片進(jìn)行曝光,將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶片表面, 經(jīng)光照的涂層固化,未受光照的涂層仍為凝結(jié)狀態(tài);隨即,去除仍為凝結(jié)狀態(tài)的涂層;5)、燒結(jié)涂層;將上步驟加工的晶片置入280-320°C環(huán)境中,2-4小時,使固化的涂層牢固地?zé)Y(jié)于鈍化保護(hù)層表面;6)、裂片;制得。
全文摘要
一種鈍化保護(hù)二極管芯片及其加工方法。涉及一種具有鈍化保護(hù)結(jié)構(gòu)的二極管芯片及其加工方法。在封裝溫度下,能可靠地保護(hù)芯片及其鈍化層,進(jìn)而解決封裝隱患,且制作方法簡單。芯片上部邊緣處設(shè)有鈍化保護(hù)層,鈍化保護(hù)層外還設(shè)有一層耐熱、絕緣和具有彈性的緩沖保護(hù)層。本發(fā)明的加工方法包括1)涂布;2)軟烤;3)掩膜;4)光照固化;5)燒結(jié)涂層;6)裂片;制得。本發(fā)明的二極管芯片,包括兩層鈍化層,內(nèi)層(鈍化保護(hù)層)直接鈍化PN結(jié),外層(緩沖保護(hù)層)保護(hù)內(nèi)層,外層主要起保護(hù)內(nèi)層和緩沖外界壓力的作用,外層材料具有良好的耐熱性能、可塑性能和絕緣性能。本發(fā)明能有效抵御在封裝工序中,環(huán)氧樹脂固化時的機械應(yīng)力。
文檔編號H01L23/29GK102244046SQ20101016846
公開日2011年11月16日 申請日期2010年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月11日
發(fā)明者裘立強, 魏興政 申請人:揚州杰利半導(dǎo)體有限公司
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