專利名稱：一種電磁波反射方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子體領(lǐng)域和無線電領(lǐng)域，特別涉及一種電磁波反射方法。
背景技術(shù)：
以前傳統(tǒng)的反射電波材料都是金屬體，用金屬材料制作的電磁波反射裝置，其特 點(diǎn)是產(chǎn)品一經(jīng)制成，則反射特性就不可改變。反射頻率和透射頻率都被固定，因此當(dāng)需要改 變反射頻率段的時(shí)候必須相應(yīng)更換金屬反射體。利用等離子體對(duì)電磁波反射，以前未見報(bào) 道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，為了克服傳統(tǒng)只能利用固體形狀的金屬體做電磁波反射面， 而金屬面一經(jīng)確定；反射的電磁波頻率便固定不變的缺點(diǎn)，從而提出一種電磁波反射方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種電磁波反射方法，其特征在于，該方法利 用等離子體技術(shù)產(chǎn)生等離子體片，所述的等離子體片作為電磁波的反射面，實(shí)現(xiàn)電磁波反 射；所述的等離子體密度通過調(diào)整外界激勵(lì)電源的電壓進(jìn)行調(diào)節(jié)，滿足針對(duì)不同頻率電磁 波的反射要求；所述的等離子片形狀通過外界提供的軸向磁場(chǎng)調(diào)節(jié)，形成曲面或平面的等 離子體片。 我們發(fā)明了一種新的反射電磁波的方法，即用上述方法產(chǎn)生的等離子體片作為反 射面，一定頻率的電磁波照射到該平面上，象照射到金屬面上一樣產(chǎn)生反射，同時(shí)也符合 "入射角等于反射角"的規(guī)律。同時(shí)，對(duì)其它頻率的電磁波具有透射作用。用等離子體片反 射電磁波，其反射性質(zhì)會(huì)隨著等離子體的密度不同而改變。即通過改變等離子體的密度，就 可以改變反射的頻率。而且等離子體片可以隨時(shí)消失(關(guān)閉)，取消對(duì)電磁波的反射作用。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，利用非固體形態(tài)的等離子體面做反射面的方法可以靈活改變 反射面的形狀以及可以選擇性地反射不同頻率的電磁波；同時(shí)等離子體片可以瞬間打開或 關(guān)閉，容易控制反射面對(duì)電磁波反射的作用時(shí)間，更加方便了對(duì)不同頻率電磁波反射調(diào)節(jié) 的靈活性，同時(shí)節(jié)約了由于需要反射不同頻率的電磁波對(duì)金屬反射面的大量需要和浪費(fèi)。


圖1是等離子體面反射波的發(fā)生裝置的電路示意圖；
圖2是等離子體面反射波的發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說明。 本發(fā)明為了達(dá)到用等離子體片反射電磁波的目的，提出了一種電磁波反射裝置， 將電子束源的陰極2與陽極1分別置于真空室3內(nèi)的兩端，產(chǎn)生等離子體的陰極2采用線 狀空心陰極，陽極1采用平板形狀，在合適的氣壓和工作氣體條件下，在電極上加上一定的高電壓而產(chǎn)生線狀的電子束，高電壓使陰極和陽極面之間激發(fā)氣體放電，另外在真空室外 加上磁場(chǎng)產(chǎn)生設(shè)備4，使產(chǎn)生軸向磁場(chǎng)，軸向磁場(chǎng)使電子回旋產(chǎn)生二次電離，形成等離子體 片，即平面形狀的等離子體。 隨等離子體的密度不同，該等離子體片5對(duì)不同頻率的電磁波具有反射作用。
電磁波反射裝置方案腔體材料采用有機(jī)玻璃，電極采用黃銅，磁場(chǎng)線圈的電源采 用高壓直流電源，等離子體的激勵(lì)電源采用高壓脈沖激勵(lì)電源。 一個(gè)發(fā)射天線和兩個(gè)接收 天線均采用角錐喇叭天線。
工作步驟如下 1.打開激勵(lì)電源和磁場(chǎng)電源，打開無線電發(fā)射機(jī)； 2.將激勵(lì)電源電壓升至要求的電壓，產(chǎn)生等離子體片，此時(shí)利用兩個(gè)接收天線借 助示波器觀察反射波和透射波。 3.當(dāng)激勵(lì)電源的電壓不變時(shí)(此時(shí)等離子體的密度不變)，調(diào)節(jié)發(fā)射頻率，可觀察 到，一定頻率的電磁波會(huì)發(fā)生反射，而其它頻率的電磁波會(huì)透射過去。 4.改變激勵(lì)電源的電壓(即改變了等離子體的密度)，重新調(diào)節(jié)發(fā)射頻率，可觀察 到，反射的電磁波頻率和透射的電磁波頻率都發(fā)生了改變。 最后所應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制。盡管參 照實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方 案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明 的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求
一種電磁波反射方法，其特征在于，該方法利用等離子體技術(shù)產(chǎn)生等離子體片，所述的等離子體片作為電磁波的反射面，實(shí)現(xiàn)電磁波反射。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波反射方法，其特征在于，所述的等離子體片的密度通 過調(diào)整外界激勵(lì)電場(chǎng)的電壓進(jìn)行調(diào)節(jié)，滿足針對(duì)不同頻率電磁波的反射要求。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波反射方法，其特征在于，所述的等離子片的形狀可以 通過軸向磁場(chǎng)調(diào)節(jié)，以形成曲面或平面。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電磁波反射方法，其特征在于，該方法沒有利用傳統(tǒng)的固體金屬面做反射電磁波面的局限，而是利用等離子體技術(shù)產(chǎn)生等離子體片，所述的等離子體片作為電磁波的反射面，實(shí)現(xiàn)電磁波反射。所述的等離子體密度通過調(diào)整外界激勵(lì)電源的電壓進(jìn)行調(diào)節(jié)，滿足針對(duì)不同頻率電磁波的反射要求；所述的等離子片形狀通過外界提供的軸向磁場(chǎng)調(diào)節(jié)，形成曲面或平面的等離子體片；利用非固體形態(tài)的等離子體面做反射面的方法可以靈活改變反射面的形狀以及可以選擇性地反射不同頻率的電磁波。
文檔編號(hào)H01Q19/10GK101714699SQ20091023846
公開日2010年5月26日 申請(qǐng)日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月20日
發(fā)明者丁亮, 侯印鳴, 吳逢時(shí), 孫海龍, 孫簡(jiǎn), 徐躍民, 朱翔, 程芝峰, 端木剛, 鑒福升 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院空間科學(xué)與應(yīng)用研究中心