專(zhuān)利名稱(chēng)：激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于加工電阻基板的激光調(diào)阻機(jī)，特別涉及對(duì)激光調(diào)阻機(jī)換片機(jī)構(gòu)的
改進(jìn)。
背景技術(shù)：
目前，世界上主要的激光調(diào)阻機(jī)生產(chǎn)廠家有美國(guó)的GSI、日本的NEC、中國(guó)的長(zhǎng)春 光機(jī)所LTR420C和臺(tái)灣雷科。作為大規(guī)模量產(chǎn)的全自動(dòng)生產(chǎn)設(shè)備，其生產(chǎn)效率是決定其性 能的關(guān)鍵指標(biāo)，而生產(chǎn)效率由以下兩部分決定電阻光刻時(shí)間和自動(dòng)換片時(shí)間。其中，電阻 光刻時(shí)間是指對(duì)一片電阻陶瓷基片上的所有電阻進(jìn)行激光修調(diào)所占用的時(shí)間；自動(dòng)換片時(shí) 間是指一片電阻光刻結(jié)束后，機(jī)械手將其從光刻平臺(tái)上取下，并將另外一片待光刻的電阻 基片放置在光刻平臺(tái)上的過(guò)程所占用的時(shí)間。由于電阻光刻時(shí)間已接近極限，因此縮短自 動(dòng)換片時(shí)間是提高設(shè)備生產(chǎn)效率的關(guān)鍵。
目前，激光調(diào)阻機(jī)廣泛采用的換片機(jī)構(gòu)為在機(jī)臺(tái)上設(shè)置兩個(gè)光刻平臺(tái)，每個(gè)光刻 平臺(tái)分別采用兩個(gè)運(yùn)動(dòng)方向互為垂直的平移滑臺(tái)驅(qū)動(dòng)作橫向和縱向運(yùn)動(dòng)，每個(gè)光刻平臺(tái)上 只具有一個(gè)電阻基片固定位置；通過(guò)兩個(gè)升降氣缸分別設(shè)置在沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌滑動(dòng)的 滑塊上的兩個(gè)機(jī)械手，只作縱向平移運(yùn)動(dòng)和上下運(yùn)動(dòng)。
此種機(jī)構(gòu)的工作過(guò)程為 其中一個(gè)光刻平臺(tái)載著電阻基片，在激光聚焦透鏡下的光刻區(qū)域進(jìn)行光刻，同時(shí)， 兩個(gè)機(jī)械手中的一個(gè)作為放片機(jī)械手將待刻電阻基片放置在另一個(gè)光刻平臺(tái)上等待光 刻； 當(dāng)前一個(gè)光刻平臺(tái)上的電阻基片光刻結(jié)束后，該光刻平臺(tái)在其雙向平移滑臺(tái)驅(qū)動(dòng) 下離開(kāi)光刻區(qū)域到達(dá)另一個(gè)作為取片的機(jī)械手下方，將電阻基片取走，同時(shí)，另一個(gè)光刻平 臺(tái)進(jìn)入光刻區(qū)域開(kāi)始光刻； 取片機(jī)械手將光刻完畢的電阻基片放置在收料倉(cāng)中，然后，放片機(jī)械手從供料倉(cāng)
中取一個(gè)待刻的電阻基片，在滑塊的驅(qū)動(dòng)下移至前一個(gè)光刻平臺(tái)上方將電阻基片放置在該
光刻平臺(tái)上等待光刻。按上述過(guò)程反復(fù)進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)電阻基片的自動(dòng)換片。 盡管這種換片機(jī)構(gòu)可以高效率地進(jìn)行換片，但其存在以下問(wèn)題 1.共需要兩套光刻平臺(tái)和四套平移滑臺(tái)，成本昂貴、占用空間大。 2.每套直線精密驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)都包括伺服電機(jī)、編碼器、驅(qū)動(dòng)器、導(dǎo)軌絲杠，結(jié)構(gòu)復(fù)雜、
維護(hù)困難。 3.兩個(gè)光刻平臺(tái)的高度位置難以調(diào)整成一致，導(dǎo)致激光焦點(diǎn)偏差，影響光刻質(zhì)量 的一致性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種改進(jìn)的激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，以克服目前激光調(diào) 阻機(jī)換片機(jī)構(gòu)存在的上述缺陷。
本發(fā)明激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，包括通過(guò)兩個(gè)升降氣缸分別設(shè)置在沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌滑動(dòng)的滑塊上的兩個(gè)機(jī)械手和設(shè)置在機(jī)臺(tái)上的光刻平臺(tái)，特點(diǎn)在于，所述的兩個(gè)機(jī)械手通過(guò)兩個(gè)運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述滑塊運(yùn)動(dòng)方向的平推氣缸分別連接在所述的兩個(gè)升降氣缸的活塞下端上；所述的光刻平臺(tái)通過(guò)一運(yùn)動(dòng)方向與所述滑塊運(yùn)動(dòng)方向相平行的平移滑臺(tái)設(shè)置在機(jī)臺(tái)上，光刻平臺(tái)上沿其運(yùn)動(dòng)方向設(shè)有兩個(gè)電阻基片放置位。
本發(fā)明與現(xiàn)有換片機(jī)構(gòu)的不同之處是 1.取消了原有的四套直線精密平移滑臺(tái)機(jī)構(gòu)和兩套光刻平臺(tái)，只需要一個(gè)縱向平移滑臺(tái)機(jī)構(gòu)和一個(gè)光刻平臺(tái)，簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)， 2.原有結(jié)構(gòu)中，兩個(gè)光刻平臺(tái)上各自放置一個(gè)電阻基片，而本發(fā)明的光刻平臺(tái)上同時(shí)放置兩個(gè)電阻基片，保證了激光焦點(diǎn)位置的一致性。 3.在原有機(jī)械手升降氣缸的下端，增加了一個(gè)平推氣缸，以解決在換片過(guò)程中躲開(kāi)激光透鏡的問(wèn)題。 本發(fā)明自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，只用一個(gè)光刻平臺(tái)和一套縱向平移滑臺(tái)，取代目前普遍采用的四套平移滑臺(tái)機(jī)構(gòu)和兩個(gè)光刻平臺(tái)的換片結(jié)構(gòu)，降低了成本，減小了設(shè)備體積，更便于設(shè)備維護(hù)、提高了光刻質(zhì)量，同時(shí)也保持了原有的換片效率。


圖1是本發(fā)明激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)的主視 圖2是本發(fā)明激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)的俯視 圖3是本發(fā)明激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖給出的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。 參照?qǐng)D1至圖3，一種激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，包括通過(guò)兩個(gè)升降氣缸3分別設(shè)置在沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌1滑動(dòng)的滑塊2上的兩個(gè)機(jī)械手4和設(shè)置在機(jī)臺(tái)上的光刻平臺(tái)5，所述的兩個(gè)機(jī)械手4通過(guò)兩個(gè)運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述滑塊2運(yùn)動(dòng)方向的平推氣缸6分別連接在所述的兩個(gè)升降氣缸3的活塞下端上；所述的光刻平臺(tái)5通過(guò)一運(yùn)動(dòng)方向與所述滑塊2運(yùn)動(dòng)方向相平行的平移滑臺(tái)7設(shè)置在機(jī)臺(tái)上，光刻平臺(tái)5上沿其運(yùn)動(dòng)方向設(shè)有兩個(gè)電阻基片放置位A和B。 該換片機(jī)構(gòu)的工作過(guò)程是 當(dāng)光刻平臺(tái)5將電阻基片放置位A移至激光聚焦透鏡8下的光刻區(qū)域進(jìn)行光刻時(shí)，兩個(gè)機(jī)械手中的一個(gè)作為放片機(jī)械手通過(guò)升降氣缸3和平推氣缸6將待刻電阻基片放置在電阻基片放置位B上等待光刻； 當(dāng)放置位A上的電阻基片光刻結(jié)束后，光刻平臺(tái)5在平移滑臺(tái)驅(qū)動(dòng)下使其離開(kāi)光刻區(qū)域，而使電阻基片放置位B處在光刻區(qū)域并開(kāi)始進(jìn)行光刻； 沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌1滑動(dòng)的滑塊2將機(jī)械手4移動(dòng)到電阻基片放置位A上方，兩個(gè)機(jī)械手中的一個(gè)作為取片機(jī)械手通過(guò)升降氣缸3和平推氣缸6拾取電阻基片放置位A的電阻基片； 機(jī)架上部水平導(dǎo)軌1滑動(dòng)的滑塊2將機(jī)械手4移動(dòng)到收料倉(cāng)位置，機(jī)械手通過(guò)升降氣缸3將電阻基片放置在收料倉(cāng)中； 機(jī)架上部水平導(dǎo)軌1滑動(dòng)的滑塊2將機(jī)械手4移動(dòng)到供料倉(cāng)位置，兩個(gè)機(jī)械手中
的一個(gè)作為放片機(jī)械手通過(guò)升降氣缸3從供料倉(cāng)中拾取一個(gè)待刻的電阻基片； 當(dāng)放置位B上的電阻基片光刻結(jié)束后，光刻平臺(tái)5在平移滑臺(tái)驅(qū)動(dòng)下使其離開(kāi)光
刻區(qū)域，而使電阻基片放置位A處在光刻區(qū)域并開(kāi)始進(jìn)行光刻； 按上述過(guò)程反復(fù)進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)電阻基片自動(dòng)換片。
權(quán)利要求
一種激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，包括通過(guò)兩個(gè)升降氣缸(3)分別設(shè)置在沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌(1)滑動(dòng)的滑塊(2)上的兩個(gè)機(jī)械手(4)和設(shè)置在機(jī)臺(tái)上的光刻平臺(tái)(5)，其特征在于所述的兩個(gè)機(jī)械手(4)通過(guò)兩個(gè)運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述滑塊(2)運(yùn)動(dòng)方向的平推氣缸(6)分別連接在所述的兩個(gè)升降氣缸(3)的活塞下端上；所述的光刻平臺(tái)(5)通過(guò)一運(yùn)動(dòng)方向與所述滑塊(2)運(yùn)動(dòng)方向相平行的平移滑臺(tái)(7)設(shè)置在機(jī)臺(tái)上，光刻平臺(tái)(5)上沿其運(yùn)動(dòng)方向設(shè)有兩個(gè)電阻基片放置位(A和B)。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于加工電阻基板的激光調(diào)阻機(jī)，特別涉及一種激光調(diào)阻機(jī)自動(dòng)換片機(jī)構(gòu)，包括通過(guò)兩個(gè)升降氣缸分別設(shè)置在沿機(jī)架上部水平導(dǎo)軌滑動(dòng)的滑塊上的兩個(gè)機(jī)械手和設(shè)置在機(jī)臺(tái)上的光刻平臺(tái)，所述的兩個(gè)機(jī)械手通過(guò)兩個(gè)運(yùn)動(dòng)方向垂直于所述滑塊運(yùn)動(dòng)方向的平推氣缸分別連接在所述的兩個(gè)升降氣缸的活塞下端上；所述的光刻平臺(tái)通過(guò)一運(yùn)動(dòng)方向與所述滑塊運(yùn)動(dòng)方向相平行的平移滑臺(tái)設(shè)置在機(jī)臺(tái)上，光刻平臺(tái)上沿其運(yùn)動(dòng)方向設(shè)有兩個(gè)電阻基片放置位。只用一個(gè)光刻平臺(tái)和一套縱向平移滑臺(tái)，取代了目前的四套平移滑臺(tái)機(jī)構(gòu)和兩個(gè)光刻平臺(tái)，降低了成本，減小了設(shè)備體積，更便于設(shè)備維護(hù)、提高了光刻質(zhì)量。
文檔編號(hào)H01C17/242GK101710510SQ200910217809
公開(kāi)日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月4日
發(fā)明者劉立峰, 吳玉斌, 孫繼鳳, 張德龍, 湯建華 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所