專利名稱：高精度硅片臺(tái)及其用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域，涉及一種高精度硅片臺(tái)及其用途。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的硅片臺(tái)結(jié)構(gòu)大多采用接觸式的導(dǎo)軌基座，運(yùn)動(dòng)摩擦阻力較大，發(fā)熱量較高，動(dòng)、靜摩擦系數(shù)很難保持一致，運(yùn)行及反應(yīng)速度較慢，運(yùn)行精度不高，低速情況下還會(huì)出現(xiàn)爬行現(xiàn)象。這種傳統(tǒng)的硅片臺(tái)結(jié)構(gòu)已根本無法滿足硅片處在高速或高加速度下的高精度定位問題，在很大程度上影響了半導(dǎo)體設(shè)備的制造精度，也因此而阻礙了半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種高精度硅片臺(tái)及其用途，可使硅片在工作臺(tái)上同時(shí)具有六個(gè)自由度，實(shí)現(xiàn)硅片在工件臺(tái)上的精確定位，保證硅片的垂向安裝精度為50nm以內(nèi)，水平安裝精度在10nm以內(nèi)，從而大幅度提高半導(dǎo)體設(shè)備的制造精度。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的高精度硅片臺(tái)，其實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)在于，包括自下而上依次連接的氣浮支座、調(diào)平機(jī)構(gòu)、平面電機(jī)、簧片，簧片的上方為一方鏡，方鏡的上表面設(shè)有一用來放置硅片的吸盤；所述的方鏡由至少三個(gè)方鏡支柱支撐，方鏡支柱的底部設(shè)置在所述調(diào)平機(jī)構(gòu)的上表面；所述的氣浮支座與方鏡之間還設(shè)有電渦流傳感器；所述的調(diào)平機(jī)構(gòu)包括至少三個(gè)沿周向均布的調(diào)平執(zhí)行器，所述的方鏡支柱與所述的調(diào)平執(zhí)行器對(duì)應(yīng)設(shè)置；所述的方鏡上分別設(shè)有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板和反射激光束的鏡面。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器在氣浮支座和方鏡之間呈三角形布置，它們可以沿垂向調(diào)節(jié)并操縱方鏡，使其相對(duì)于氣浮支座的Rx、Ry和Z方向運(yùn)動(dòng)。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的三個(gè)電渦流傳感器在硅片臺(tái)上與所述的三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器之間呈相互倒置的三角形布置。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的吸盤與方鏡之間呈真空狀態(tài)，方鏡的中部設(shè)有一圓形凹槽，吸盤通過真空吸附在方鏡的圓形凹槽內(nèi)。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的簧片為葉片狀的柔性彈簧。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的平面電機(jī)包括至少三個(gè)高精度洛侖茲電機(jī)；其中一個(gè)沿X軸方向運(yùn)動(dòng)，另兩個(gè)沿Y軸方向運(yùn)動(dòng)。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述方鏡上的反射鏡面設(shè)置在其前面和左面，用以測(cè)量方鏡在X、Y、Rx、Ry、Rz方向的位置。
上述的高精度硅片臺(tái)，其中，所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板設(shè)置在位于真空吸盤外圍的方鏡上表面。
上述高精度硅片臺(tái)的用途，用于硅片的高精度定位安裝，它包括以下主要環(huán)節(jié)(1)設(shè)置水平和垂向兩個(gè)閉環(huán)控制系統(tǒng)，從結(jié)構(gòu)和環(huán)境上保證了硅片臺(tái)運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定可靠，通過結(jié)構(gòu)、控制和測(cè)量使硅片實(shí)現(xiàn)高精度定位；其中，水平閉環(huán)控制系統(tǒng)通過伺服平面電機(jī)控制硅片臺(tái)的X、Y、Rz方向運(yùn)動(dòng)；垂向閉環(huán)控制系統(tǒng)通過調(diào)平執(zhí)行器控制硅片臺(tái)的Z、Rx、Ry方向運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)硅片在硅片臺(tái)上六個(gè)自由度的控制和調(diào)節(jié)；(2)利用設(shè)置在方鏡上X、Y向的反射鏡，為硅片臺(tái)微動(dòng)控制提供測(cè)量基準(zhǔn)；(3)采用電渦流傳感器測(cè)量垂向高度，并用音圈電機(jī)調(diào)平，實(shí)現(xiàn)高精度調(diào)節(jié)。即采用閉環(huán)控制進(jìn)行垂向調(diào)節(jié)，利用高精度的電渦流傳感器采集的信號(hào)通過矩陣進(jìn)行運(yùn)算，由音圈電機(jī)執(zhí)行；(4)采用洛侖茲電機(jī)驅(qū)動(dòng)，提高運(yùn)動(dòng)精度；(5)采用氣浮支座1，使硅片臺(tái)能有效地隔離震動(dòng)和減少摩擦；(6)利用設(shè)置在方鏡上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為硅片在硅片臺(tái)上的精確定位提供基準(zhǔn)。
本發(fā)明高精度硅片臺(tái)及其用途由于采用了上述的技術(shù)方案，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下的優(yōu)點(diǎn)和積極效果1、由于本發(fā)明運(yùn)用氣浮支座作為支撐，運(yùn)動(dòng)摩擦阻力極小，發(fā)熱量極低；動(dòng)、靜摩擦系數(shù)幾乎一致，運(yùn)行及反應(yīng)速度快；運(yùn)行精度高，低速情況下無爬行現(xiàn)象，可確保硅片在高速、高加速度下的高精度定位問題。
2、本發(fā)明由于采用電渦流傳感器作為硅片臺(tái)調(diào)平的測(cè)量傳感器，在不影響精度的前提下安裝和更換均容易。
3、由于本發(fā)明驅(qū)動(dòng)電機(jī)經(jīng)由柔性簧片機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)方鏡，因而，可有效地減少電機(jī)處于加速或減速情況下對(duì)方鏡的所造成的沖擊，確保運(yùn)行精度。
4、由于本發(fā)明的吸盤是通過真空吸附在方鏡上，因此，拆卸非常方便。
5、由于本發(fā)明采用洛侖茲電機(jī)驅(qū)動(dòng)，可進(jìn)一步提高硅片臺(tái)的運(yùn)動(dòng)精度。
6、由于本發(fā)明方鏡上設(shè)置的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板為其精確定位提供了基準(zhǔn)，設(shè)置的反射鏡面，為硅片臺(tái)的旋轉(zhuǎn)提供測(cè)量基準(zhǔn)。
7、由于本發(fā)明控制了硅片在硅片臺(tái)上高精度定位安裝的幾個(gè)主要環(huán)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)了硅片在硅片臺(tái)上的精確定位，使硅片的垂向精度控制在為50nm以內(nèi)，水平精度控制在10nm以內(nèi)。因此，大大提高了半導(dǎo)體設(shè)備的制造精度，在很大程度上促進(jìn)我國(guó)了半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展。


通過以下對(duì)本發(fā)明高精度硅片臺(tái)及其用途的一實(shí)施例結(jié)合其附圖的描述，可以進(jìn)一步理解其發(fā)明的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點(diǎn)。其中，附圖為圖1為本發(fā)明高精度硅片臺(tái)的整體剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明高精度硅片臺(tái)的垂向伺服環(huán)。
附圖中1-氣浮支座；2-調(diào)平機(jī)構(gòu)；21-調(diào)平執(zhí)行器；3-平面電機(jī)；4-簧片；5-方鏡；6-吸盤；7-方鏡立柱；8-電渦流傳感器；9-對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板；10-反射鏡面。
具體實(shí)施例方式
如圖1、2所示的高精度硅片臺(tái)，包括自下而上依次連接的氣浮支座1、調(diào)平機(jī)構(gòu)2、平面電機(jī)3、簧片4，簧片4的上方為一方鏡5，方鏡5的上表面設(shè)有一用來放置硅片的吸盤6。
本發(fā)明運(yùn)用雙剛度氣浮支座1作為基座，用其隔離機(jī)架振動(dòng)，并降低運(yùn)動(dòng)摩擦，消除基座平臺(tái)的制造誤差，保證掃描運(yùn)動(dòng)的速度穩(wěn)定性。此外，還可防止加速過程的傾覆力矩造成的微量位移對(duì)氣浮導(dǎo)軌造成的剪切壓力。以克服硅片在高速、高加速度下的高精度定位問題。氣浮支座1的特點(diǎn)是運(yùn)動(dòng)摩擦阻力極小，發(fā)熱量極低；動(dòng)、靜摩擦系數(shù)幾乎一致，運(yùn)行及反應(yīng)速度快；運(yùn)行精度高，低速無爬行。
本發(fā)明的調(diào)平機(jī)構(gòu)2包括至少三個(gè)沿周向均布的調(diào)平執(zhí)行器21，三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器21在氣浮支座1和方鏡5之間沿垂向調(diào)節(jié)并操縱方鏡5，相對(duì)于氣浮支座1的Rx、Ry和Z方向呈三角形布置。
方鏡5由至少三個(gè)方鏡支柱7支撐，方鏡支柱7的底部設(shè)置在調(diào)平機(jī)構(gòu)2的上表面；本實(shí)施例中，調(diào)平機(jī)構(gòu)2與方鏡5之間對(duì)應(yīng)設(shè)有三個(gè)方鏡支柱7，方鏡支柱7與調(diào)平執(zhí)行器21對(duì)應(yīng)設(shè)置；方鏡5通過方鏡支柱7傳遞運(yùn)動(dòng)，它也是一個(gè)柔生塊，可以提供緩沖，防止硅片臺(tái)在失控時(shí)損壞方鏡5。
本發(fā)明還包括作為硅片臺(tái)調(diào)平的測(cè)量傳感器-設(shè)置在氣浮支座與方鏡之間的電渦流傳感器8，用電渦流傳感器8作為硅片臺(tái)調(diào)平的測(cè)量傳感器，在不影響精度的前提下安裝和更換容易。三個(gè)電渦流傳感器8在硅片臺(tái)上與三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器21之間呈相互倒置的三角形布置。
本發(fā)明用來放置硅片的吸盤6由Zerodur材料制成，吸盤6與方鏡5之間呈真空狀態(tài)，方鏡5的中部設(shè)有一圓形凹槽，吸盤6通過真空吸附在方鏡5的圓形凹槽內(nèi)，使用時(shí)可方便地從方鏡5上取下。
由zerodur材料制成的方鏡5設(shè)置在硅片臺(tái)的上表面，主要是支撐硅片和提供精確的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。方鏡5上分別設(shè)有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板9和反射激光束的鏡面10。反射激光束的鏡面10分別設(shè)置在方鏡5的左面和后面，可以測(cè)量方鏡5的X、Y、Rx、Ry、Rz的位置。
平面電機(jī)3包括至少三個(gè)高精度洛侖茲電機(jī)；其中一個(gè)沿X軸方向運(yùn)動(dòng)，另兩個(gè)沿Y軸方向運(yùn)動(dòng)。設(shè)置在平面電機(jī)3與方鏡5之間的簧片4為葉片狀的柔性彈簧。平面電機(jī)3經(jīng)由柔性簧片4機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)方鏡，因而，可有效地減少平面電機(jī)3處在加速或減速情況下對(duì)方鏡5所造成的沖擊，確保硅片臺(tái)的運(yùn)行精度。
設(shè)置在位于真空吸盤6外圍的方鏡5上表面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板9，為硅片臺(tái)的精確定位提供了定位基準(zhǔn)；設(shè)置在方鏡5的前面和左面的反射鏡面10，用以測(cè)量方鏡5的所在位置，同時(shí)，也為硅片臺(tái)的旋轉(zhuǎn)提供了測(cè)量基準(zhǔn)。
上述結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)硅片在工件臺(tái)的精確定位。保證硅片的垂向精度為50nm以內(nèi)，水平精度在10nm以內(nèi)。
其作用機(jī)理大致如下由金屬圓盤構(gòu)成的氣浮支座1“漂浮”在大理石平臺(tái)上，通過雙向氣浮軸承使得大理石和氣浮支座1之間有一個(gè)恒定的距離，也為調(diào)平機(jī)構(gòu)2、方鏡5提供了底座，保證了整個(gè)硅片臺(tái)整體在水平方向運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定性。
設(shè)置在氣浮支座1和方鏡5之間的三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器21采用音圈電機(jī)控制，沿垂向調(diào)節(jié)并通過方鏡支柱7操縱方鏡5，相對(duì)于氣浮支座1的Rx，Ry和Z方向(高度和傾斜)呈三角形布置。三個(gè)電渦流傳感器8測(cè)量氣浮支座1和方鏡5之間的距離變化量。利用這套調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)的調(diào)節(jié)。
平面電機(jī)3由三個(gè)小的高精度的小范圍運(yùn)動(dòng)的洛侖茲電機(jī)組成。其中一個(gè)沿X軸運(yùn)動(dòng)，另兩個(gè)沿Y軸運(yùn)動(dòng)(Y1，Y2)。組合在一起就可以在小范圍內(nèi)沿X，Y和Rz工作。馬達(dá)的磁鐵部分固定在硅片臺(tái)上，線圈固定在長(zhǎng)行程電機(jī)動(dòng)子上，可實(shí)現(xiàn)水平精確定位。
簧片4是一個(gè)葉片狀彈簧，利用該簧片4實(shí)現(xiàn)平面電機(jī)3和調(diào)平機(jī)構(gòu)2之間柔性連接，為調(diào)平機(jī)構(gòu)2提供阻尼，從而提高硅片臺(tái)的水平精度。
本發(fā)明高精度硅片臺(tái)的用途，用于硅片的高精度定位安裝，它包括以下主要環(huán)節(jié)1、設(shè)置水平和垂向兩個(gè)閉環(huán)控制系統(tǒng)，從結(jié)構(gòu)和環(huán)境上保證了硅片臺(tái)運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定可靠，通過結(jié)構(gòu)、控制和測(cè)量等幾個(gè)方面實(shí)現(xiàn)硅片在硅片臺(tái)上的高精度定位安裝。
其中，水平閉環(huán)控制系統(tǒng)通過伺服平面電機(jī)3控制硅片臺(tái)的X、Y、Rz方向運(yùn)動(dòng)；垂向閉環(huán)控制系統(tǒng)通過調(diào)平執(zhí)行器21控制硅片臺(tái)的Z、Rx、Ry方向運(yùn)動(dòng)；從而實(shí)現(xiàn)硅片在硅片臺(tái)上六個(gè)自由度的控制和調(diào)節(jié)。
本發(fā)明的伺服環(huán)如圖3所示，其基本工作原理是設(shè)置點(diǎn)的位置和伺服位的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，其結(jié)果通過控制器生成伺服力，伺服力再和干擾力進(jìn)行比較，由執(zhí)行器來驅(qū)動(dòng)硅片臺(tái)，使硅片臺(tái)到達(dá)伺服位；到達(dá)的伺服位再循環(huán)和設(shè)置點(diǎn)比較，直到伺服位和設(shè)置點(diǎn)的差值到達(dá)允許的范圍內(nèi)。
硅片臺(tái)在水平向的位置由激光干涉儀檢測(cè)并實(shí)時(shí)反饋到伺服(控制)系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)時(shí)控制，在垂向的位置由三個(gè)電渦流傳感器檢測(cè)并實(shí)時(shí)反饋到伺服(控制)系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)時(shí)控制。硅片臺(tái)的加工和裝配誤差通過前饋補(bǔ)償。
2、利用設(shè)置在方鏡5上X、Y向的反射鏡面10，為硅片臺(tái)微動(dòng)控制提供測(cè)量基準(zhǔn)；把激光照在方鏡5兩側(cè)的鏡面10上，鏡子將激光束反射回來，干涉儀接受到反射光并和原光束進(jìn)行比較，結(jié)果傳輸?shù)浇邮掌?，接收器將光信?hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)然后傳送到干涉儀板。干涉儀板將此信號(hào)和直接從激光頭過來的信號(hào)進(jìn)行比較，以信號(hào)的相位變化來顯示鏡子的運(yùn)動(dòng)，信號(hào)經(jīng)過處理控制洛侖茲電機(jī)，實(shí)現(xiàn)精密控制硅片臺(tái)的位置。
3、采用電渦流傳感器8測(cè)量氣浮支座1與方鏡5之間的垂向高度，并采用音圈電機(jī)控制，實(shí)現(xiàn)高精度調(diào)節(jié)。其中，垂向調(diào)節(jié)采用閉環(huán)控制，利用高精度的電渦流傳感器8采集的信號(hào)通過矩陣運(yùn)算，由音圈電機(jī)執(zhí)行。
4、采用洛侖茲電機(jī)驅(qū)動(dòng)，提高運(yùn)動(dòng)精度。
5、采用氣浮支座1，使硅片臺(tái)有效地隔離震動(dòng)和減少摩擦。
6、利用設(shè)置在方鏡5上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記9為硅片在硅片臺(tái)上的精確定位提供基準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.高精度硅片臺(tái)，其特征在于，包括自下而上依次連接的氣浮支座、調(diào)平機(jī)構(gòu)、平面電機(jī)、簧片，簧片的上方為一方鏡，方鏡的上表面設(shè)有一用來放置硅片的吸盤；所述的方鏡由至少三個(gè)方鏡支柱支撐，方鏡支柱的底部設(shè)置在所述調(diào)平機(jī)構(gòu)的上表面；所述的氣浮支座與方鏡之間還設(shè)有電渦流傳感器；所述的調(diào)平機(jī)構(gòu)包括至少三個(gè)沿周向均布的調(diào)平執(zhí)行器，所述的方鏡支柱與所述的調(diào)平執(zhí)行器對(duì)應(yīng)設(shè)置；所述的方鏡上分別設(shè)有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板和反射激光束的鏡面。
2.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器在氣浮支座和方鏡之間呈三角形布置，它們可以沿垂向調(diào)節(jié)并操縱方鏡，使其相對(duì)于氣浮支座的Rx、Ry和Z方向運(yùn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的三個(gè)電渦流傳感器在硅片臺(tái)上與所述的三個(gè)調(diào)平執(zhí)行器之間呈相互倒置的三角形布置。
4.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的吸盤與方鏡之間呈真空狀態(tài)，方鏡的中部設(shè)有一圓形凹槽，吸盤通過真空吸附在方鏡的圓形凹槽內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的簧片為葉片狀的柔性彈簧。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的平面電機(jī)包括至少三個(gè)高精度洛侖茲電機(jī)；其中一個(gè)沿X軸方向運(yùn)動(dòng)，另兩個(gè)沿Y軸方向運(yùn)動(dòng)。
7.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述方鏡上的反射鏡面設(shè)置在其前面和左面，用以測(cè)量方鏡在X、Y、Rx、Ry、Rz方向的位置。
8.如權(quán)利要求1所述的高精度硅片臺(tái)，其特征在于，所述的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板均布于真空吸盤外圍的方鏡上表面。
9.如權(quán)利要求1所述高精度硅片臺(tái)的用途，其特征在于，用于硅片的高精度定位安裝，它包括以下主要環(huán)節(jié)(1)設(shè)置水平和垂向兩個(gè)閉環(huán)控制系統(tǒng)，從結(jié)構(gòu)和環(huán)境上保證了硅片臺(tái)運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定可靠，通過結(jié)構(gòu)、控制和測(cè)量使硅片實(shí)現(xiàn)高精度定位；其中，水平閉環(huán)控制系統(tǒng)通過伺服平面電機(jī)控制硅片臺(tái)的X、Y、Rz方向運(yùn)動(dòng)；垂向閉環(huán)控制系統(tǒng)通過調(diào)平執(zhí)行器控制硅片臺(tái)的Z、Rx、Ry方向運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)硅片在硅片臺(tái)上六個(gè)自由度的控制和調(diào)節(jié)；(2)利用設(shè)置在方鏡上X、Y向的反射鏡，為硅片臺(tái)微動(dòng)控制提供測(cè)量基準(zhǔn)；(3)采用電渦流傳感器測(cè)量垂向高度，并用音圈電機(jī)調(diào)平，實(shí)現(xiàn)高精度調(diào)節(jié)。即采用閉環(huán)控制進(jìn)行垂向調(diào)節(jié)，利用高精度的電渦流傳感器采集的信號(hào)通過矩陣進(jìn)行運(yùn)算，由音圈電機(jī)執(zhí)行；(4)采用洛侖茲電機(jī)驅(qū)動(dòng)，提高運(yùn)動(dòng)精度；(5)采用氣浮支座，使硅片臺(tái)能有效地隔離震動(dòng)和減少摩擦；(6)利用設(shè)置在方鏡上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為硅片在硅片臺(tái)上的精確定位提供基準(zhǔn)。
全文摘要
本發(fā)明涉及高精度硅片臺(tái)及其用途，硅片臺(tái)包括自下而上依次連接的氣浮支座、調(diào)平機(jī)構(gòu)、平面電機(jī)、簧片，簧片的上方為方鏡，方鏡的上表面設(shè)用來放置硅片的吸盤；方鏡由至少三個(gè)方鏡支柱支撐，方鏡支柱的底部設(shè)置在調(diào)平機(jī)構(gòu)的上表面；氣浮支座與方鏡之間還設(shè)有電渦流傳感器；調(diào)平機(jī)構(gòu)包括至少三個(gè)沿周向均布的調(diào)平執(zhí)行器，方鏡支柱與所述的調(diào)平執(zhí)行器對(duì)應(yīng)設(shè)置；方鏡上設(shè)有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記板和反射激光束的鏡面。硅片臺(tái)用于硅片的高精度定位安裝，依靠水平和垂向兩個(gè)閉環(huán)控制系統(tǒng)，確保了硅片臺(tái)精度的穩(wěn)定可靠，使硅片同時(shí)具有六個(gè)自由度，實(shí)現(xiàn)精確定位，其垂向精度控制在50nm以內(nèi)，水平精度控制在10nm以內(nèi)，從而大幅度提高了半導(dǎo)體設(shè)備的制造精度。
文檔編號(hào)H01L21/68GK1866494SQ20061002759
公開日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2006年6月12日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月12日
發(fā)明者齊芊楓, 李正賢 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司