專利名稱：掩模制作支援方法、掩模版提供方法、掩模版供取系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造用的掩模版(mask blank)，尤其與掩模版的質(zhì)量信息的獲取與管理以及掩模版及掩模的制造有關(guān)。
背景技術(shù)：
作為與本發(fā)明有關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)，有日本國特許公開公報(bào)特開2003-149793號公報(bào)。據(jù)該公報(bào)中所述的技術(shù)，版制造廠按照檢查結(jié)果將版按缺陷類別分類，附加上缺陷信息之后將版提供給掩模制造廠。
此外，特開2003-248299號公報(bào)中公示出用來準(zhǔn)確掌握光掩?；迳系娜毕菸恢玫募夹g(shù)。
在上述現(xiàn)有技術(shù)之中，與掩模版一并提供的缺陷信息雖然給出掩模版表面上存在的缺陷之間的相對位置關(guān)系，但由于并未設(shè)置使掩模版和缺陷信息的位置信息對應(yīng)的基準(zhǔn)，因此，即使有缺陷信息，實(shí)際仍無法準(zhǔn)確掌握掩模版上的何處存在缺陷，從而產(chǎn)生了制圖與顯影處理時(shí)的圖案不良。此外，也沒有使收容在收容箱中的掩模版的方向和缺陷信息的方向一致方面的明確保證。因此，由于實(shí)際的掩模坯件和缺陷信息之間偏差90度、180度、270度而產(chǎn)生了制圖與顯影處理中的圖案不良。這是因?yàn)樵谥圃旃ば蛑袑⑹杖菰诹魍ㄏ洹⑾?、收容箱等容器中的基板取出，對基板?shí)施規(guī)定的處理之后再次收容到其它容器中時(shí)并沒有用來確認(rèn)收容基板的方向在先前的容器中和后面的容器中是否相同的裝置。
多年來，掩模制造廠在制造掩模時(shí)并未因該缺陷信息而發(fā)生什么特別的問題。這是因?yàn)樵诂F(xiàn)用的曝光光源i線(波長365nm)、KrF(波長248nm)等情況下，可允許的缺陷等級，即，缺陷的尺寸及個(gè)數(shù)的允許范圍并不太窄之故。
然而，隨著半導(dǎo)體器件的高集成化，在圖案復(fù)雜化的同時(shí)，圖案的線寬變窄。為了應(yīng)對此情況，曝光光源的波長短波長化，作為光源，ArF(波長193nm)、F2(157nm)等均被研究，其結(jié)果可以預(yù)料、掩模中可允許的缺陷等級將比過去更加嚴(yán)格。
此外，隨著圖案的復(fù)雜化及微小化，用繪圖機(jī)繪制圖案制造掩模時(shí)所需的時(shí)間和成本均飛快增長。因此抑制起因于掩模版的圖案缺陷的必要性日見增高。此種圖案缺陷之中有例如稱之為微粒及針孔的缺陷。
另外，作為對應(yīng)圖案的微細(xì)化的掩模壞料，移相式掩模版的需求日見增長。作為移相式掩模版之一的半色調(diào)型移相式掩模版由半色調(diào)膜、遮光膜、有時(shí)還有抗蝕劑膜形成。半色調(diào)膜具有遮光功能和移相功能，具有與遮光膜不同的作用。
要想提高這些掩模的制造工序的成品率，簡化工序及降低成本，就需要得到構(gòu)成掩模版的各種膜的缺陷信息。
專利文獻(xiàn)1特開2003-149793號公報(bào)專利文獻(xiàn)2特開2003-248299號公報(bào)然而，若采用現(xiàn)有的技術(shù)，由于沒有必要取得各膜的缺陷信息，如上所述只能提供最終出廠狀態(tài)下的掩模版檢查結(jié)果。這是因?yàn)榘嬷圃鞆S在掩模版工序之中，并未對每個(gè)基板的缺陷信息加以管理，無法將掩模壞料的各層膜的缺陷信息提供給掩模制造廠。
因此，在掩模制造廠之中，無法抑制源于掩模版缺陷的繪圖及顯影處理中的圖案不良。此外，通常情況下，圖案不良可用FIB(focusedion beam聚焦離子束)及激光等在圖案修正工序中進(jìn)行修正，但由于圖案復(fù)雜化及微小化的發(fā)展，出現(xiàn)了無法修正的案例。遇到此種案例時(shí)不得不從頭開始制作掩模。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是鑒于此類情況而提出來的，其目的在于提供一種掩模制作支援方法，在從掩模版制作掩模時(shí)，能夠抑制源于掩模胚料的圖案不良。另一目的是提供一種掩模版的提供方法以及掩模版的制造方法，其在從掩模版制作掩模時(shí)附加了能夠抑制源于掩模版的圖案不良的膜信息。此外，又一目的是提供一種復(fù)制掩模的制造方法，其可通過利用膜信息與應(yīng)形成的圖案加以對照，提高制造成品率、抑制制造成本。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)。
(1)提供一種掩模制作支援方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、使用該掩模版制作復(fù)制掩模的方法。將構(gòu)成掩模版的多層膜的膜信息提供給掩模制造廠，其在利用掩模版，將前述膜圖案化，制作復(fù)制掩模時(shí)，用于抑制圖案不良。
具體是在掩模版制造工序之中，付與基板管理號碼，根據(jù)管理號碼對照多種膜的膜信息，或通過根據(jù)多種膜的各膜信息中的同一位置上形成的表面形態(tài)信息(突起或凹陷)對比多種膜的膜信息，保證多種膜的膜信息間的位置信息來防止制作掩模時(shí)的圖案不良。
本發(fā)明的其它方面如下在掩模版制造工序中，利用對每一塊供生產(chǎn)的基板及掩模版付與管理號碼等裝置進(jìn)行個(gè)體識別。
接著，在前述基板上依次層合多種膜的同時(shí)，取得與前述膜有關(guān)的膜信息。
所謂膜信息是指包含膜的表面信息、表面形態(tài)信息、例如膜面的突起形狀、凹陷形狀、及其組合、或光學(xué)特性信息在內(nèi)的膜的狀態(tài)信息，是與膜面的位置信息相關(guān)的信息。而此處所說的光學(xué)特性包括透光率、反射率、吸光率、相位差等。
由于對層合在基板上多層膜中的每一層膜取得的前述膜信息可根據(jù)管理號碼等進(jìn)行個(gè)體識別，各信息之間可彼此比照，因而可保證掩模版?zhèn)€體和取得的多種膜信息之間的關(guān)系的同時(shí)，還可保證多種膜信息間的關(guān)系，此外，還可保證用包含在多種膜信息中的位置信息顯示的掩模版內(nèi)的位置。
而此處也可取得與基板有關(guān)的基板信息。
所謂基板信息是指包括基板的表面信息、表面形態(tài)信息，例如基板面的突起形態(tài)，凹陷形態(tài)及其組合，或光學(xué)特性信息等在內(nèi)的基板的狀態(tài)信息，是與基板面的位置信息相關(guān)的信息。而此處所說的光學(xué)特性包括透光率、反射率、吸光率、相位差等。
若在基板上形成膜的同時(shí)，取得與前述基板有關(guān)的基板信息和與前述膜有關(guān)的膜信息，由于基板信息和膜信息可根據(jù)前述管理號碼等進(jìn)行個(gè)體識別與比照，因而可保證掩模版?zhèn)€體和取得的基板信息及膜信息的關(guān)系的同時(shí)還可保證基板信息和膜信息的關(guān)系，還可保證用包含在基板信息或膜信息中的位置信息顯示的掩模版內(nèi)的位置。
此外，也并非一定要付與基板管理號碼。由于膜的表面形態(tài)是按照該膜下層的膜的表面形態(tài)或基板的表面形態(tài)形成的，因而通過比照多種膜信息或膜信息和包含在基板信息中的形態(tài)信息，即可保證掩模版?zhèn)€體和取得的膜信息或基板信息之間的關(guān)系，保證多種膜信息間的關(guān)系或膜信息與基板信息間的關(guān)系，保證包含在多種膜信息中的位置信息與掩模版內(nèi)的位置之間的關(guān)系，此外還可保證包含在基板信息或膜信息中的位置信息與掩模版內(nèi)的位置之間的關(guān)系。
在本發(fā)明之中，可針對由基板和基板上形成的膜構(gòu)成的掩模版?zhèn)€體，取得由基板信息和膜信息，或多種膜信息構(gòu)成的掩模版信息。此外，包含在掩模版信息中的位置信息可保證掩模壞料內(nèi)的位置。也就是說，本發(fā)明中的掩模版信息具有下述特征是掩模壞料的立體信息，可作為掩模版的內(nèi)部信息，即掩模壞料體內(nèi)信息進(jìn)行識別與取得。
由于不僅可預(yù)先掌握掩模版表面，還可掌握掩模版體內(nèi)的信息，因而可在制作掩模時(shí)防止制作出不良的復(fù)制掩模。
本發(fā)明包括以下構(gòu)成通過使包含在掩模版信息中的位置信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)與掩模版的位置基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)，取得信息。以及通過使包含在前述基板信息中的位置信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)與基板的位置基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)，取得信息。以及通過使包含在前述膜信息中的位置信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)與基板或膜的位置基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)，取得信息。
(2)提供一種掩模制作支援方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、以及使用該掩模版制造復(fù)制掩模的方法，其把表面形態(tài)信息和包含位置信息的掩模版的表面信息提供給掩模制造廠，通過用分別設(shè)置的基準(zhǔn)點(diǎn)使該表面信息和掩模版的表面形態(tài)彼此對應(yīng)，掩模制作者即可確定掩模形成的區(qū)域。
具體而言，在把掩模版收容到掩模版制造的各工序中以及在把掩模版提供給掩模制造廠時(shí)使用的收容箱中時(shí)，由于可通過根據(jù)基板或設(shè)置在基板上的基準(zhǔn)標(biāo)記管理基板的方向性(預(yù)先集中到某一特定方向)，使掩模版中的表面形態(tài)信息和包括位置信息的表面信息與掩模版的表面形態(tài)的位置彼此對應(yīng)，因而可防止掩模制造時(shí)的圖案不良。
此處的膜信息是指通過分別檢查基板上剛剛形成的膜取得的信息。膜信息包括表示膜上的缺陷的位置、大小、種類等的表面形態(tài)信息，以及包括膜材料產(chǎn)生局部性成分變化的位置、范圍、成分變化后的狀態(tài)等表示膜面內(nèi)的成分分布的成分分布信息。此外，將包括掩模版完成后形成表面的最上層的膜的表面形態(tài)信息在內(nèi)的表面信息稱之為掩模版的表面信息。
本發(fā)明的其它側(cè)面如下提供一種掩模制作支援方法、掩模版信息提供方法，掩模版提供方法、掩模版制造方法、使用該掩模版制造復(fù)制掩模的方法，其在給掩模制造廠提供前述掩模版信息時(shí)，由于所提供掩模版信息和與該信息有關(guān)的掩模版?zhèn)€體可彼此對應(yīng)，因而制作者可在該掩模版上選擇出應(yīng)形成規(guī)定的掩模圖案的區(qū)域。
本發(fā)明包括使包含在掩模版信息中的位置信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)與掩模版的位置基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)的構(gòu)成。
本發(fā)明包括在把基板或掩模版收容到掩模版制造工序中以及/或者給掩模制造廠提供掩模版時(shí)使用的收容器具時(shí)，管理基板或掩模版的排列及方向性的構(gòu)成。例如包括把多塊基板或多個(gè)掩模版集中到某個(gè)規(guī)定的方向進(jìn)行收容的方式。這時(shí)也可參照基板、膜或掩模版上設(shè)置的基準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行收容。
例如，在掩模版制造工序中包括準(zhǔn)備基板的工序、取得基板信息的工序(例如基板檢查工序)、在基板上形成膜的工序、取得膜信息的工序(例如膜的檢查工序)、為了把掩模版提供給掩模制造廠，將掩模版收容到收容器具中的工序等等，還包括在上述各工序中進(jìn)行的基板或掩模版的收容作業(yè)之中，為了管理基板或掩模版的方向性而把多塊基板或多個(gè)掩模版集中到某個(gè)規(guī)定方向上進(jìn)行收容的方式。
此處所說的收容器具包括后述的保持具及箱體。此處所說的基準(zhǔn)點(diǎn)可用于識別的標(biāo)記。
作為可在本發(fā)明中使用的標(biāo)記及基準(zhǔn)標(biāo)記可使用后述的稱之為缺口標(biāo)記的付與基板的標(biāo)記及稱之為膜標(biāo)記的付與膜的標(biāo)記。
若按以上方式收容及提供掩模版，由于掩模版是以規(guī)定的排列，集中到規(guī)定的方向性之后提供的，因而掩模的制作者可識別掩模版?zhèn)€體，參照或不參照基準(zhǔn)點(diǎn)，均可掌握掩模版的位置基準(zhǔn)點(diǎn)。
若采用本發(fā)明，由于掩模制作者能以掩模版的位置基準(zhǔn)點(diǎn)為媒介，根據(jù)所提供的掩模版信息掌握打算制作復(fù)制掩模的掩模版的表面信息及內(nèi)部信息，因而能夠選擇出應(yīng)形成規(guī)定的掩模圖案的區(qū)域。也就是說，由于掩模制作者在形成規(guī)定的掩模圖案之前，即可掌握存在產(chǎn)生圖案不良的或損害復(fù)制掩模的所需功能的表面缺陷及內(nèi)部缺陷，因而可提高制造成品率、生產(chǎn)出利潤率高的復(fù)制掩模，或生產(chǎn)出廉價(jià)的復(fù)制掩模。
本發(fā)明最好用于移相膜、例如形成半色調(diào)膜的掩模版或復(fù)制掩模方面。例如作為移相掩模之一的半色調(diào)型移相掩?？稍谕腹庑曰迳闲纬砂肷{(diào)膜、遮光膜。半色調(diào)膜是同時(shí)兼有實(shí)質(zhì)性隔斷曝光光的遮光功能以及使曝光光的移相的移相功能的膜，是具有通過控制透過率和相位差，使復(fù)制在被復(fù)制體上的圖案的圖案邊緣得到強(qiáng)調(diào)的功能的膜。半色調(diào)型移相掩模在透光性基板上形成半色調(diào)膜的圖案，由使未形成半色調(diào)膜，其強(qiáng)度本質(zhì)上有利于曝光的光透過的透光部和使已形成半色調(diào)膜的圖案，其強(qiáng)度本質(zhì)上不利于曝光的光透過的半透光部構(gòu)成，并通過使該透過半透光部的光的相位與透過透光部的光的相位本質(zhì)上處于反轉(zhuǎn)關(guān)系，使穿過半透光部和透光部交界處附近，利用繞射現(xiàn)象彼此進(jìn)入對方區(qū)域的光相互抵消，使交界處上的光強(qiáng)度大體等于0，以提高交界處的對比度。因此，對形成半色調(diào)膜的掩模版要求的質(zhì)量要比只形成遮光膜的掩模版高，還有，當(dāng)通過對掩模版實(shí)施圖案化處理，制作復(fù)制掩模的情況下，很難降低其次品率。
本發(fā)明提供以下技術(shù)。
掩模制作支援方法，其特征在于是一種當(dāng)利用基板上形成至少包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的多層膜的掩模版，通過將前述薄膜圖案化制作復(fù)制掩模時(shí)，為了抑制圖案形成不良，將用于確定圖案形成區(qū)域的膜信息提供給掩模制造廠掩模制作支援方法，膜信息是可從構(gòu)成掩模版的多種膜中獲得的信息。
圖案也可設(shè)定為具有形成相對密集的圖案的密集圖案形成區(qū)域和形成相對稀疏的圖案的稀疏圖案形成區(qū)域。
膜信息也可設(shè)定為其中包含構(gòu)成圖案缺陷起因的突起或凹陷的種類、突起或凹陷的大小，突起或凹陷的位置信息中的某一種。
位置信息也可設(shè)定為以基板上形成的缺口標(biāo)記以及/或者由在基板主表面的周邊形成的薄膜構(gòu)成的膜標(biāo)記為基準(zhǔn)而制作出的。
掩模版信息、基板信息以及膜信息的一部分乃至全部的提供也可設(shè)定為利用通信線路進(jìn)行。
膜也可設(shè)定為包括對曝光光具有移相功能的移相膜在內(nèi)。
此外，本發(fā)明提供掩模版提供方法，其特征在于是一種把上述的掩模制作支援方法與掩模版一并提供給掩模制造廠的掩模版提供方法，掩模版被收容在收容箱內(nèi)，并用配置了為保持該掩模版而形成保持槽的保持具保持及提供，掩模版信息可利用間接性付與掩模版的掩模版確定裝置進(jìn)行比照。
掩模版信息也可設(shè)定為利用付與保持具的槽的槽號碼進(jìn)行比照。
此外，本發(fā)明提供掩模版的制造方法，其具有
準(zhǔn)備掩模版用基板的工序；在基板上形成構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜的薄膜形成工序；取得薄膜的膜信息的薄膜信息取得工序；將薄膜信息取得工序中取得的薄膜的膜信息記錄并保存存儲到信息存儲媒體中的薄膜信息記錄工序；在薄膜上形成抗蝕劑膜的抗蝕劑膜形成工序；取得抗蝕劑膜的膜信息的抗蝕劑膜信息取得工序；將抗蝕劑膜信息取得工序中取得的抗蝕劑膜的膜信息記錄并保存存儲到信息存儲媒體中的抗蝕劑膜膜信息記錄工序；比照薄膜的膜信息與抗蝕劑膜的膜信息的膜信息比照工序。
而此處也可在準(zhǔn)備掩模版用基板的工序之后，包括取得該基板的基板信息的基板信息取得工序，還可包括將基板信息取得工序中取得的基板信息記錄保存到信息存儲媒體中的基板信息記錄工序。還可具有對比基板信息和膜信息的比較工序。
也可在準(zhǔn)備掩模版用基板之后，增加付與掩模版用基板管理號碼的管理號碼付與工序，根據(jù)付與的管理號碼比照薄膜的膜信息和抗蝕劑膜的膜信息。還可比照基板信息和膜信息。
基板信息或膜信息也可設(shè)定為包括突起或凹陷的種類、突起或凹陷的大小，突起或凹陷的位置信息中的某一種。
位置信息也可設(shè)定為以基板上形成的缺口標(biāo)記以及/或者基板主表面的邊緣上形成的薄膜形膜標(biāo)記為基準(zhǔn)而制作出的。
基板信息及薄膜的膜信息及抗蝕劑膜的膜厚信息也可設(shè)定為通過包含在基板信息及薄膜的膜信息及抗蝕劑膜的膜信息中的同一位置上形成的特定的形態(tài)，例如突起或凹陷進(jìn)行比照。
此外，本發(fā)明提供的復(fù)制掩模制造方法是一種使用在基板上形成至少包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的掩模版，按照應(yīng)形成的圖案數(shù)據(jù)，將前述薄膜圖案化，制作出復(fù)制掩模的復(fù)制掩模的制造方法，其特征在于將由上述掩模制作支援方法取得的掩模版信息和前述圖案數(shù)據(jù)對照，而確定掩模版中的圖案形成區(qū)域，以抑制圖案形成不良。
圖案也可以是具有形成相對密集的圖案的密集圖案形成區(qū)域和形成相對稀疏的圖案的稀疏圖案形成區(qū)域。
此外，本發(fā)明之中還包含下述說明。提供一種掩模制作支援方法，其特征在于在通過使用在基板上至少形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的掩模版，把薄膜圖案化后制作復(fù)制掩模時(shí)，為了抑制圖案形成的不良，將用來確定圖案形成區(qū)域所需的掩模版信息提供給掩模制作者的掩模制作支援方法之中，掩模版信息包括表面形態(tài)信息，提供給掩模制作者的掩模版中的表面形態(tài)的位置基準(zhǔn)點(diǎn)和與表面形態(tài)信息對應(yīng)的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)彼此對應(yīng)，掩模制作者以基準(zhǔn)點(diǎn)為媒介使掩模版信息反映到掩模版上，掌握掩模版的狀態(tài)，即可確定應(yīng)形成圖案的區(qū)域。
也可在基板或基板上設(shè)置基準(zhǔn)標(biāo)記，位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)通過與基準(zhǔn)標(biāo)記保持某種一定關(guān)系而制成，與掩模版中的表面形態(tài)的位置基準(zhǔn)點(diǎn)彼此對應(yīng)。
也可在基板、膜或者掩模版上設(shè)置基準(zhǔn)標(biāo)記，取得基板信息或膜信息時(shí)，通過制作使包含在前述信息中的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)與前述基準(zhǔn)標(biāo)記具有一定的關(guān)系的信息，使掩模版信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)與提供的掩模版的位置基準(zhǔn)點(diǎn)彼此對應(yīng)。
基板標(biāo)記最好在可確定基板或掩模版的朝向及方向的前提下付與。
基準(zhǔn)標(biāo)記最好付與基板或與掩模版的角部相鄰的部位。在把基準(zhǔn)標(biāo)記付與偶數(shù)部位的情況下，若設(shè)定為俯視基板或掩模版時(shí)，在與一個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記對應(yīng)的旋轉(zhuǎn)對稱的部位上若不付與另一基準(zhǔn)標(biāo)記，則很容易確定基板或掩模版的朝向及方向性，因而為首選。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可設(shè)定為能夠確定基板的方向性的形狀。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可設(shè)置在平行于基板的邊且與穿過基板中心的線非對稱的位置上。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可以是基板上形成的缺口標(biāo)記以及/或者由基板主表面上形成的薄膜構(gòu)成的膜標(biāo)記。
基板信息及膜信息也可設(shè)定為以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，在確定的方向上取得的信息。
也可設(shè)定為具有在基板上形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的膜形成工序，取得膜的表面信息的表面信息取得工序，在膜形成工序及表面信息取得工序之中，以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，管理基板或掩模版的方向性。
在制造掩模版時(shí)的各工序中，也可設(shè)定為將基板或掩模版收容到將基板或掩模版運(yùn)送給各工序時(shí)使用的箱中時(shí)，以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，管理基板或掩模版的方向性。
如上所述，如果基板或掩模版方向性受到規(guī)定性管理，也就是說，即便在使多塊基板或掩模版排列為朝向一定，取得信息時(shí)，也可通過把多塊基板或掩模版集中到一定的方向不斷取得信息，則最適合使用本發(fā)明。
表面信息也可以是至少包括基板的表面信息、膜的表面信息中的1種。
膜的表面信息也可以包括移相膜的表面信息。
表面形態(tài)也可以包括使用掩模版通過將薄膜圖案化制作復(fù)制掩模時(shí)，造成圖案形成不良的表面粗糙及起伏，突起以及/或者凹陷，異物及凹槽，膜缺失，還有用缺陷檢查裝置取得的微粒形缺陷以及/或者針孔形缺陷。
表面信息中也可以包括粗糙及起伏的高度、波長及周期，突起的高度及大小，凹陷的深度及大小，異物的高度及大小，凹槽的深度及大小，微粒的高度及大小，針孔的深度及大小的信息。
圖案也可以具有形成相對密集的圖案的密集圖案形成區(qū)域和形成相對稀疏圖案的稀疏圖案區(qū)域。
稀疏圖案形成區(qū)域也可以是為了進(jìn)行電性能試驗(yàn)而形成的監(jiān)視芯片形成區(qū)域。
復(fù)制掩模也可以是系統(tǒng)LSI制造用掩模。
也可設(shè)定為將多塊掩模版和與各掩模版對應(yīng)的掩模版信息提供給掩模制作者。
此外，本發(fā)明提供掩模版供取系統(tǒng)，其特征在于是用來實(shí)施上述掩模制作支援方法的掩模版供取系統(tǒng)，對收容在掩模箱中的多個(gè)掩模版付與直接或間接確定各掩模版管理號碼或管理標(biāo)記，掩模版信息與管理號碼或管理標(biāo)記相關(guān)聯(lián)后與掩模版一并提供給掩模制造廠。
管理號碼或管理標(biāo)記也可以是形成保持掩模版的槽的保持具，以及付與收容該保持具的收容箱的槽號以及箱號。
掩模版信息也可設(shè)定為利用通信線路提供給掩模制造廠。
掩模版信息也可在與管理號碼或管理標(biāo)記相關(guān)聯(lián)后保存到信息存儲裝置(服務(wù)器)之中，掩模制造廠利用通信線路訪問信息存儲裝置(服務(wù)器)，根據(jù)管理號碼或管理標(biāo)記取得掩模版信息。
此外，本發(fā)明提供掩模版制造方法，其特征在于該方法是具有下述工序的方法準(zhǔn)備掩模版用基板的工序；在基板的主表面上形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的膜形成工序；將薄膜圖案化后制作復(fù)制掩模時(shí)，為了抑制圖案形成的不良，取得確定圖案形成區(qū)域所需的掩模版的表面信息的表面信息取得工序；將表面信息記錄保存到信息存儲媒體中的表面信息保存工序；在基板或基板上設(shè)置基準(zhǔn)標(biāo)記，以該基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，在確定的方向上取得表面信息。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可設(shè)定為能夠確定基板方向性的形狀。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可設(shè)定在平行于基板的邊且相對于穿過基板中心的線非對稱的位置上。
基準(zhǔn)標(biāo)記也可以是在基板上形成的標(biāo)識缺口以及/或者由基板主表面上形成的薄膜構(gòu)成的膜標(biāo)記。
也可設(shè)定為在制造掩模版時(shí)的各工序中，將基板收容到將基板運(yùn)送給各工序時(shí)使用的箱中時(shí)，以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)管理基板的方向性。
也可以在準(zhǔn)備了掩模版用基板之后具有直接或間接付與掩模版用基板確定基板的管理號碼的管理號碼付與工序，根據(jù)付與的管理號碼比照制造出的掩模版的表面信息。
也可設(shè)定為還具有將掩模版收容、打包到收容箱內(nèi)的打包工序，掩模版可用為保持收容在收容箱內(nèi)的掩模版而形成了保持槽的保持具保持，可通過將用來比照該掩模版和表面信息的掩模版確定裝置直接或間接性付與掩模版進(jìn)行收容。
掩模版確定裝置也可以是付與保持具及收容箱的槽號及箱號。
此外，本發(fā)明提供一種使用基板上至少形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的掩模版，按照應(yīng)形成的圖案數(shù)據(jù)將薄膜圖案化，制作復(fù)制掩模的復(fù)制掩模制造方法，其特征在于對照由上述掩模制作支援方法取得的掩模版中的表面形態(tài)的位置所對應(yīng)的掩模版的表面信息和圖案數(shù)據(jù)，而確定掩模版上的圖案形成區(qū)域，以抑制圖案形成的不良。
圖案數(shù)據(jù)具有形成相對密集的圖案的密集圖案形成區(qū)域和形成相對稀疏的圖案的稀疏圖案形成區(qū)域，當(dāng)表面信息中含有構(gòu)成圖案不良的表面形態(tài)的情況下，也可通過比照表面信息和圖案數(shù)據(jù)，為了將構(gòu)成圖案不良的表面形態(tài)配置到密集圖案形成區(qū)域以外，而確定與掩模版對應(yīng)的圖案數(shù)據(jù)的配置。
此外，本發(fā)明提供一種使用基板上至少形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的掩模版，按照應(yīng)形成的圖案數(shù)據(jù)將薄膜圖案化，制作復(fù)制掩模的制造方法，其特征在于在對前述掩模版實(shí)施圖案化處理之前，比照用本發(fā)明的掩模制作支援方法取得的與該掩模版有關(guān)的掩模版信息和前述圖案數(shù)據(jù)，為了抑制圖案形成不良，以及/或者不損害復(fù)制掩模的功能而選擇應(yīng)形成該掩模版上的前述圖案的區(qū)域。
前述圖案數(shù)據(jù)包括具有相對密集的圖案的區(qū)域和相對稀疏的圖案的區(qū)域，當(dāng)前述掩模版信息中含有構(gòu)成圖案不良原因的，或構(gòu)成損害復(fù)制掩模功能原因的狀態(tài)信息、即形態(tài)信息及光學(xué)特性信息等情況下，可選擇該狀態(tài)存在位置以外的位置，配置形成相對密集的圖案的區(qū)域。
此外，本發(fā)明提供一種使用基板上至少形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的掩模版，用于支援按照應(yīng)形成的圖案數(shù)據(jù)將薄膜圖案化，制作復(fù)制掩模的復(fù)制掩模制作者的復(fù)制掩模制作支援方法，其在前述掩模版上實(shí)施圖案化處理之前，比照用本發(fā)明取得的與該掩模版有關(guān)的前述掩模版信息和前述圖案數(shù)據(jù)，為了抑制圖案形成不良，以及/或者不損害復(fù)制掩模的功能而選擇應(yīng)形成該掩模版上的前述圖案的區(qū)域。
此外，本發(fā)明提供一種使用基板上至少形成包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的膜的版，用于支援按照應(yīng)形成的圖案數(shù)據(jù)將薄膜圖案化，制作復(fù)制掩模的復(fù)制掩模制作者的復(fù)制掩模制作方法，其在掩模版上實(shí)施圖案化處理之前，比照用本發(fā)明取得的與該掩模版有關(guān)的掩模信息和前述圖案數(shù)據(jù)，為了抑制圖案形成不良，以及/或者不損害復(fù)制掩模的功能而選擇特定的掩模版。
稀疏圖案形成區(qū)域也可以是為了進(jìn)行電特性試驗(yàn)而形成的監(jiān)視芯片形成區(qū)域。
復(fù)制掩模也可以是系統(tǒng)LSI制造用復(fù)制掩模。
此外，本發(fā)明也可以是一種把上述掩模制作支援方法與掩模版一并提供給掩模制造廠的掩模版提供方法，掩模版被收容在收容箱內(nèi)，用基準(zhǔn)標(biāo)記使收容在收容箱內(nèi)的掩模版的方向性和取得表面信息的表面信息取得工序中的基板方向性彼此對應(yīng)。
也可設(shè)定為在制造掩模版時(shí)的各工序之中，當(dāng)把基板收容到把基板運(yùn)送給各工序時(shí)使用的箱中時(shí)，以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，管理基板的方向性。
本發(fā)明的掩模版信息取得方法也可用下述方式表述。
也就是說，本發(fā)明提供一種取得掩模版信息的方法，掩模版信息涉及在基板面上配置多層層合膜的掩模版，其中包括基板信息以及一種以上的膜信息，或兩種以上的膜信息，基板信息包括與基板面對應(yīng)的平面座標(biāo)系(二維座標(biāo)系)中的位置信息、以及表示與位置信息有關(guān)的基板狀態(tài)的狀態(tài)信息，一種膜信息包括與一種膜對應(yīng)的平面座標(biāo)系內(nèi)的位置信息，以及表示與位置信息有關(guān)的該膜的狀態(tài)的狀態(tài)信息，包含在掩模版信息中的基板信息或膜信息的平面座標(biāo)系具有規(guī)定的對應(yīng)關(guān)系。
例如，也可以使之包括在基板面上或在基板面上成膜的其它膜上形成第1膜的階段、取得與成膜的第1膜的狀態(tài)有關(guān)的第1膜信息的階段、在第1膜上形成第2膜的階段、取得與成膜的第2膜的狀態(tài)有關(guān)的第2膜信息的階段、生成包括第1膜信息及第2膜厚信息在內(nèi)的掩模版信息的階段來實(shí)施。
或者，也可包括準(zhǔn)備基板的階段、取得與準(zhǔn)備的基板狀態(tài)有關(guān)的基板信息的階段、在基板面上成膜的階段、取得與成膜后的膜狀態(tài)有關(guān)的膜信息的階段、生成包括基板信息及膜信息在內(nèi)的掩模版信息階段。
包含在基板信息及膜信息中的平面座標(biāo)系的基準(zhǔn)點(diǎn)既可具有彼此預(yù)先規(guī)定的關(guān)系，或者也可至少以基板上形成的標(biāo)記及膜上形成的標(biāo)記中的一方為基準(zhǔn)進(jìn)行規(guī)定。
也可設(shè)定為還包含彼此比照基板信息以及/或者膜信息的階段。
也可設(shè)定為狀態(tài)信息至少包括與表面形態(tài)有關(guān)的信息以及與光學(xué)特性有關(guān)的信息中的一方。
也可設(shè)定為至少有一種膜是移動(dòng)曝光光相位的移相膜。
也可將多種膜的膜信息投影到平面上生成的信息包含到掩模版信息之中。
付與基板表示基板朝向的信息時(shí)可采用多種裝置，例如還可包括在取得膜信息之前付與基板上以及/或者膜上預(yù)先規(guī)定的位置以可作為狀態(tài)信息檢出的基準(zhǔn)標(biāo)記的階段，也可在掩模版信息中包括表示根據(jù)基準(zhǔn)標(biāo)記規(guī)定的基板朝向的信息。此外，基準(zhǔn)標(biāo)記也可具有可確定方向的形狀。此外，基板的輪廓也可以是具有旋轉(zhuǎn)對稱性的形狀，而包括付與的基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的基板形狀則具有旋轉(zhuǎn)非對稱性，基板的典型輪廓是包括正方形及長方形在內(nèi)的方形。
也可設(shè)定為包括下述階段付與基準(zhǔn)標(biāo)記的情況下，用裝置A在基板上形成膜a的同時(shí)，通過測定膜a取得包括基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的膜信息a的階段、從裝置A取出該基板的階段、以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向，收容到箱中的階段、把箱運(yùn)送給裝置B的階段、以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向設(shè)置到裝置B中的階段、用裝置B在該基板上形成膜b的同時(shí)，通過測定膜b取得包括基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的膜信息b的階段。
此外，也可設(shè)定為包括下述階段付與基準(zhǔn)標(biāo)記的情況下，將基板設(shè)置到測定裝置上之后測定基板，取得包括基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的基板信息的階段、從測定位置取出該基板的階段、以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向收容到箱中的階段、把箱運(yùn)送給裝置A的階段、以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向設(shè)置到裝置A中的階段、用裝置A在基板上形成膜a的同時(shí)，通過測定膜a取得包括基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的膜信息a的階段。
也可設(shè)定為通過參照取得的掩模版信息，識別掩模版?zhèn)€體。
也可設(shè)定為狀態(tài)信息至少包括兩種測定值。
也可設(shè)定為基板信息及膜信息中的至少一方包括其中還包含基板或膜的厚度方向上的座標(biāo)的立體座標(biāo)系中的位置信息。
此外，本發(fā)明提供一種掩模版信息提供方法，該信息與在基板上重迭成膜多層膜而制作出的掩模版有關(guān)其特征在于將用上述掩模版信息取得方法取得的掩模版信息與該掩模版一并提供。
此外，本發(fā)明提供一種通過將掩模版信息提供給掩模制造廠支援復(fù)制掩模的制作方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法將掩模版信息提供給掩模制造廠的階段，所提供的掩模版信息可供為了防止制作出不良的復(fù)制掩模，在對應(yīng)的掩模版上形成掩模圖案之前確定形成掩模版上的掩模圖案的區(qū)域時(shí)參考。
此外，本發(fā)明提供一種通過將掩模版信息提供給掩模制造廠，支援復(fù)制掩模的制作的方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法，將掩模版信息提供給掩模制造廠的階段，是一種通過基準(zhǔn)標(biāo)記，將掩模版信息中的座標(biāo)系的基準(zhǔn)點(diǎn)通知掩模制造廠的方法，收到提供的掩模制造廠通過基準(zhǔn)標(biāo)記取得平面座標(biāo)系間的對應(yīng)關(guān)系，根據(jù)取得的對應(yīng)關(guān)系以及掩模版信息，決定應(yīng)形成掩模圖案的區(qū)域。
也可設(shè)定為在該復(fù)制掩模制作支援方法之中，掩模版上形成的掩模圖案包括相對密集的圖案區(qū)域和相對稀疏的圖案區(qū)域。
此外，本發(fā)明提供一種通過在掩模版上形成構(gòu)成復(fù)制圖案的掩模圖案，制造復(fù)制掩模的復(fù)制掩模制造方法，其特征在于根據(jù)用上述掩模版信息取得方法取得的掩模版信息，決定在掩模版上配置掩模圖案的區(qū)域。
此外，本發(fā)明提供一種掩模版制造方法，其特征在于其中包括上述掩模版信息取得方法。
此外，本發(fā)明提供一種掩模版信息取得系統(tǒng)，該信息與在基板面上層合了多層膜的掩模版有關(guān)，其特征在于，配置有取得與基板狀態(tài)有關(guān)的基板信息的裝置、取得與在基板面上或在基板面上成膜的其它膜上成膜的第1膜的狀態(tài)有關(guān)的第1膜信息的裝置、以及取得與基板面上成膜的第1膜以外的膜的第2膜的狀態(tài)有關(guān)的第2膜信息的裝置中的至少兩種信息取得裝置，還配置有生成包括用該信息取得裝置取得的信息在內(nèi)的掩模版信息的裝置。
也可設(shè)定為在該掩模版信息取得系統(tǒng)之中，基板信息包括與基板面對應(yīng)的平面座標(biāo)系中的位置信息、表示與位置信息有關(guān)的基板的狀態(tài)的狀態(tài)信息，一種膜信息包括與一種膜對應(yīng)的平面座標(biāo)系中的位置信息、表示與位置信息有關(guān)的該膜的狀態(tài)的狀態(tài)信息，包含在掩模版信息中的基板信息或膜信息的平面座標(biāo)系具有規(guī)定的對應(yīng)關(guān)系。
也可設(shè)定為在上述掩模版信息取得方法之中，基板為多邊形，將基準(zhǔn)標(biāo)記付與基板彼此相接的夾在兩個(gè)側(cè)邊間的區(qū)域。
在上述掩模版信息取得方法之中，也可將偶數(shù)個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記付與彼此旋轉(zhuǎn)非對稱的位置。
此外，本發(fā)明提供一種通過把掩模版信息提供給掩模制造廠，支援復(fù)制掩模的制作的復(fù)制掩模制作支援方法，其特征在于包括利用上述掩模版信息提供方法給掩模制造廠提供多種掩模版的掩模版信息的階段、所提供的掩模版信息可供形成掩模圖案前，從多塊掩模版中選擇一塊時(shí)參考。
也可設(shè)定為在上述掩模版信息取得方法之中，在取得膜信息b的階段之后，還包括以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向收容到箱中的階段。
也可設(shè)定為在上述掩模版信息取得方法之中，在取得膜信息a的階段之后，還包括以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向收容到箱中的階段。
本發(fā)明提供一種提供掩模版的掩模版提供方法，其特征在于與掩模版一并提供用上述掩模版信息取得方法取得的與該掩模版有關(guān)的掩模版信息。
(發(fā)明效果)可在整個(gè)掩模版的制造過程中，使基板信息、膜信息的朝向與基板的實(shí)際朝向一致。此外，即便在制造過程中使基板朝向了錯(cuò)誤的方向，也可通過基板信息、膜信息的相互比較檢出朝向的錯(cuò)誤。
根據(jù)取得的基板信息、膜信息即可識別每個(gè)掩模版。也就是說，可將基板信息、膜信息作為一種識別碼來使用。
通過提供與基板的朝向?qū)?yīng)的基板信息、膜信息，可準(zhǔn)確反映掩模版的基板及各層膜中存在的缺陷的位置。
由于可準(zhǔn)確反映掩模版的每一層的缺陷，因而可避開缺陷制作掩模，可防止掩模圖案不良。
此外，即便是有缺陷的部位，也可根據(jù)其種類、大小、數(shù)量等以及打算繪制的圖案的形狀、疏密等因素，預(yù)先判斷為即使繪制圖案也沒有問題，實(shí)現(xiàn)掩模版的有效利用。


圖1是用來說明本發(fā)明的掩模版膜信息取得方法的流程圖。
圖2A是用來說明掩模版的收容箱10的剖面圖。
圖2B是用來說明掩模版的收容箱10的平面圖。
圖3A是用來說明表示掩模版的正反面的槽標(biāo)記31的圖。
圖3B是用來說明表示掩模版的正反面的缺口標(biāo)記1的圖。
圖4是舉例說明利用本發(fā)明的掩模版膜信息(表面信息)取得工序取得的掩模版膜版膜信息(表面信息)的圖。
圖5是用來說明本發(fā)明的掩模版膜信息管理系統(tǒng)50的框圖。
圖6是用來說明主計(jì)算機(jī)51的框圖。
圖7是用來說明箱號、槽號付與裝置52的框圖。
圖8是用來說明1次膜成膜裝置53的框圖。
圖9是用來說明1次膜缺陷檢查裝置54的框圖。
圖10是用來說明保護(hù)層成膜裝置57的框圖。
圖11是用來說明掩模制作支援系統(tǒng)110的框圖。
圖12是用來說明訂貨人掩模制造廠12內(nèi)的掩模制造工序中的圖案繪制與顯影處理的流程圖。
圖13A是接受掩模制造工序的繪制、顯影處理前的掩模版的剖面圖。
圖13B是經(jīng)掩模制造工序制作出的復(fù)制掩模的剖面圖。
圖14是用來說明根據(jù)版膜信息及掩模圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行的稀疏圖案形成區(qū)域及密集圖案形成區(qū)域的配置的圖。
圖15是用來說明本發(fā)明的掩模制作支援方法之中的掩模版的制造工序，和掩模版的制造過程中取得及保存掩模版的膜信息的方法的流程圖。
圖16A是用來說明掩模版的缺口標(biāo)記1的圖。
圖16B是用來說明掩模版的膜標(biāo)記31的圖。
圖17是舉例說明用本發(fā)明的掩模版膜信息(表面信息)取得工序取得的掩模版膜信息(表面信息)的圖。
圖18A是用來說明收容掩模版的收容箱10的剖面圖。
圖18B是用來說明收容掩模版的收容箱10的平面圖。
圖19是用來說明掩模制作支援系統(tǒng)110的框圖。
圖20是用來說明掩模生產(chǎn)制造廠112利用版膜信息在掩模版的抗蝕劑膜上繪制、顯影處理后具有形成圖案的工序的掩模制造工序的流程圖。
圖21A是實(shí)施掩模制造工序的繪制，顯影處理前的掩模版的剖面圖。
圖21B是通過掩模制造工序制作出的復(fù)制掩模的剖面圖。
圖22是用來說明根據(jù)版膜信息及掩模圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行的稀疏圖案形成區(qū)域及密集圖案形成區(qū)域的配置的圖。
圖23是用來說明本發(fā)明的掩模版膜信息管理系統(tǒng)50的框圖。
圖24是用來說明匣號、槽號付與裝置52的框圖。
圖25是用來說明主計(jì)算機(jī)51的框圖。
圖26是用來說明1次膜成膜裝置53的框圖。
圖27是用來說明1次膜缺陷檢查裝置54的框圖。
圖28是用來說明抗蝕劑膜成膜裝置57的框圖。
具體實(shí)施例方式
下面說明本發(fā)明的第1實(shí)施方式的掩模版膜信息取得方法。在以下的實(shí)施方式的說明中，如上所述膜信息包括表面信息，可將膜信息直接理解為表面信息。
掩模版膜信息取得方法可與把在玻璃基板上形成1次模、2次膜、抗蝕劑膜后制造出的掩模版收容到收容箱之前的工序并行進(jìn)行。每當(dāng)形成1次膜、2次膜及抗蝕劑膜時(shí)，即進(jìn)行各膜的檢查，生成與其結(jié)果相對應(yīng)的1次膜膜信息、2次膜膜信息以及抗蝕劑膜膜信息后登錄到主計(jì)算機(jī)中。主計(jì)算機(jī)歸納這些膜信息后生成并存儲掩模版膜信息，根據(jù)外部的要求，將存儲的掩模版膜信息輸出給紙、電子媒體、通信線路等。
從圖1可看出，該圖用虛線劃分為上中下三段。下段表示工序流程，中段表示與各工序?qū)?yīng)的制造過程的掩模版，上段表示在檢查工序中生成的膜信息。下面沿下段的工序流程加以說明。
(1)基板加工工序準(zhǔn)備已形成缺口標(biāo)記的玻璃基板。缺口標(biāo)記通過其形狀表示基板的玻璃種類。接著磨削、研磨加工玻璃基板的表面，加工出所需的表面粗度和平坦度。為去除研磨工序中使用的研磨劑，清洗玻璃基板后，將基板收容到貼了ID卡的流通箱2之中。流通箱2之中以缺口標(biāo)記1為基準(zhǔn)使玻璃基板的方向一致后收容。
(2)1次膜成膜工序使用進(jìn)行生產(chǎn)管理的主計(jì)算機(jī)，給流通箱2隨帶的ID卡付與管理各基板的管理號碼。主計(jì)算機(jī)設(shè)定制造工序的順序與制造條件，收集各制造工序的信息后記錄與保存。將收容在流通箱2內(nèi)的玻璃基板送入濺射裝置，在形成缺口標(biāo)記1的一側(cè)和相反一側(cè)，利用(化學(xué))反應(yīng)性濺射形成作為1次膜的MoSiN半色調(diào)膜。這時(shí)，可利用基板保持具在未形成MoSiN膜的位置上形成膜標(biāo)記3。將帶有MoSiN半色調(diào)膜的基板收容到有別于流通箱2的其它流通箱4之中。同時(shí)，將1次膜成膜結(jié)束的信息保存到主計(jì)算機(jī)之中。管理號碼被轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱4隨帶的ID卡。以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3)為基準(zhǔn)使基板方向一致后收容到流通箱4中。
(3)1次膜檢查工序?qū)⑹杖菰诹魍ㄏ?中的帶有半色調(diào)膜的基板送入檢查1次膜的缺陷的缺陷檢查裝置，通過進(jìn)行缺陷檢查取得膜信息。作為膜信息(膜的表面信息)，將缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等級表示)，缺陷的種類(針孔、顆粒、其它)，按管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)中。將此處取得的信息稱之為1次膜膜信息。將缺陷檢查完畢的基板收容到另一流通箱5之中。同時(shí)把管理號碼轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱5的ID卡。以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3)為基準(zhǔn)使基板方向一致后收容到流通箱5中。
(4)2次膜成膜工序?qū)⑹杖菰诹魍ㄏ?中的帶半色調(diào)膜的基板送入聯(lián)機(jī)型濺射裝置，利用(化學(xué))反應(yīng)性濺射在1次膜上形成作為2次膜的Cr遮光膜。這時(shí)可利用基板保持部在未形成Cr膜的位置上形成膜標(biāo)記6。將帶Cr遮光膜的基板收入另一流通箱7。同時(shí)將2次成膜結(jié)束的信息保存到主計(jì)算機(jī)中。將管理號碼轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱7隨帶的ID卡。以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)，使基板方向一致后收容到流通箱7之中。
(5)2次膜檢查工序?qū)⑹杖菰诹魍ㄏ?中的帶有Cr遮光膜的基板送入檢查2次膜的缺陷的缺陷檢查裝置，通過進(jìn)行缺陷檢查取得膜信息。作為膜信息(膜的表面信息)，將缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等級表示)，缺陷的種類(針孔、顆粒、其它)，按管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)中。將此處取得的信息稱之為1次膜膜信息。將缺陷檢查完畢的基板收容到另一流通箱8之中。同時(shí)把管理號碼轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱8隨帶的ID卡。以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)使基板方向一致后收容到流通箱8之中。
(6)抗蝕劑膜成膜工序?qū)⑹杖菰诹魍ㄏ?中的帶Cr遮光膜的基板送入旋轉(zhuǎn)涂布裝置，利用旋轉(zhuǎn)涂布法在2次膜上涂布抗蝕劑膜，經(jīng)烘干、冷卻后形成抗蝕劑膜。將帶抗蝕劑膜的基板(掩模版)收入另一流通箱9。同時(shí)，將抗蝕劑膜成膜結(jié)束的信息保存到主計(jì)算機(jī)之中。將管理號碼轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱9隨帶的ID卡。以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3.6)為基準(zhǔn)，使掩模版的方向一致后收容到流通箱9中。
(7)抗蝕劑膜檢查工序?qū)⑹杖菰诹魍ㄏ?中的帶抗蝕劑膜的基板(掩模版)送入缺陷檢查裝置，通過進(jìn)行缺陷檢查取得膜信息。作為膜信息，將缺陷的位置信息、缺陷的大小(分等級表示)、缺陷的種類(針孔、顆粒、其它)按管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)中。將此處取得的膜信息稱之為抗蝕劑膜膜信息。將缺陷檢查完畢的基板收容到另一流通箱10之中。同時(shí)將管理號碼轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱10隨帶的ID卡。以缺口標(biāo)記(或膜標(biāo)記3.6)為基準(zhǔn)，使掩模版的方向一致后收容到流通箱10之中。
(8)膜信息的比照工序通過相互比照1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息，確認(rèn)各膜信息之間的方向是否一致。
具體而言，以位置不變化的缺陷為基準(zhǔn)，比照各膜的缺陷信息數(shù)據(jù)。這是利用作為最下層的膜的1次膜上有缺陷的情況下，比1次膜靠上層的2次膜、抗蝕劑膜上也會產(chǎn)生缺陷，以1次膜膜信息為基準(zhǔn)判定其它膜信息的方向是否正確。
這樣即可使膜信息間的方向一致，但在例如把基板從某個(gè)流通箱移動(dòng)到另一個(gè)流通箱中時(shí)，有可能搞錯(cuò)基板的方向而收入流通箱中，在此情況下即使膜信息間一致，膜信息和基板的朝向也不一致。
為了避免此種可能性，在流通箱及收容箱中取放基板時(shí)，該操作者將缺口標(biāo)記1、膜標(biāo)記3及6作為基板朝向的基準(zhǔn)進(jìn)行參照，沿預(yù)先規(guī)定的朝向取放基板。
由于這樣即可將掩模版的制造過程(1)～(9)中的基板朝向保持一定，避免基板的朝向與膜信息的朝向不一致的同時(shí)，使膜信息間的朝向一致，因而可使基板朝向與所有膜信息的朝向一致。由于要確認(rèn)膜信息間的一致，因而即便在制造過程中把基板的朝向搞錯(cuò)，收容到流通箱及收容箱中，仍可將此檢出。
(9)版打包工序?qū)⒀谀０媸杖莸绞杖菹?0中后打包，配送給掩模制造廠。
此處參照圖2A及(B)說明收容箱20。每個(gè)收容箱20均被付與了隨帶的固定箱號21。收容箱20由箱蓋22和外箱23構(gòu)成，在外箱23之中又由內(nèi)箱24、槽25構(gòu)成。內(nèi)箱24被收容在外箱23之中，具有基板保持具的作用。槽25實(shí)際是基板間的隔板，但為了便于下文中的說明，權(quán)且將相鄰的兩個(gè)隔板25間存放基板的部分稱之為槽。從這個(gè)意義上說，圖2B之中有用來存放5片基板的槽。各槽均被付與槽號碼，分別稱為1號槽、2號槽、...5號槽。在外箱23的外表面中靠近1號槽的面上標(biāo)有表示收容箱20朝向的前面標(biāo)示26。通過組合箱號及槽號來識別收容箱20中收容的掩模版。
為了使各掩模版中的膜信息的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)和用來使收容在收容箱20中的上述位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)的掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)對應(yīng)，將掩模版收容到收容箱20中時(shí)，以上述缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)，使掩模版的方向性一致后進(jìn)行收容。這樣一來，通過在掩模版制造工序中的各工序之中，以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)，使基板的方向性一致后進(jìn)行膜的形成及缺陷檢查，進(jìn)而在各工序間的基板運(yùn)送時(shí)使用的基板流通箱之中，也以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)，使基板的方向性一致后進(jìn)行收容，將掩模版收容到收容箱之中提供給掩模制造廠時(shí)，同樣以缺口標(biāo)記1(或膜標(biāo)記3、6)為基準(zhǔn)，使掩模版的方向性一致后進(jìn)行收容，即可使掩模版和缺陷信息的位置信息準(zhǔn)確對應(yīng)，防止掩模制作時(shí)的圖案不良。
下面退回到版打包工序加以說明。這時(shí)，將包括1次膜膜信息、2次膜膜信息，保持膜信息在內(nèi)的版膜信息提供給各掩模版的配送目的地的掩模制造廠。版膜信息的提供方法有(a)在收容箱20內(nèi)隨帶印刷了版膜信息的印刷物，(b)在收容箱20內(nèi)隨帶記錄了版膜信息數(shù)據(jù)的軟盤及CD-ROM等記錄媒體，(c)通過數(shù)據(jù)通信線路將版膜信息數(shù)據(jù)發(fā)送給配送目的地的掩模制造廠的計(jì)算機(jī)等之中。
(a)及(b)的情況下，將版膜信息本身與槽號的對應(yīng)關(guān)系一并隨帶在收容箱20中。(c)的情況下由掩模制造廠發(fā)送箱號及槽號，通過接收相對應(yīng)的版膜信息接受提供。
而在1次膜成膜工序與1次膜檢查工序之間，以及2次膜成膜工序與2次膜檢查工序之間也可設(shè)置清洗工序。
在上述(1)～(10)的過程，進(jìn)而在掩模制造廠之中，掩模版的表里可用圖3(A)及(B)所示的膜標(biāo)記31以及缺口標(biāo)記1區(qū)別。可如圖3(A)所示，在表面標(biāo)注膜標(biāo)記31，可如圖3(B)所示，在背面標(biāo)注缺口標(biāo)記1。
各膜信息由以基板的規(guī)定方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，在膜上預(yù)先規(guī)定的XY座標(biāo)系的X座標(biāo)、Y座標(biāo)，缺陷的大小，缺陷的種類構(gòu)成。缺陷的種類由針孔和顆粒構(gòu)成。顆粒指膜上附著了粒狀物質(zhì)的狀態(tài)，針孔指一度附著的粒狀物質(zhì)脫落后留下的痕跡的狀態(tài)。
圖4是版膜信息的例示。從中可看出，在1次膜階段內(nèi)存在缺陷的位置上在2次膜及抗蝕劑膜的同一位置上也產(chǎn)生了缺陷。
下面說明作為本發(fā)明的第2實(shí)施方式的掩模版生產(chǎn)線控制系統(tǒng)50。從圖5可知，掩模版生產(chǎn)控制系統(tǒng)50由主計(jì)算機(jī)51、匣號、槽號付與裝置52(下文標(biāo)示為付與裝置52)、1次膜成膜裝置53、1次膜缺陷檢查裝置54，2次膜成膜裝置55、2次膜缺陷檢查裝置56、抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58構(gòu)成。
匣除具有多個(gè)收容基板的槽外，還具有ID卡。ID卡上記錄了付與該匣的匣號。
從圖7可知，將基板投入生產(chǎn)線時(shí)，將基板收入匣中，用付與裝置52，從輸入部521輸入箱號、槽號、工序流程。工序流程工序順序、工序中使用的裝置名稱、各裝置中使用的方法號構(gòu)成，可按照準(zhǔn)備生產(chǎn)的掩模，以匣為單位付與。而在生產(chǎn)線上，基板的確定可用工序內(nèi)的位置、匣號、槽號進(jìn)行。
付與裝置52把匣號記錄到匣的ID卡上的同時(shí)，通過數(shù)據(jù)收發(fā)信部522，把匣號、槽號以及工序流程發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51。從圖6可知，主計(jì)算機(jī)51用數(shù)據(jù)收發(fā)信部511接收后，使匣號、槽號以及工序流程彼此關(guān)聯(lián)后存儲到工序流程存儲部512中。
用付與裝置52輸入了匣號的匣(下文將該匣稱為匣A)一被安裝到1次膜成膜裝置53的裝料口531之中，即從匣A的ID卡讀出匣號，由數(shù)據(jù)收發(fā)信部532通知主計(jì)算機(jī)51。
從圖8可知，與此相呼應(yīng)，主計(jì)算機(jī)51將匣A的匣號、槽號、濺射的方法號發(fā)送給1次膜成膜裝置53。而方法號也可以位于濺射裝置動(dòng)作即將開始之前。
在接收到這些的1次膜成膜裝置53之中，用方法-濺射條件比照部533，比照與方法號對應(yīng)的濺射條件，將比照后的濺射條件存儲到濺射條件存儲器534之中。濺射條件控制部535按照該濺射條件控制濺射裝置536，實(shí)施濺射處理。
濺射裝置536將基板從匣中取出，開始濺射處理。在濺射處理過程中收集濺射實(shí)績，與槽號關(guān)聯(lián)。
結(jié)束了濺射處理的基板進(jìn)入出料口538上預(yù)先準(zhǔn)備好的別的匣(下文稱為匣B)的槽。這時(shí)，槽號、濺射實(shí)績、出料口槽號收集部537(下文稱為收集部537)收集匣A時(shí)的槽號、相關(guān)的濺射實(shí)績、匣B的槽號，用數(shù)據(jù)收發(fā)信部532發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51。此外，匣B的槽一裝滿1次膜成膜后的基板，收集部537即與匣B的匣號一道，將該內(nèi)容通知主計(jì)算機(jī)。
主計(jì)算機(jī)51接收后，按照匣號B、匣號A、工序流程的順序確定下一道工序，給未圖示的匣運(yùn)送部下達(dá)運(yùn)送目的地的指令。此外，主計(jì)算機(jī)51把匣B的匣號、以及發(fā)送給1次膜成膜裝置53的濺射的方法號發(fā)送給1次膜缺陷檢查裝置54。
從圖9可知，1次膜缺陷檢查裝置54一在數(shù)據(jù)收發(fā)信部中接到這些信息，即將此交給匣號——方法號比照部542。
一把匣運(yùn)入進(jìn)料口543，匣號-方法號比照部542即將對應(yīng)的方法號與從匣的ID卡中讀出的匣號比照。
此處的匣號如果是匣號B，則可獲得對收容在匣B中的基板進(jìn)行濺射處理時(shí)的方法號。
在缺陷檢查條件存儲器544中預(yù)先存儲了在方法號所示的條件下成膜的膜與應(yīng)實(shí)施的檢查條件之間的對應(yīng)關(guān)系，一從匣號——方法號比照部542取得方法號，即輸出應(yīng)實(shí)施的檢查條件。
根據(jù)該檢查條件，缺陷檢查條件控制部545通過控制缺陷檢查裝置546進(jìn)行檢查。缺陷檢查裝置546將檢查結(jié)果作為缺陷檢查信息輸出。檢查完畢的基板被收容到預(yù)先安裝在出料口547的另一匣(下文稱之為匣C)的槽中。
出料口匣號、出料口槽號付與部548給匣C付與匣號的同時(shí)；使匣C的匣號、匣C的槽號、收容在槽中的基板的缺陷檢查信息彼此對應(yīng)后，用數(shù)據(jù)收發(fā)信部541發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51。
主計(jì)算機(jī)51將發(fā)送來的信息與用1次膜成膜裝置53取得的濺射實(shí)績等對應(yīng)后存儲到信息存儲器513中。
關(guān)于2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56，由于如果將其分別與1次膜成膜裝置53、以及1次膜檢查裝置54比較，就會發(fā)現(xiàn)二者的區(qū)別僅僅是因?yàn)槌赡さ哪さ姆N類不同，其構(gòu)成要素及動(dòng)作并無大的區(qū)別，因而省略其說明。圖10所示的抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58也與此相同。
采用此種方法，根據(jù)從1次膜成膜裝置53、1次膜檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56，抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58收集到的信息，缺陷信息比照部514生成第1實(shí)施方式中說明過的1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息的同時(shí)，將這些彼此比照，生成圖4所示的版膜信息。
下面說明作為本發(fā)明的第3實(shí)施方式的掩模制作支援系統(tǒng)110。
從圖11可知，掩模制作支援系統(tǒng)110由下述三部分構(gòu)成掩模版制造廠111、在掩模版制造廠111中制造出的掩模版的基礎(chǔ)上制造掩模的掩模制造廠112、連接兩個(gè)制造廠的數(shù)據(jù)通信線路113。還有，掩模版制造廠111由主計(jì)算機(jī)51及服務(wù)器114構(gòu)成。在掩模版制造廠111中制造出的掩模版可收容到前述收容箱10中配送給掩模制造廠112。主計(jì)算機(jī)51是前述掩模版生產(chǎn)線控制系統(tǒng)50的主計(jì)算機(jī)51。服務(wù)器114從主計(jì)算機(jī)51接收所需的信息，經(jīng)互聯(lián)網(wǎng)113給遠(yuǎn)在外地的掩模制造廠112的計(jì)算機(jī)提供信息。
下面說明用掩模制作支援系統(tǒng)110在掩模版的抗蝕劑膜上繪制圖案的工序。
正如第2實(shí)施方式中所述，主計(jì)算機(jī)51之中預(yù)先存儲了制造出的掩模版的版膜信息。版膜信息以缺口標(biāo)記或膜標(biāo)記為基準(zhǔn)確定方向性，保證基準(zhǔn)點(diǎn)。此外，制造出的掩模版以缺口標(biāo)記或膜標(biāo)記為基準(zhǔn)使掩模版的方向性一致，收容到收容箱10中后配送給掩模制造廠112。這時(shí)，收容箱10上隨帶了箱號。箱號的隨帶并不局限于印刷品等目力可識別的方式，例如也可使用條碼、磁記錄媒體、IC卡等機(jī)器可讀取的方式進(jìn)行隨帶。
下面參照圖12說明掩模制造廠112中的掩模圖案繪制與顯影處理。接收到收容箱10的掩模制造廠112的工作人員，通過目力識別或機(jī)器讀取，從收容箱10取得箱號后，使用計(jì)算機(jī)等數(shù)據(jù)通信裝置，利用互聯(lián)網(wǎng)等數(shù)據(jù)通信線路113把箱號發(fā)送給服務(wù)器114。與此相呼應(yīng)，服務(wù)器114發(fā)送回收容在該箱號的收容箱的各槽內(nèi)的掩模版的版膜信息(步驟S121)。
作為數(shù)據(jù)通信的方式有多種多樣。例如可通過電子信箱進(jìn)行箱號及版膜信息的傳輸，或在服務(wù)器114中設(shè)置表示箱號和收容在該箱號的收容箱的各槽中的掩模版的版膜信息對應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫，也可設(shè)定為發(fā)送回與從掩模制造廠112一側(cè)輸入的箱號對應(yīng)的版膜信息。在該階段內(nèi)，掩模版具有圖13A所示的剖面，在玻璃基板上，呈形成了1次膜、2次膜，抗蝕劑膜等三層膜的狀態(tài)。
接收到版膜信息的掩模制造廠112比照版膜信息和準(zhǔn)備制造的掩模的掩模圖案(步驟S122)。如上所述，這時(shí)，掩模版內(nèi)的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)和版膜信息中的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)彼此對應(yīng)?；蛘?，這時(shí)，掩模版內(nèi)的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)和掩模圖案數(shù)據(jù)的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)彼此對應(yīng)。
另外，假定掩模制造廠112從掩模版制廠111接收到版膜信息，并正準(zhǔn)備繪制掩模圖案142。版膜信息141包括1次膜膜信息、2次膜膜信息?？刮g劑膜膜信息。
一般而言，掩模圖案具有密度高的密集圖案形成區(qū)域143和密度低的稀疏圖案形成區(qū)域144。
另外，一般而言，掩模版的針孔及顆粒分布并不均勻，而是在一定程度上局部性分散。因此，通過參照版膜信息142調(diào)整并決定圖案繪制位置，以便把針孔及顆粒配置到密集圖案形成區(qū)域143以外的區(qū)域(步驟S123)。
圖案繪制位置的調(diào)整方法有變更與基板的朝向相對應(yīng)的掩模圖案142的朝向。此外，如果密集圖案形成區(qū)域143和稀疏圖案形成區(qū)域144的相對位置關(guān)系可變，也可通過變更此進(jìn)行調(diào)整。
最后，按照決定的圖案繪制位置，在抗蝕劑膜上繪制圖案并顯影(步驟S124)。
下面說明第4實(shí)施方式。在本實(shí)施方式之中，特意提出使版膜信息和基板朝向一致的技術(shù)加以說明。
再看一遍圖1及圖3，在掩模版的玻璃基板上標(biāo)注著缺口標(biāo)記1。在現(xiàn)用技術(shù)中，缺口標(biāo)記1的目的僅僅是表示玻璃基板的玻璃種類，利用其不同的形狀表示玻璃基板的玻璃種類。
此外，在膜上出于表示膜的種類的目的，本來就標(biāo)有膜標(biāo)記。與缺口標(biāo)記相同，膜標(biāo)記通過其不同的形狀，該膜與其它膜的位置關(guān)系表示膜的種類。例如1次膜上的膜標(biāo)記2具有表示是MoSiN膜的形狀，2次膜上的膜標(biāo)記3具有表示是Cr膜的形狀。而在圖上，由于是將膜標(biāo)記簡化后標(biāo)注的，因而與實(shí)際的形狀不一致。
在本發(fā)明之中，將這些缺口標(biāo)記及膜標(biāo)記作為基板朝向的標(biāo)準(zhǔn)，裝入流通箱、匣、收容箱等容器或從中取出時(shí)，一直朝著同一方向。這樣一來，1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息的方向各自均與基板方向一致。
在本實(shí)施方式中，膜信息的膜的枚數(shù)也可以是單枚。正如現(xiàn)用技術(shù)中所見，即使僅僅是觀察掩模版制造廠即將出廠的掩模版表面，即從表面膜取得的缺陷信息也能適用。即使在此種情況下，也具有保障缺陷信息的方向和基板方向的一致的效果。
下面說明本發(fā)明的第5種實(shí)施方式。第5實(shí)施方式是對第1至第4實(shí)施方式的一部分加以變更的方式，下面說明掩模版信息取得方法、掩模制作支援方法，提供給掩模制造廠的掩模版的制造方法，復(fù)制掩模的制造方法、在掩模版的制造過程中取得并保存掩模版信息的方法。此外還公示出掩模版信息提供方法、掩模版提供方法的具體事例。
在以下的實(shí)施方式的說明之中，膜信息也包括表面信息在內(nèi)，可將膜信息理解為表面信息。
所謂膜信息是指通過掃描膜的表面取得的面信息。此外所謂基板信息是指通過掃描基板表面取得的面信息。所謂面信息是指可通過投影到二維座標(biāo)的平面座標(biāo)內(nèi)進(jìn)行掌握的信息。
此外，下面示出利用缺陷檢查取得基板信息或膜信息的例子，所謂缺陷是指損害復(fù)制掩模的功能，或構(gòu)成不良的復(fù)制掩模產(chǎn)生原因的表面形態(tài)或光學(xué)特性?？膳e的具體例子有顆粒狀缺陷及針孔狀缺陷。
掩模版信息的取得，正如圖15所示，可利用與把在玻璃基板上形成1次膜、2次膜、抗蝕劑膜各自的薄膜后制造出的掩模版收容到箱中之前的工序并行進(jìn)行的檢查工序進(jìn)行。在圖15的例中，雖未圖示出基板檢查，但如果在準(zhǔn)備好實(shí)施過鏡面研磨等加工處理的玻璃基板之后，1次膜成膜之前進(jìn)行基板檢查的話，即可取得基板信息。
在圖15所示的實(shí)施方式中，每當(dāng)形成1次膜、2次膜、以及抗蝕劑膜的薄膜時(shí)均進(jìn)行薄膜的缺陷檢查。生成與該檢查結(jié)果對應(yīng)的1次膜的膜信息、2次膜的膜信息以及抗蝕劑膜的膜信息，使之與各基板(各掩模版)對應(yīng)后，將這些信息記錄保存到主計(jì)算機(jī)之中。然后，比照記錄保存在主計(jì)算機(jī)中的基板信息及膜信息，歸納后生成掩模版信息。
掩模版信息綜合多種基板信息、1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息等面信息后生成。構(gòu)成掩模版信息的面信息是與同一掩模版的各個(gè)不同層面有關(guān)的信息。因此，掩模版信息是立體性表示掩模版的內(nèi)部狀態(tài)的信息。
掩模版信息與經(jīng)掩模版的制造工序制造，收容在收容箱20內(nèi)的各掩模版?zhèn)€體彼此對應(yīng)后提供給掩模制造廠。上述信息利用書面文件、電子媒體、磁記錄媒體、通信線路等由掩模版制造廠提供給掩模制造廠。
從圖15可看出，該圖被虛線分割為上中下三段。圖15的下段表示將基板或掩模版收容到掩模版的制造工序，在各工序間運(yùn)送基板時(shí)使用的收容箱內(nèi)的方向性、即朝向的經(jīng)緯。
圖15的中段表示與各工序?qū)?yīng)的制造過程的膜的結(jié)構(gòu)和帶膜基板的形態(tài)。圖15的上段表示在缺陷檢查工序中生成的膜信息。下面沿下段的掩模版的制造工序的流程，詳細(xì)說明取得與保存膜信息的方法。
(1)基板加工工序準(zhǔn)備已形成缺口標(biāo)記1的玻璃基板?？赏ㄟ^該缺口識別玻璃基板的玻璃種類。
例如，缺口標(biāo)記1具有實(shí)開昭62-17948號公報(bào)中所示的，通過在玻璃基板的角部將主表面和構(gòu)成該角部的兩個(gè)端面的三面切削成斜面形而形成的面形狀。還可通過所形成的缺口個(gè)數(shù)、形成位置用于識別構(gòu)成該玻璃基板的玻璃種類。
在本發(fā)明的實(shí)施方式中，缺口標(biāo)記1具有作為確定基板的方向性的基準(zhǔn)標(biāo)記的作用，以及在后述的缺陷檢查工序中取得的膜信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)的作用。
作為缺口標(biāo)記1的具體實(shí)例，可如圖16A所示，設(shè)置在基板的主表面一側(cè)的兩個(gè)角部。在對角位置上形成缺口標(biāo)記1的玻璃基板的玻璃種類是合成石英玻璃。
接著，磨削、研磨加工玻璃基板的表面，加工出所需要的表面粗度和平坦度。此外，為了去除研磨加工時(shí)使用過的研磨劑，清洗玻璃基板。
接著，將玻璃基板收容到貼有ID卡2′的工序內(nèi)流通用的匣2之中。下文將該匣稱為流通匣2。該ID卡是可寫入或讀出與流通匣及收容在流通匣中的基板或掩模版有關(guān)信息的信息管理裝置。ID卡是可記錄及保存信息的媒體。例如可使用IC卡。
可對該ID卡付與并使之保持管理收容在流通匣中的各基板或各掩模版的管理號碼，例如識別號碼。
作為該管理號碼，有付與每個(gè)流通匣的匣號、以及為了在該流通匣中收容多塊基板而設(shè)置的，與多個(gè)槽對應(yīng)付與的槽號。根據(jù)管理號碼可識別各基板，管理各基板。
付與ID卡的管理號碼具有使進(jìn)行下面的工序時(shí)取得的各工序的信息，例如在各自的薄膜檢查工序中生成的膜信息及在各自的薄膜形成工序中使用的制造條件及制造方法等與各基板對應(yīng)的作用。
此外，流通匣2設(shè)定為可區(qū)別匣的朝向，即可區(qū)別前后左右。此外，在流通匣2的彼此相向的兩個(gè)內(nèi)壁上，以規(guī)定的間隔形成多個(gè)上下方向延伸的槽，每個(gè)槽均可收容玻璃基板或掩模版。以缺口標(biāo)記為基準(zhǔn)，使玻璃基板或掩模版的方向一致后在每個(gè)槽中收容一塊。
具體而言，相對于流通匣2的規(guī)定位置，使玻璃基板上形成的缺口標(biāo)記1以規(guī)定關(guān)系配置進(jìn)行收容。匣內(nèi)的多塊玻璃基板或掩模版均朝著同一個(gè)方向排列及收容。
在本實(shí)施方式中，是以多塊玻璃基板的缺口標(biāo)記1抵達(dá)流通匣2的前側(cè)，靠近身邊的特定位置的方式收容的。
也就是說以付與流通匣2的前面為基準(zhǔn)，使形成缺口標(biāo)記1的基板面朝向匣前面排列的同時(shí)，從匣前面看，以收容的多塊玻璃基板的缺口標(biāo)記均具有相同的位置關(guān)系的形態(tài)進(jìn)行收容。
下一工序以后，在各工序間收容基板的流通匣的結(jié)構(gòu)均使用與上述的流通匣2具有相同結(jié)構(gòu)的。
(2)1次膜成膜工序使用進(jìn)行生產(chǎn)管理的主計(jì)算機(jī)，付與流通匣2隨帶的ID卡2′管理各基板的管理號碼。主計(jì)算機(jī)使付與ID卡的管理號碼與應(yīng)處理各基板的制造工序的順序，各工序中使用的制造條件彼此對應(yīng)。主計(jì)算機(jī)具有能夠收集制造工序內(nèi)的各裝置提供的信息(例如基板信息，膜信息等)并按照每個(gè)管理號碼記錄與保存的功能。
具體說，進(jìn)行生產(chǎn)管理的主計(jì)算機(jī)給各流通匣隨帶的各ID卡2′付與并記錄用來管理流通匣或收容的各基板的管理號碼。此外，該主計(jì)算機(jī)使付與ID卡2′的管理號碼與處理各基板的多種制造工序及檢查工序的順序、以及在這些工序中設(shè)定的制造條件等彼此對應(yīng)。該主計(jì)算機(jī)還具有可針對每塊基板收集從前述多種工序中取得的各工序的信息(例如基板信息、在各個(gè)薄膜的檢查工序中生成的膜信息，各個(gè)薄膜的形成工序中使用的制造條件及制造方法等)后記錄并保存的功能。
將收容在流通匣2內(nèi)的玻璃基板一塊一塊取出，以形成缺口標(biāo)記1一側(cè)的基板面朝上，未形成缺口標(biāo)記一側(cè)的基板面與濺射靶相向的方式將基板配置到濺射裝置的保持具上。
接著，使用MoSi的濺射靶在氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w氣氛中，采用(化學(xué))反應(yīng)性濺射法在玻璃基板面上形成作為移相膜的半色調(diào)膜。
成膜在與形成缺口標(biāo)記1的主表面相向的(反面的)玻璃基板的主表面上進(jìn)行。采用以上方法即可在玻璃基板表面上形成含MoSiN的作為半色調(diào)膜的移相膜。
基板的保持具上設(shè)有使基板主表面的周緣部的規(guī)定區(qū)域內(nèi)不形成MoSiN半色調(diào)膜的遮蔽裝置。
利用該遮蔽裝置，可在基板主表面上形成不形成MoSiN膜的規(guī)定區(qū)域，作為膜標(biāo)記3。
利用膜標(biāo)記3的形狀的不同及膜標(biāo)記的位置、配置等即可識別玻璃基板上形成的薄膜種類。在本實(shí)施方式中，使用半色調(diào)膜用的膜標(biāo)記。
膜標(biāo)記3與上述缺口標(biāo)記1相同，均可作為確定基板方向性的基準(zhǔn)標(biāo)記以及后述工序中取得的膜信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)使用。
作為膜標(biāo)記31的具體用例，如圖16B所示，可在與形成缺口標(biāo)記1一側(cè)相反一側(cè)的主表面上的兩個(gè)角部，按圖示設(shè)置。
將利用濺射裝置在玻璃基板表面形成了MoSiN膜的帶MoSiN半色調(diào)膜的基板收容到流通匣2以外的另一流通匣4之中。在流通匣4之中，以缺口標(biāo)記1或膜標(biāo)記3為基準(zhǔn)，使多塊帶半色調(diào)膜的基板方向一致后收容。
具體而言，以基板上形成的膜標(biāo)記3按規(guī)定關(guān)系排列在流通匣4的規(guī)定位置上進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式中，以多塊帶半色調(diào)膜的基板的膜標(biāo)記3抵達(dá)流通匣4后側(cè)的特定位置(圖15中為流通匣的下方)的方式進(jìn)行收容。
也就是說，以付與流通匣4的前面為基準(zhǔn)，使未形成膜標(biāo)記3一側(cè)的基板面朝向匣的前面，也就是說，以使形成缺口標(biāo)記1的基板面朝向匣的前面的方式排列基板的同時(shí)，從匣前面看，所收容的多塊基板的膜標(biāo)記3集中于同樣的位置關(guān)系(圖15中為流通匣的下方)后進(jìn)行收容。
1次膜成膜結(jié)束的信息按每一管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)中。
此外，付與上述ID卡2′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通匣4隨帶的ID卡4′。被轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡4′的管理號碼既可與付與ID卡2′的管理號碼相同，也可由主計(jì)算機(jī)付與新的管理號碼。后者的情況下，使付與ID卡2′的管理號碼和新付與ID卡4′的管理號碼彼此對應(yīng)后保存到主計(jì)算機(jī)之中。
(3)1次膜檢查工序該工序包括取得1次膜的薄膜信息的工序和把取得的膜信息記錄保存到信息存儲媒體中的薄膜信息記錄工序。
取出收容在流通匣4中的帶半色調(diào)膜的基板，將基板放置到檢查1次膜(MoSiN半色調(diào)膜)的缺陷的缺陷檢查裝置中。
以形成缺口標(biāo)記1的面朝下，形成膜標(biāo)記3的面朝上的方式，將基板放置到保持具上。
然后，利用1次膜的缺陷檢查裝置掃描膜的表面，取得與該1次膜有關(guān)的膜信息。
膜信息是與膜的狀態(tài)有關(guān)的狀態(tài)信息，是通過掃描膜的表面取得的膜的表面信息。作為膜信息，有表面形態(tài)信息及光學(xué)特性信息。取得的膜信息采用可通過投影到平面上作為二維的面信息掌握的構(gòu)成。
有可能在掩模制造工序中引起圖案不良的缺陷位置信息(例如平面座標(biāo)系中的X座標(biāo)、Y座標(biāo))、缺陷大小、缺陷種類等可通過缺陷檢查裝置逐一判定，其結(jié)果可按管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中。
這時(shí)，缺陷的大小既可以直接保存直徑等表示缺陷大小的測定值，還可預(yù)先規(guī)定用來分類缺陷大小的多個(gè)等級，將該等級作為缺陷的大小保存。
缺陷的種類可分類為突起形狀、凹陷形狀、其它缺陷等進(jìn)行保存。作為突起形狀有顆粒形的缺陷，作為凹陷形狀有針孔形的缺陷。
所謂顆粒形的缺陷是指膜上或膜中附著了異物(例如顆粒狀物質(zhì))狀態(tài)的缺陷，所謂針孔形缺陷是指附著在膜中的異物脫落后的痕跡，膜缺失狀態(tài)的缺陷。膜缺失有兩種，一種是可確認(rèn)膜底下的狀態(tài)的完全沒有膜的狀態(tài)，另一種是不能確認(rèn)膜底下的狀態(tài)，膜厚局部變薄的狀態(tài)。
位置信息以缺口標(biāo)記1為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸，計(jì)算出玻璃基板主表面的中心后將此作為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，將穿過該基準(zhǔn)點(diǎn)，平行于玻璃基板各邊的線作為假想的X軸、Y軸的XY座標(biāo)系中的各缺陷的X座標(biāo)，Y座標(biāo)保存。
具體為，上述缺陷位置信息首先以缺口標(biāo)記1的位置為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸，例如邊長，計(jì)算出玻璃基板主表面的中心，將此定為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，接著，以該基準(zhǔn)點(diǎn)(0)為原點(diǎn)，決定沿垂直的玻璃基板邊的垂直平面座標(biāo)系(XY座標(biāo)系)，最后，計(jì)算出該二維的XY座標(biāo)系中各缺陷的X座標(biāo)位置，Y座標(biāo)位置，以該X座標(biāo)、Y座標(biāo)的值進(jìn)行保存。
此處取得的薄膜的膜信息稱之為1次膜膜信息。
將缺陷檢查完畢的帶半色調(diào)膜的基板收容到流通匣4以外的流通匣5中。以缺口標(biāo)記1或膜標(biāo)記3為基準(zhǔn)，使多塊帶半色調(diào)膜的基板方向一致后收容到流通匣5中。
具體而言，使基板上形成的膜標(biāo)記3以規(guī)定關(guān)系配置在流通匣5的規(guī)定位置上進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式中，以多塊帶半色調(diào)膜的基板的膜標(biāo)記3抵達(dá)后側(cè)的特定位置(圖15中為流通匣的下方)的形態(tài)收容在流通匣5中。
也就是說，以付與流通匣5的前面為基準(zhǔn)，使形成缺口標(biāo)記的基板面朝匣前面，形成膜標(biāo)記3的面朝向與匣前面相反一側(cè)排列的同時(shí)，從匣前面看，以膜標(biāo)記3均集中于同樣的位置關(guān)系(圖15中為流通匣下方)的形態(tài)進(jìn)行收容。
由于在檢查前，收容方法受到多塊基板的收容方向均集中于規(guī)定方向的管理，因而在檢查工序中取得的面信息的方向性、座標(biāo)系和基準(zhǔn)點(diǎn)均可在供檢查的多塊基板間取得統(tǒng)一的信息。
由于在檢查后，收容方法受到多塊基板的收容方向均集中于規(guī)定方向上的管理，因而即使在下面的工序中，仍可保持供處理的基板的方向性(朝向)。
與此同時(shí)，付與上述ID卡4′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通匣5的ID卡5′。而且如上文所述，轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡5′的管理號碼既可與付與ID卡4′的管理號碼相同，也可付與新的管理號碼。
收容在匣中的多塊基板以匣為單位傳送給下道工序。
(4)2次膜成膜工序接著，將收容在流通匣5中的帶半色調(diào)膜的基板的放置到聯(lián)機(jī)型濺射裝置的保持具上。這時(shí)，以形成缺口標(biāo)記1一側(cè)的基板表面朝上，形成膜標(biāo)記3一側(cè)的面朝下的形態(tài)放置在保持具上。
使用鉻(Cr)濺射靶，在氬氣或氬氣和氧氣以及/或者氮?dú)獾幕旌蠚怏w氣氛中，使用(化學(xué))反應(yīng)性濺射法，在作為1次膜的MoSiN半色調(diào)膜上形成作為2次膜的含Cr的遮光膜(下文稱之為Cr遮光膜)。
為了使基板主表面周緣部的規(guī)定區(qū)域內(nèi)不形成Cr遮光膜，在基板保持具上設(shè)有遮蔽裝置。因此可在MoSiN半色調(diào)膜上形成不形成Cr遮光膜的規(guī)定區(qū)域，付與膜標(biāo)記6。利用該膜標(biāo)記6的形狀，可識別膜的種類。在本實(shí)施方式中利用付與Cr遮光膜用的膜標(biāo)記。
此外，在Cr遮光膜上形成的膜標(biāo)記6與在玻璃基板上形成的缺口標(biāo)記1及在半色調(diào)膜上形成的膜標(biāo)記3相同，均可作為用來確定基板方向的基準(zhǔn)標(biāo)記及作為后述的缺陷檢查工序中取得的膜信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)使用。
在本實(shí)施方式中，MoSiN半色調(diào)膜全部被Cr遮光膜覆蓋。因此，從基板形成膜的一側(cè)的面上很難看到膜標(biāo)記3。但付與半色調(diào)膜的膜標(biāo)記3，可從基板相反一側(cè)的主表面透過玻璃基板確認(rèn)。當(dāng)利用膜標(biāo)記3確定基板的方向性的情況下，可從基板未形成膜的一側(cè)利用。
將利用聯(lián)機(jī)型濺射裝置在MoSiN半色調(diào)膜上形成的帶Cr遮光膜的基板收容到流通匣5以外的流通匣7中。以膜標(biāo)記6為基準(zhǔn)，使多塊帶Cr遮光膜的基板方向一致后收容到流通匣7之中。
具體而言，以基板上形成的膜標(biāo)記6以規(guī)定關(guān)系配置在流通匣7的規(guī)定位置上的方式進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式中，以多塊帶Cr遮光膜基板的膜標(biāo)記6抵達(dá)后側(cè)的特定位置(圖15中的流通匣上方)的形態(tài)收容在流通匣7中。
也就是說，以付與流通匣7的前面為基準(zhǔn)，以形成膜標(biāo)記6的一側(cè)的面朝向與匣前面相反的一側(cè)，以形成缺口標(biāo)記1一側(cè)的面朝向匣前一側(cè)的形態(tài)排列多塊基板。從匣前面看，使收容的多塊基板的膜標(biāo)記6均具有相同位置關(guān)系的形態(tài)(圖15中為流通匣上方)進(jìn)行收容。
此外，2次膜成膜結(jié)束的信息按每一管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中。付與上述ID卡5′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通匣7隨帶的ID卡7′。如上所述，被轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡7′的管理號碼既可與付與ID卡5′的管理號碼相同，也可付與新的管理號碼。
在基板上層合了1次膜、2次膜的帶膜基板被收容到匣7中之后，運(yùn)送給下道工序。
(5)2次膜檢查工序該工序是與1次膜檢查工序相同的工序。該工序包括取得2次膜的薄膜信息的工序，將取得的膜信息記錄保存到信息存儲媒體中的薄膜信息記錄工序。
將收容在流通匣7中的帶Cr遮光膜的基板安裝到檢查2次膜(Cr遮光膜)的缺陷的檢查裝置的基板承載載物臺上。這時(shí)，以使形成缺口標(biāo)記1的面朝下，形成膜標(biāo)記6的面朝上的形態(tài)承載的同時(shí)，以缺口標(biāo)記1相對于承載載物臺處于規(guī)定位置的方式配置基板。
與前述1次膜的缺陷檢查相同，進(jìn)行2次膜的缺陷檢查，取得2次膜的膜信息。利用2次膜的缺陷檢查裝置掃描膜的表面，取得與該2次膜有關(guān)的膜信息。
膜信息是與膜的狀態(tài)有關(guān)的狀態(tài)信息，是通過掃描膜的表面取得的膜的表面信息。作為膜信息有表面形態(tài)信息及光學(xué)特性信息。取得的膜信息投影到平面上，即可作為二維的面信息進(jìn)行掌握。
有可能在掩模制造工序中引起圖案不良的缺陷的位置信息(例如平面座標(biāo)系中的X座標(biāo)、Y座標(biāo))、缺陷的大小、缺陷的種類等可通過缺陷檢查裝置判定，其結(jié)果按管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中。
缺陷的大小可將缺陷的尺寸個(gè)別保存，但也可用規(guī)定的尺寸級別表示。
缺陷的種類可分類為突起形狀、凹陷形狀、其它缺陷等保存。作為突起形狀有顆粒形狀的缺陷，作為凹陷形狀有針孔形缺陷。
顆粒形的缺陷是指在膜上或膜中附著異物(例如粒狀物質(zhì)等)狀態(tài)的缺陷，針孔形缺陷是指附著在膜中的異物脫落后的痕跡，膜缺失狀態(tài)的缺陷。膜缺失有兩種，一種是能夠確認(rèn)膜底下的狀態(tài)的完全沒有膜的狀態(tài)，另一種是不能確認(rèn)膜底下的狀態(tài)，膜厚局部變薄的狀態(tài)。
位置信息以缺口標(biāo)記1為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸，計(jì)算出玻璃基板主表面的中心后將以此為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，穿過該基準(zhǔn)點(diǎn)，平行于玻璃基板的各邊的線作為假想的X軸、Y軸的XY座標(biāo)系中的各缺陷的X座標(biāo)、Y座標(biāo)保存。
上述缺陷的位置信息與1次膜檢查工序相同，首先，以缺口標(biāo)記1的位置為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸、例如邊長，計(jì)算出玻璃基板主表面的中心，將此定為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，接著，以該基準(zhǔn)點(diǎn)(0)為原點(diǎn)，決定沿垂直的玻璃基板的邊的平面直角座標(biāo)系(XY座標(biāo)系)，最后，在該二維的XY座標(biāo)系中，計(jì)算出各缺陷的X座標(biāo)位置、Y座標(biāo)位置，以該X座標(biāo)、Y座標(biāo)的值加以保存。將此處取得的膜信息稱之為2次膜膜信息。
將缺陷檢查完畢的帶Cr遮光膜的基板收容到流通匣7以外的流通匣8中。以膜標(biāo)記6為基準(zhǔn)使多塊帶Cr遮光膜的基板方向一致后收容到流通匣8中。
具體而言，使基板上形成的膜標(biāo)記6以規(guī)定關(guān)系配置到流通匣8的規(guī)定位置上進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式中，以多塊帶Cr遮光膜的基板的膜標(biāo)記6抵達(dá)后側(cè)的特定位置(圖15中為流通匣的上方)的形態(tài)收容在流通匣8之中。
也就是說，以付與流通匣8的匣前面為基準(zhǔn)，使形成膜標(biāo)記6的面朝向與匣前面相反一側(cè)，即形成缺口標(biāo)記1的面朝向匣前面排列。此外，從匣前面看，以收容的多塊基板的膜標(biāo)記6均具有相同的位置關(guān)系的形態(tài)(圖15中為流通匣的上方)進(jìn)行收容。
由于在檢查前，收容方法受到多塊基板的收容方向均集中于規(guī)定方向的管理，因而在檢查工序中取得的面信息的方向性、座標(biāo)系和基準(zhǔn)點(diǎn)均可在供檢查的多塊基板間取得統(tǒng)一的信息。
由于在檢查后，收容方法受到使多塊基板的收容方向均集中在規(guī)定方向上的管理，因而即使在下面的工序中仍可維持供處理的基板的方向性(朝向)。
付與上述ID卡7′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通匣8隨帶的ID卡8′而正如上述，轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡8′的管理號碼既可與付與ID卡7′的管理號碼相同，也可以付與新的管理號碼。
收容在匣中的多塊基板以匣為單位傳送給下道工序。
(6)抗蝕劑膜成膜工序把收容在流通匣8內(nèi)的帶Cr遮光膜基板運(yùn)入旋轉(zhuǎn)涂布裝置，用旋轉(zhuǎn)涂布法在2次膜上涂布抗蝕劑膜，經(jīng)烘干，冷卻形成抗蝕劑膜。
采有以上方法即可制作出層合了基板、1次膜、2次膜，抗蝕劑膜的掩模版。根據(jù)需要，有些情況下也可不形成抗蝕劑膜。
將制作出的掩模版收容進(jìn)流通匣8以外的流通匣9。以膜標(biāo)記6為基準(zhǔn)，使多塊掩模版的方向一致后收容到流通匣9之中。
具體而言，使基板上形成的膜標(biāo)記6以規(guī)定關(guān)系配置在流通匣9的規(guī)定位置上進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式之中，以多塊掩模版的膜標(biāo)記6抵達(dá)后側(cè)的特定位置(圖15中為流通匣的上方)的形態(tài)收容在流通匣9之中。
也就是說，以流通匣9的匣前面為基準(zhǔn)，使形成膜標(biāo)記6的面朝向與匣前面相反一側(cè)，也就是說使形成缺口標(biāo)記1的面朝向匣前面排列的同時(shí)，從匣前面看，以收容的多塊基板的膜標(biāo)記6均具有相同的位置關(guān)系的形態(tài)進(jìn)行收容。
此外，抗蝕劑膜成膜結(jié)束的信息，按每個(gè)基板號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中。付與上述ID卡8′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通箱9隨帶的ID卡9′。并如上述，轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡9′的管理號碼既可與付與ID卡8′的管理號碼相同，也可以付與新的管理號碼。
(7)抗蝕劑膜檢查工序該工序是與1次膜檢查工序、2次膜檢查工序相同的工序。該工序包括取得抗蝕劑膜的薄膜信息的工序、以及將取得的膜信息記錄保存到信息存儲媒體之中的薄膜信息記錄工序。
將收容在流通匣9中的帶抗蝕劑膜的基板(掩模版)安裝到檢查抗蝕劑膜的缺陷的缺陷檢查裝置的承載基板的載物臺上。
這時(shí)，使形成缺口標(biāo)記1的面朝下，形成膜標(biāo)記6的面朝上，放置在該載物臺上。此外，缺口標(biāo)記1以規(guī)定位置配置在載物臺上進(jìn)行安裝。
通過抗蝕劑膜的缺陷檢查，取得抗蝕劑膜的膜信息。利用抗蝕劑膜的缺陷檢查裝置掃描膜的表面，取得與該抗蝕劑膜有關(guān)的信息。
膜信息是與膜的狀態(tài)有關(guān)的狀態(tài)信息，是通過掃描膜的表面取得的膜的表面信息。作為膜信息，有表面形態(tài)信息及光學(xué)特性信息。取得的膜信息采用可通過投影到平面上作為二維的面信息掌握的構(gòu)成。
有可能在掩模制造工序中引起圖案不良的缺陷位置信息(例如平面座標(biāo)中的X座標(biāo)、Y座標(biāo))、缺陷大小、缺陷種類等可通過缺陷檢查裝置判定，其結(jié)果可按每個(gè)管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中。
位置信息以缺口標(biāo)記1為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸，計(jì)算出玻璃基板主表面的中心后將此作為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，將穿過該基準(zhǔn)點(diǎn)平行于玻璃基板各邊的線作為假想的X軸、Y軸的XY座標(biāo)座系中的各缺陷的X座標(biāo)、Y座標(biāo)保存。
而上述缺陷位置信息與上述1次膜檢查工序、2次膜檢查工序相同，首先，以缺口標(biāo)記1的位置為基準(zhǔn)，根據(jù)玻璃基板的尺寸(邊長)；計(jì)算出玻璃基板主表面的中心，將此定為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，接著，以該基準(zhǔn)點(diǎn)(0)為原點(diǎn)，決定沿垂直的玻璃基板的邊的直角座標(biāo)系(XY座標(biāo)系)，最后，計(jì)算出該XY座標(biāo)系中各缺陷的X座標(biāo)位置、Y座標(biāo)位置，以該X座標(biāo)Y座標(biāo)的值進(jìn)行保存。此處取得的膜信息稱之為抗蝕劑膜信息。
將缺陷檢查完畢的掩模版收容到流通匣9以外的流通匣10中。以膜標(biāo)記6為基準(zhǔn)，使多塊掩模版的方向一致后收容到流通匣10之中。
具體而言，使基板上形成的膜標(biāo)記6以規(guī)定的關(guān)系配置在流通匣10的規(guī)定位置上進(jìn)行收容。
在本實(shí)施方式中，以多塊掩模版的膜標(biāo)記6抵達(dá)后側(cè)的特定位置(圖15中的流通匣的上方)的形態(tài)收容在流通匣10中。也就是說，以流通匣10的匣前面為基準(zhǔn)，使形成膜標(biāo)記6的面朝向與匣的前面相反的方向，即，以形成缺口標(biāo)記1的面朝向匣的前面，排列多塊掩模版，從匣前面看，使收容的多塊基板的膜標(biāo)記的均處于用同一位置關(guān)系(圖15中的流通匣上方)的形態(tài)進(jìn)行收容。
由于在檢查前，收容方法受到多塊掩模版的收容方向均處于規(guī)定方向的管理，因而在檢查工序中取得的面信息的方向性、座標(biāo)系和基準(zhǔn)點(diǎn)可在供檢查的多塊掩模版間取得統(tǒng)一的信息。
由于在檢查后，收容方法受到多塊掩模版的收容方向均處于規(guī)定方向的管理，因而即使在下道工序中仍可維持掩模版的方向性(朝向)。
付與上述ID卡9′的管理號碼的信息被轉(zhuǎn)發(fā)給流通匣10隨帶的ID卡10′。而且如上文所述，轉(zhuǎn)發(fā)給ID卡10′的管理號碼既可與付與ID卡9′的管理號碼相同，也可付與新的管理號碼。
(8)膜信息的比照工序?qū)⒎謩e取得的膜信息與在玻璃基板上依次成膜的1次膜、2次膜、抗蝕劑膜的各層薄膜彼此進(jìn)行比照。此外，取得了基板信息的情況下，可比照基板信息和膜信息。
與被比照的掩模版有關(guān)的膜信息可通過號碼確定。
在本發(fā)明之中，膜信息可以作為面信息取得。該面信息中的位置基準(zhǔn)點(diǎn)可通過以與設(shè)置在基板或掩模版上，可構(gòu)成基準(zhǔn)標(biāo)記的缺口標(biāo)記及膜標(biāo)記具有規(guī)定關(guān)系來取得。此外，取得膜信息、面信息時(shí)，可通過使基板或掩模版的方向全都一致來取得信息。
通過彼此比照1次膜膜信息、2次膜膜信息，抗蝕劑膜膜信息，即可驗(yàn)證各種膜信息是否構(gòu)成具有一致朝向的面信息。此外，可根據(jù)驗(yàn)證結(jié)果，使各種膜信息的朝向一致。
具體而言，在成膜工序的前后，能以基板上的位置不變的，即處于同一位置的形態(tài)為基準(zhǔn)比照各膜的膜信息。
例如，當(dāng)作為最下層膜的1次膜上存在缺陷等特定形狀的情況下，由于1次膜的形態(tài)也將反映在與1次膜相比更靠上層的2次膜、抗蝕劑膜上，因此，通過以1次膜信息為基準(zhǔn)，比照其它膜信息的方向性，即位置信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系是否相互一致即可進(jìn)行確認(rèn)。
例如，由于當(dāng)最下層的1次膜上有缺陷的情況下，比1次膜靠上層的2次膜、抗蝕劑膜上也將產(chǎn)生缺陷，因此，以1次膜信息中所含的缺陷為基準(zhǔn)就可判定其它膜信息的方向是否正確。
圖17是比照1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息時(shí)的例子。在圖17之中是以在1次膜膜信息，2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息中共同檢出的缺陷為基準(zhǔn)的。詳細(xì)情況為，是以基板上的位置座標(biāo)不變，處于同一位置的缺陷(□、△、×重合的位置)為基準(zhǔn)，比照2次膜、抗蝕劑膜的膜信息的例子。
通過此種膜信息的比照即可使各個(gè)膜信息的方向性(朝向)也就是可使位置信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系一致。
不過，例如在把基板從某個(gè)流通匣轉(zhuǎn)移到其它流通匣中時(shí)，有可能在收容到流通匣中時(shí)搞錯(cuò)基板的方向性。此外，在把基板從流通匣轉(zhuǎn)移到各檢查裝置，或從各檢查裝置轉(zhuǎn)移到流通匣中時(shí)，也可能在裝卸時(shí)搞錯(cuò)基板的方向性。在此類情況下，膜信息和掩模版的方向性有可能不一致。
為了避免此種可能性，在流通匣及收容箱中取放基板及掩模版時(shí)，其操作者將缺口標(biāo)記1、膜標(biāo)記3及6作為表示基板方向的基準(zhǔn)標(biāo)記，按照預(yù)先規(guī)定的方向性(朝向)取放基板及掩模版。
具體而言，如前所述，使多塊基板及掩模版的缺口標(biāo)記朝向流通匣前側(cè)，排列在各工序間收容基板及掩模版的流通匣中，此外，從匣前側(cè)看，使缺口標(biāo)記均處于規(guī)定位置收容基板及掩模版即可。
為了方便起見，前文介紹了付與匣前側(cè)顯示的情況，但如果排列能保證箱的方向肯定相同，不一定要有可看到的前側(cè)顯示。此外，如果能通過主計(jì)算機(jī)掌握與管理匣的朝向，不一定要有可看到的前側(cè)顯示。
以膜標(biāo)記3配置在流通匣內(nèi)的下方位置，膜標(biāo)記6配置在流通匣內(nèi)的上方位置的形態(tài)收容基板及掩模版。
此外，將基板及掩模版設(shè)置到各膜的缺陷檢查裝置中時(shí)，以缺口標(biāo)記及膜標(biāo)記朝向規(guī)定的方向放置在載物臺上，還有，放置時(shí)應(yīng)使缺口標(biāo)記及膜標(biāo)記抵達(dá)載物臺上的規(guī)定位置，進(jìn)行規(guī)定的檢查即可。
采用以上辦法即可防止膜信息間的方向性(朝向)不一致。此外，還可預(yù)先防止膜信息的方向性(朝向)與收容的掩模版的方向性(朝向)不一致。
通過使掩模版制造過程中的基板、掩模版的方向性(朝向)保持一定，可使掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系一致，還可使該掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系和各膜的膜信息的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系一致。
如上所述，由于可構(gòu)成包含在膜信息、基板信息中的位置信息的面座標(biāo)及位置基準(zhǔn)點(diǎn)可相互關(guān)聯(lián)的掩模版信息，因而該掩模版信息可作為掩模版體內(nèi)的內(nèi)部立體信息看待。
還有，由于經(jīng)過了上述比照工序，因而可作為可靠性高的掩模版體內(nèi)的立體信息加以保證。
(9)掩模版打包工序?qū)⒀谀０媸杖莸绞杖菹?0中后打包，配送給掩模制造廠。
此處參照圖18A及圖18B說明該收容箱20，各個(gè)收容箱20上均隨帶著付與的固有箱號21。
該箱號21與后述的槽號一道，與在上述掩模版的制造過程中，為了使各基板和各工序的信息(例如膜信息)對應(yīng)而付與的管理號碼彼此關(guān)聯(lián)后付與。此外，箱號21與保存在主計(jì)算機(jī)中的各膜的膜信息或基板信息具有對應(yīng)關(guān)系。
箱號21可由收容箱20附上，但箱號21的附帶并不局限于印刷品等視力可識別的形態(tài)，例如也可使用條碼、磁記錄媒體、IC芯片、IC卡等可讀取的媒體附帶。
收容箱20由箱蓋22和外箱23構(gòu)成，采用外箱23中還收容了內(nèi)箱24的構(gòu)成。內(nèi)箱24形成自上而下由多個(gè)槽構(gòu)成的槽25，在槽25之間以一定間隔形多個(gè)槽，這些槽中即可收容掩模版。
隔板25雖是掩模版間的間隔板，但為了便于下文的說明，把相鄰兩個(gè)間隔板25間形成的容納基板的槽也稱之槽(slot)。從這個(gè)意義上說，圖18B中有5個(gè)用于容納5塊基板的槽，即5個(gè)槽。
與各槽相對應(yīng)，付與槽號，分別稱之為1號槽、2號槽、...5號槽。在外箱23的外表面上靠近1號槽的面上貼有表示收容箱20朝向的前面顯示26。
掩模版以掩模版上形成的缺口標(biāo)記1配置在前面顯示26一側(cè)的特定位置的方式配置在各槽(1號槽、2號槽、....5號槽)之中，并以膜標(biāo)記3配置在收容箱下方，膜標(biāo)記6配置在收容箱上方的方式收容及打包。
通過組合上述箱號及槽號即可個(gè)體識別收容在收容箱中的掩模版。并可利用該箱號及槽號，與保存在主計(jì)算機(jī)中的各膜的膜信息或基板信息對應(yīng)，確定掩模版信息。
如上所述，在打包工序之中同樣可通過以使掩模版上形成的缺口標(biāo)記1配置在前面顯示26一側(cè)的特定位置上，使膜標(biāo)記3配置在收容箱的下方，膜標(biāo)記6配置在收容箱6上方的方式進(jìn)行收容，即可使各掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系和各膜的膜信息或基板信息的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)系一致。
因而能夠使掩模版?zhèn)€體和與該掩模版?zhèn)€體有關(guān)的掩模版信息正確對應(yīng)，防止掩模制作時(shí)的圖案不良。
此外，掩模制作者不僅可掌握掩模版的表面信息，還可掌握掩模版的內(nèi)部狀態(tài)。
下面參照圖19說明收容在結(jié)束了版打包工序的收容箱內(nèi)的掩模版、和該掩模版的膜信息提供給掩模制造廠的掩模版提供方法、以及掩模制作支援系統(tǒng)。
如上所述，使按照每個(gè)管理號碼保存在主計(jì)算機(jī)之中的包括1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息在內(nèi)的掩模版的個(gè)體信息(掩模版信息)與用箱號及槽號確定的掩模個(gè)體對應(yīng)，與收容在收容箱中的多塊掩模版一道提供給掩模制造廠。
掩模版信息的提供方法有(a)在收容箱中隨帶印刷了信息的印刷物，(b)將記錄了信息數(shù)據(jù)的軟盤、CD-ROM等記錄媒體隨帶到收容箱20之中。
(c)通過數(shù)據(jù)通信線路，把信息數(shù)據(jù)發(fā)送給配送目的地的掩模制造廠的計(jì)算機(jī)等。
(a)及(b)的情況下，將信息本身與槽號碼的對應(yīng)關(guān)系一并隨帶在收容箱20中。(c)的情況下，由掩模制造廠發(fā)送箱號及槽號，通過接收相應(yīng)的信息接受提供。
而信息正如圖17所示，既可以是可視覺性看清各缺陷如何配置的圖，也可以是各缺陷的種類、缺陷的尺寸，缺陷的位置信息(X座標(biāo)、Y座標(biāo))的數(shù)據(jù)表。信息通常是以各膜的膜信息為單位提供給掩模制造廠的，但也可如圖17所示，將各膜的信息制作成1張缺陷圖提供給掩模制造廠。
如上所述，作為面信息取得的基板信息或膜信息中的位置信息，例如缺陷的位置信息在該實(shí)施方式中，以缺口標(biāo)記1為基準(zhǔn)，計(jì)算出基板主表面的中心后，將此作為基準(zhǔn)點(diǎn)(0)，用穿過該基準(zhǔn)點(diǎn)的XY座標(biāo)系中的各缺陷的X座標(biāo)、Y座標(biāo)表示，此外，由于收容在收容箱中的掩模版也是以缺口標(biāo)記1均處于抵達(dá)收容箱的特定位置的方式收容，因而可掌握收容在收容箱中的掩模版上的基準(zhǔn)點(diǎn)、座標(biāo)系、和位置信息中的基準(zhǔn)點(diǎn)、座標(biāo)的對應(yīng)關(guān)系，或者以一致的狀態(tài)提供給掩模制造廠。
如上所述，可將與每一個(gè)掩模版對應(yīng)的掩模版信息提供給掩模制造廠。被提供的掩模版?zhèn)€體以其位置基準(zhǔn)點(diǎn)及座標(biāo)系與版膜信息的位置基準(zhǔn)點(diǎn)及座標(biāo)系對應(yīng)的關(guān)系提供給掩模制造廠。
掩模制造廠利用用來確定箱號及槽號、管理號碼及管理標(biāo)記等間接性付與掩模版的裝置，個(gè)體識別所提供的掩模版，即能夠以處于前述規(guī)定關(guān)系的基準(zhǔn)點(diǎn)及座標(biāo)系為媒介，比照所提供的掩模版和掩模版信息。此外，能夠以處于前述規(guī)定關(guān)系的基準(zhǔn)點(diǎn)及座標(biāo)系為媒介，準(zhǔn)確掌握一個(gè)又一個(gè)掩模版的表面形態(tài)等狀態(tài)。
因此，能夠根據(jù)需要適當(dāng)確定適合形成規(guī)定的復(fù)制圖案(掩模圖案)的掩模版上的區(qū)域。因而能夠抑制應(yīng)形成的圖案的圖案形成不良。
掩模制造廠在提供來的掩模版上確定形成包括復(fù)制圖案在內(nèi)的掩模圖案的區(qū)域，即可在掩模版上形成的薄膜上繪制圖案，制作復(fù)制掩模。
下面將用上述(c)的數(shù)據(jù)通信線路提供信息的提供方法作為具體例參照圖19說明本發(fā)明的掩模制作支援系統(tǒng)110。
從圖19可知，掩模制作支援系統(tǒng)110由下述三部分構(gòu)成掩模版制造廠111、以掩模版制造廠111中制造的掩模版為基礎(chǔ)制造掩模的掩模制造廠112、連接兩個(gè)制造廠的數(shù)據(jù)通信線路113。此外，掩模版制造廠111由主計(jì)算機(jī)51及服務(wù)器114構(gòu)成。
在掩模版制造廠111中制造出的掩模版收容到收容箱10中后即可配送給掩模制造廠112。主計(jì)算機(jī)51是前述的掩模版生產(chǎn)線控制系統(tǒng)50的主計(jì)算機(jī)51。
服務(wù)器114，從主計(jì)算機(jī)51接收所需信息(膜信息等)，使之與確定配送給掩模制造廠112的掩模版的箱號和槽號和膜信息對應(yīng)后保存，通過互聯(lián)網(wǎng)113將規(guī)定信息提供給遠(yuǎn)在外地的掩模制造廠112的主計(jì)算機(jī)。
也可在主計(jì)算機(jī)51之中使確定配送給掩模制造廠112的掩模版的箱號和槽號和膜信息等的掩模版信息對應(yīng)后保存。
下面參照圖20，舉例說明具有掩模制造廠112利用掩模制作支援系統(tǒng)110中接收的信息，在掩模版的抗蝕劑膜上繪制圖案與顯影處理工序的掩模制造工序。
收到收容箱10的掩模制造廠112的操作者通過目力識別或機(jī)器讀取，從收容箱10取得箱號之后，使用計(jì)算機(jī)等數(shù)據(jù)通信裝置，通過互聯(lián)網(wǎng)等的數(shù)據(jù)通信線路113，把箱號發(fā)送給服務(wù)器114。與之相對應(yīng)，服務(wù)器114使收容在該箱號的收容箱的各槽中的掩模版的膜信息與箱號、槽號對應(yīng)后發(fā)回(步驟S121)。
作為數(shù)據(jù)通信的方式有多種方式，例如也可通過電子信箱傳送雙方用于個(gè)體識別箱號及槽號等的信息和膜信息等掩模版信息。
或者，也可在服務(wù)器114中設(shè)置表示與收容在該箱號的收容箱的各槽內(nèi)的掩模版的信息的對應(yīng)關(guān)系的數(shù)據(jù)庫，回復(fù)與掩模制造廠112一側(cè)輸入的箱號對應(yīng)的膜信息等掩模版信息。
在該階段內(nèi)，掩模版具有圖21A所示的剖面，呈在玻璃基板上層合了1次膜(半色調(diào)膜)、2次膜(遮光膜)、抗蝕劑膜等多層膜的狀態(tài)。
接收到膜信息的掩模制造廠112將準(zhǔn)備制造的掩模的掩模圖案數(shù)據(jù)與取得的膜信息進(jìn)行比照(步驟S122)。
如上所述，這時(shí)，掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)XY座標(biāo)系和膜信息中的位置信息的基準(zhǔn)點(diǎn)、XY座標(biāo)對應(yīng)，通過比照膜信息和掩模圖案數(shù)據(jù)，即可決定掩模圖案在掩模版上的配置。
另外，假定掩模制造廠112、從掩模版制造廠111接收到掩模版信息141，并正準(zhǔn)備繪制掩模圖案142。掩模版信息141包括1次膜膜信息、2次膜膜信息、抗蝕劑膜膜信息。
一般而言，正如圖22所示，掩模上形成的掩模圖案具有圖案密度高的密集圖案區(qū)域143和圖案密度低的稀疏圖案區(qū)域144。
作為具有掩模圖案為形成密集圖案的區(qū)域143和形成稀疏圖案的區(qū)域144的掩模有系統(tǒng)LSI制造用掩模等。
尤其是作為稀疏圖案形成區(qū)域，具有為進(jìn)行電特性試驗(yàn)而形成的監(jiān)視芯片形成區(qū)域的掩模圖案的情況下，本發(fā)明的掩模制作支援方法特別有效。
另外，一般說來，有可能在掩模制造工序中造成圖案不良的掩模版的缺陷，具體而言，針孔及顆粒大多并非均勻分布，而是不均勻分布。
通過參照接收到的作為掩模版信息的膜信息141，調(diào)整并決定圖案繪制位置以便把造成圖案不良的針孔及顆粒配置到掩模圖案數(shù)據(jù)中的密集圖案形成區(qū)域143以外的區(qū)域(步驟S123)。
圖案繪制位置的調(diào)整方法有變更與掩模版的朝向相對應(yīng)的掩模圖案142的朝向。此外，如果密集圖案形成區(qū)域143和稀疏圖案形成區(qū)域144的相對位置關(guān)系可變，也可通過變更此進(jìn)行調(diào)整。
最后，按照決定后的圖案繪制位置，通過在抗蝕劑膜上繪制圖案及顯影，即可獲得玻璃基板上形成了掩模圖案(復(fù)制圖案)的掩模(步驟S124)。
由于經(jīng)過上述步驟S121～124制作出的掩模將有可能造成掩模版中的圖案不良的針孔及顆粒配置在稀疏圖案形成區(qū)域內(nèi)，因而可抑制掩模圖案的圖案形成不良。
下面參照圖23詳細(xì)說明在上述實(shí)施方式中，主計(jì)算機(jī)51從各裝置中收集各工序的信息(例如在各自的檢查工序中生成的基板信息、膜信息及制造條件、方法等信息)的掩模版生產(chǎn)線控制系統(tǒng)50的一例。
從圖23可知，掩模版生產(chǎn)控制系統(tǒng)50由下述各部分構(gòu)成主計(jì)算機(jī)51、匣號及槽號付與裝置52(下文標(biāo)示為付與裝置52)，1次膜成膜裝置53、1次膜缺陷檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜缺陷檢查裝置56、抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58。
流通匣為了能夠收容多塊基板，以規(guī)定間隔形成上下方向上的多個(gè)槽的同時(shí)，還配置有ID卡。ID卡內(nèi)可付與管理收容在流通匣中的各基板的信息。具體而言，可記錄流通匣的匣號。
從圖24可知，把基板投入生產(chǎn)線時(shí)，將基板收容進(jìn)流通匣的各槽之中，用付與裝置52，由輸入部521將匣號、槽號、工序流程輸入ID卡。
工序流程由工序順序、工序中使用的裝置名稱、與在各裝置中進(jìn)行的處理的處理?xiàng)l件對應(yīng)的方法號構(gòu)成，按照準(zhǔn)備生產(chǎn)的掩模版以流通匣為單位提供。在生產(chǎn)線上，基板的確定可用工序內(nèi)的位置、匣號、槽號進(jìn)行。
付與裝置52將匣號寫入流通匣的ID卡的同時(shí)，通過數(shù)據(jù)收發(fā)信部522將匣號、槽號以及工序流程發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51從圖25可知，主計(jì)算機(jī)51用數(shù)據(jù)收發(fā)信部511接收付與裝置52發(fā)送來的數(shù)據(jù)后，使匣號、槽號以及工序流程彼此關(guān)聯(lián)后存儲到工序流程存儲部512中。
結(jié)束了用付與裝置52輸入匣號的流通匣(下文將該流通匣標(biāo)示為匣A)一被設(shè)置在1次成膜裝置53的進(jìn)料口531之中，即從匣A的ID卡中讀取匣號，通過數(shù)據(jù)收發(fā)信部532通知主計(jì)算機(jī)51。
從圖26可知，與之相呼應(yīng)，主計(jì)算機(jī)51將匣A的匣號、槽號、濺射成膜的方法號發(fā)送給1次成膜裝置53。而方法號也可在濺射成膜的動(dòng)作即將開始時(shí)發(fā)送。
在接收到該信息的1次成膜裝置53之中，用方法號——濺射條件比照部533比照與方法號對應(yīng)的濺射條件，將比照后的濺射條件存儲到濺射條件存儲部534之中。濺射條件控制部535控制濺射裝置536，進(jìn)行濺射成膜。
濺射裝置536從匣A中抽出基板，開始濺射成膜。在濺射成膜的過程中收集濺射實(shí)績，與槽號關(guān)聯(lián)。
濺射成膜完畢的基板進(jìn)入預(yù)先在出料口準(zhǔn)備好的別的流通匣(下文標(biāo)示為匣B)的槽中。這時(shí)，槽號、濺射實(shí)績、出料口槽號收集部537(下文標(biāo)為收集部)收集匣A中的槽號，相關(guān)的濺射實(shí)績、匣B中的槽號，用數(shù)據(jù)收發(fā)信部532發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51。此外，匣B的槽一裝満1次膜成膜后的基板，收集部537即與匣B的匣號一道將其內(nèi)容通知主計(jì)算機(jī)51。
收到該信息后，主計(jì)算機(jī)51按照匣號B、匣號A、工序流程的順序確定下一道工序，給未圖示的匣運(yùn)送部下達(dá)運(yùn)送目的地的指令。此外，主計(jì)算機(jī)51將匣B的匣號、以及發(fā)送給1次成膜裝置53的濺射方法號發(fā)送給一次膜缺陷檢查裝置54。
從圖27可知，1次膜缺陷檢查裝置54用數(shù)據(jù)收發(fā)信裝置541一接收到該信息即將此交給匣號——方法號比照部542。
流通匣一被運(yùn)入進(jìn)料口543，匣號-方法號比照部542即與從流通匣的ID卡中讀出的匣號對應(yīng)的方法號比照。如果此處的匣號是匣B，即可獲得對收容在匣B中的基板實(shí)施濺射成膜時(shí)的方法號。
在缺陷檢查條件存儲部544之中預(yù)先存儲與可對在方法號所示的方法條件下成膜的膜進(jìn)行的檢查條件的對應(yīng)關(guān)系，一從匣號-方法號比照部542接收到方法號，即輸出可進(jìn)行的檢查條件。
缺陷檢查條件控制部545通過按照該檢查條件控制缺陷檢查裝置546，進(jìn)行檢查。缺陷檢查裝置546將檢查結(jié)果作為缺陷檢查信息輸出。檢查完畢的基板被收容到預(yù)先設(shè)置在出料口547上的別的流通匣(下文標(biāo)示為匣C)的槽之中。
出料口匣號、出料口槽號付與部548在給匣C付與匣號的同時(shí)，使匣C的匣號、匣C的槽號、收容在槽中的基板的缺陷檢查信息彼此關(guān)聯(lián)后，用數(shù)據(jù)收發(fā)信部541發(fā)送給主計(jì)算機(jī)51。
主計(jì)算機(jī)51使發(fā)送來的信息與用1次膜成膜裝置53取得的濺射實(shí)績等相關(guān)聯(lián)后存儲到信息存儲部513中。
關(guān)于2次膜成膜裝置55，2次膜檢查裝置56，由于與1次膜成膜裝置53以及1次膜檢查裝置54相比較，僅有成膜的膜的種類不同造成的區(qū)別，構(gòu)成要素及動(dòng)作并無大的區(qū)別，因而省略其說明。圖28所示的抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58，也與此相同。
采用以上辦法，以從1次膜成膜裝置53、1次膜檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56、抗蝕劑膜成膜裝置57以及抗蝕劑膜缺陷檢查裝置58收集到信息為基礎(chǔ)，缺陷信息比照部514生成第1實(shí)施方式中說明過的1次膜膜信息、2次膜膜信息，抗蝕劑膜膜信息的同時(shí)，通過比照這些信息生成圖17所示的掩模版信息。
在上述實(shí)施方式中，將基板及掩模版設(shè)置到流通匣及收容箱、濺射裝置的基板的保持具、缺陷檢查裝置的載物臺上時(shí)，實(shí)施了以缺口標(biāo)記1、膜標(biāo)記3、6為基準(zhǔn)構(gòu)成某個(gè)特定的方向性(朝向)的管理，但并不局限于此，也可在整個(gè)掩模版的制造工序中均以缺口標(biāo)記1確定基板的方向性，僅用缺口標(biāo)記管理基板的方向性。
此外，除缺口標(biāo)記1及膜標(biāo)記3、6之外，也可以是付與基板的基準(zhǔn)標(biāo)記。在此情況下的基準(zhǔn)標(biāo)記可具有能夠確定基板的方向性(朝向)的形狀。
此外，基板上，或掩模版上的基準(zhǔn)標(biāo)記的配置位置可設(shè)置在相對于基板的中心旋轉(zhuǎn)非對稱的位置上。
此外，在上述實(shí)施方式中，將膜信息設(shè)定為在基板上形成的多種膜的膜信息，但取得的膜信息也可以是單層的膜。即使是從掩模版制造廠出廠時(shí)取得的信息仍可適用。在此情況下，同樣具有保證膜信息的基準(zhǔn)點(diǎn)和XY座標(biāo)系一致，掩模版的基準(zhǔn)點(diǎn)和XY座標(biāo)系一致的作用。此外，除膜信息之外，也可包括基板表面的信息。
此外，在上述實(shí)施方式中是以作為掩模版在玻璃基板上形成MoSiN半色調(diào)膜、Cr遮光膜、抗蝕劑膜的半色調(diào)型的移相掩模版為例說明本發(fā)明的掩模制作支援方法的，但并不局限于此，在玻璃基板上形成Cr遮光膜、抗蝕劑膜的所謂光掩模版，以及在玻璃基板上形成多層反射膜、吸收體膜、抗蝕劑膜的反射型掩模版上同樣可適用。
此外，在上述掩模版之中，未形成抗蝕劑膜的掩模版也同樣可適用本發(fā)明。
此外，在本發(fā)明之中，并不局限于實(shí)施方式中所述的半色調(diào)膜的膜材料、遮光膜的膜材料，也可以是通?？捎糜谘谀０娴钠渌げ牧稀?br> 此外，在上述實(shí)施方式中是在各個(gè)流通箱上單獨(dú)設(shè)置ID卡的，流通箱自當(dāng)別論，ID卡也可改貼在下道工序中使用的流通箱上使用。
以上根據(jù)實(shí)施方式說明了本發(fā)明，但本發(fā)明并不局限于此，很顯然，可在業(yè)內(nèi)人士的通常的知識范圍內(nèi)對此加以變更及改良。
例如，上述實(shí)施方式中的膜信息是以基板的規(guī)定方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，包括在膜上預(yù)先規(guī)定的XY座標(biāo)系的X座標(biāo)、Y座標(biāo)、缺陷的大小、缺陷的種類的信息，但各座標(biāo)中的測定值的種類及其數(shù)值并不局限于此。作為膜信息，還可包括與平面度等形狀有關(guān)的值，電阻值等電氣特性值、折射率等光學(xué)特性值。這些測定值中，既可全部包含在膜信息中，也可包含一部分。
此外，在基板信息及各種膜信息之中，作為座標(biāo)系使用了直角座標(biāo)系，但并不局限于此，既可以是其它極座標(biāo)系，也可使用三維座標(biāo)系取代二維座標(biāo)系。例如若設(shè)定在膜信息中使用XYZ座標(biāo)系，則可在可用膜表面的X及Y表示的點(diǎn)上納入深度Z的位置上存在空洞之類的信息。可取得更加詳細(xì)的掩模版信息。
權(quán)利要求
1.一種掩模版信息取得方法，其特征在于在獲取涉及基板上具有多層層合的膜的掩模版的信息的掩模版信息的方法之中，前述掩模版信息包括基板信息以及一種以上的膜信息，或兩種以上的膜信息；前述基板信息包括與基板面對應(yīng)的平面座標(biāo)系內(nèi)的位置信息，以及表示與位置信息相關(guān)的基板狀態(tài)的狀態(tài)信息；一種前述膜信息包括與一種膜對應(yīng)的平面座標(biāo)系中的位置信息，以及表示與位置信息相關(guān)的該膜狀態(tài)的狀態(tài)信息；包含在前述掩模版信息中的前述基板信息或前述膜信息的平面座標(biāo)系具有規(guī)定的對應(yīng)關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述階段在基板面上或在基板面上成膜的另一膜上形成第1膜的階段；取得與已成膜的前述第1膜的狀態(tài)有關(guān)的第1膜信息的階段；在前述第1膜上形成第2膜的階段；取得與已成膜的前述第2膜的狀態(tài)有關(guān)的第2膜信息的階段；生成包括前述第1膜信息以及第2膜信息在內(nèi)的掩模版信息的階段；
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述階段準(zhǔn)備基板的階段；取得與準(zhǔn)備好的前述基板的狀態(tài)有關(guān)的基板信息的階段；在前述基板面上形成膜的階段；取得與已成膜的前述膜的狀態(tài)有關(guān)的膜信息的階段；生成包括前述基板信息以及膜信息在內(nèi)的掩模版信息的階段。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述平面座標(biāo)系的基準(zhǔn)點(diǎn)具有規(guī)定的關(guān)系。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述平面座標(biāo)系的基準(zhǔn)點(diǎn)是以在將基板上形成的標(biāo)記以及膜上形成的標(biāo)記中的至少一方為基準(zhǔn)而被確定出的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于還包括相互比照前述基板信息以及/或者膜信息的階段。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述狀態(tài)信息至少包括與表面形態(tài)有關(guān)的信息以及與光學(xué)特性有關(guān)的信息中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述膜的至少一種是移動(dòng)曝光光相位的移相膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于通過把前述基板信息以及1種以上的膜的前述膜信息投影到平面上生成的信息或把多個(gè)膜的前述膜信息投影到平面上生成的信息包含到前述掩模版信息之中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于還包括取得前述膜信息之前，在基板以及/或者膜的預(yù)定位置上付與可作為狀態(tài)信息檢出的基準(zhǔn)標(biāo)記的階段；把表示根據(jù)基準(zhǔn)標(biāo)記規(guī)定的基準(zhǔn)或掩模版的朝向的信息包含在掩模版信息之中。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于基準(zhǔn)標(biāo)記生成為可確定方向的形狀。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于基板的輪廓具有旋轉(zhuǎn)對稱性的形狀，包括付與的基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的基板形狀則具有旋轉(zhuǎn)非對稱性。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述階段用裝置A在基板上形成膜a的同時(shí)，通過測定前述膜a，取得包括前述基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的膜信息a的階段；把該基板從前述裝置A中取出的階段；以前述基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，將該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向收容到箱中的階段；將前述箱運(yùn)送給裝置B的階段；以前述基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，將該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向設(shè)置到前述裝置B中的階段；用前述裝置B在該基板上形成膜b的同時(shí)，通過測定前述膜b，取得包括前述基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的膜信息b的階段；
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于，包括下述階段把基板設(shè)定到測定裝置中后測定基板，取得包括前述基準(zhǔn)標(biāo)記在內(nèi)的前述基板信息的階段；把該基板從前述測定裝置中取出的階段；以前述基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，將該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向收容到箱中的階段；把前述箱運(yùn)送給裝置A的階段；以基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，將該基板以預(yù)先規(guī)定的朝向設(shè)置到裝置A中的階段；用前述裝置A在基板上形成膜a的同時(shí)，通過測定膜a取得包括前述基板標(biāo)記在內(nèi)的膜信息a的階段。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于取得的掩模版信息可供識別掩模版?zhèn)€體時(shí)參考。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述狀態(tài)信息至少包括兩種測定值。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述基板信息及膜信息的至少一方還含有包括基板或膜的厚度方向的座標(biāo)在內(nèi)的立體座標(biāo)系中的位置信息。
18.一種掩模版信息提供方法，其特征在于在提供通過在基板上重迭多層膜制作出的作為掩模版涉及的信息的掩模版信息的方法之中，將用權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的掩模版信息與該掩模版一并提供。
19.一種復(fù)制掩模制作支援方法，其特征在于在通過把掩模版信息提供給掩模制造廠，支援復(fù)制掩模的制作的方法之中，包括利用權(quán)利要求18所述的掩模版信息提供方法把掩模版信息提供給掩模制造廠的階段；提供的掩模版信息為防止制作出不良復(fù)制掩模，可在對應(yīng)的掩模版上形成掩模圖案之前，確定形成掩模版上的掩模圖案的區(qū)域時(shí)參考。
20.一種復(fù)制掩模制作支援方法，其特征在于包括利用權(quán)利要求18所述的掩模信息提供方法將掩模版信息提供給掩模制造廠的階段；是把掩模版信息中的座標(biāo)系的基準(zhǔn)點(diǎn)通過前述基準(zhǔn)標(biāo)記通知掩模制造廠的方法。接到提供的前述掩模制造廠通過前述基準(zhǔn)標(biāo)記，取得前述平面座標(biāo)系間的前述對應(yīng)關(guān)系，根據(jù)取得的前述對應(yīng)關(guān)系及前述掩模版信息決定應(yīng)形成掩模圖案的區(qū)域。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的復(fù)制掩模制作支援方法，其特征在于在掩模版上形成的掩模圖案包括相對密集的圖案區(qū)域和相對稀疏的圖案區(qū)域。
22.一種復(fù)制掩模制造方法，其特征在于通過在掩模坯件上形成構(gòu)成復(fù)制圖案的掩模圖案，制造復(fù)制掩模的方法之中，根據(jù)用權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的掩模版信息，決定在掩模壞料上配置掩模圖案的區(qū)域。
23.一種掩模版制造方法，其特征在于掩模版的制造方法之中包括權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法。
24.一種掩模版信息取得系統(tǒng)，其特征在于作為與基板上配置多層層迭膜的掩模版有關(guān)的信息，取得掩模版信息的系統(tǒng)之中，包括取得與基板的狀態(tài)有關(guān)的基板信息的裝置；取得與基板面上或在基板面上成膜的其它膜上成膜的第1膜的狀態(tài)有關(guān)的第1膜信息的裝置；以及在取得與前述基板面上成膜的前述第1膜以外的膜的第2膜的狀態(tài)有關(guān)的第2膜信息的裝置之中，具有至少兩種信息取得裝置；還具有生成包括用該信息取得裝置取得的信息在內(nèi)的掩模版信息的裝置。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的掩模版信息取得系統(tǒng)，其特征在于前述基板信息包括與基板面對應(yīng)的平面座標(biāo)系中的位置信息、表示與位置信息有關(guān)的基板的狀態(tài)的狀態(tài)信息；一種前述膜信息包括與一種膜對應(yīng)的平面座標(biāo)系中的位置信息、表示與位置信息有關(guān)的該膜的狀態(tài)的狀態(tài)信息；包括在前述掩模版信息中的前述基板信息或前述膜信息的座標(biāo)系具有規(guī)定的對應(yīng)關(guān)系。
26.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于前述基板為多邊形，在夾在前述基板彼此相接的兩個(gè)側(cè)邊之間的區(qū)域內(nèi)付與前述基準(zhǔn)標(biāo)記。
27.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模版信息取得方法，其特征在于在彼此旋轉(zhuǎn)非對稱的位置上付與偶數(shù)個(gè)前述基準(zhǔn)標(biāo)記。
28.一種通過把掩模版信息提供給掩模制造廠支援復(fù)制掩模制作的方法，其特征在于包括利用權(quán)利要求18所述的掩模版信息提供方法把多個(gè)掩模版的掩模版信息提供給掩模制造廠的階段；所提供的掩模版信息可供形成掩模圖案之前，選擇前述從前述多個(gè)掩模版中選擇一種時(shí)參考。
29.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掩模版信息取得方法，其特征在于還包括在取得前述膜信息b的階段之后，以前述基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板朝向預(yù)定的方向后收容到箱中的階段。
30.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模版信息取得方法，其特征在于還包括在取得前述膜信息a的階段之后，以前述基準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，使該基板朝向預(yù)定的方向后收容到箱中的階段。
31.一種掩模版提供方法，其特征在于提供掩模版的同時(shí)，提供用權(quán)利要求1所述的掩模版信息取得方法取得的與該掩模版有關(guān)的掩模版信息。
全文摘要
在基板上形成至少包括構(gòu)成復(fù)制圖案的薄膜在內(nèi)的多個(gè)膜的掩模版，在對掩模版的抗蝕劑膜，按照圖案數(shù)據(jù)形成圖案時(shí)，對多個(gè)膜中的每個(gè)分別取得用于與圖案進(jìn)行比照的膜信息。
文檔編號H01L21/027GK1930520SQ200580007570
公開日2007年3月14日 申請日期2005年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月9日
發(fā)明者石田宏之, 相山民也, 丸山光一 申請人:Hoya株式會社