專利名稱：立式熱處理裝置及其使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種立式熱處理裝置及其使用方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體裝置的制造中，為了對(duì)作為被處理體的例如半導(dǎo)體晶片進(jìn)行氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor DepositionCVD)等各種處理，而使用各種熱處理裝置。作為熱處理裝置之一，使用一次可以對(duì)多個(gè)被處理體進(jìn)行熱處理的立式熱處理裝置。
立式熱處理裝置通常包括收容被處理體的石英制處理容器；設(shè)置成包圍處理容器的周圍來加熱處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；為了連接排氣管而在處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；和為了加熱排氣口部而設(shè)置的輔助加熱器(參照例如日本特開2003-209063號(hào)公報(bào))。在處理容器的下部形成有開口部，設(shè)置有可以密封該開口部并可升降(開閉)的蓋體。在蓋體的上部設(shè)置有搭載保持多級(jí)被處理體的石英制晶舟。
對(duì)于上述立式熱處理裝置來說，與具有雙重管結(jié)構(gòu)且具有大熱容量的處理容器的熱處理裝置相比，其處理容器的熱容量較小，因此可以急速升溫和急速降溫。從而，可以期待在某種程度上提高生產(chǎn)能力。另外，由于通過輔助加熱器加熱排氣口部，因此可以抑制處理氣體成分附著在排氣口部內(nèi)表面而成膜。
然而，上述立式熱處理裝置中，當(dāng)熱處理(加工)結(jié)束，從晶舟中取出被處理體后，僅將晶舟移入到處理容器內(nèi)，關(guān)閉蓋體。然后，在該狀態(tài)下，利用主加熱器的急速降溫功能，使處理容器降溫至所定溫度，例如常溫，通過向處理容器內(nèi)導(dǎo)入清洗氣體(例如腐蝕氣體)，來對(duì)處理容器的內(nèi)面以及晶舟進(jìn)行干式清洗(dry cleaning)。
但是，在上述立式熱處理裝置中，輔助加熱器不具有急速冷卻功能。因此，難以使排氣口部與處理容器(主體)同樣地迅速降溫。其結(jié)果是，在排氣口部的內(nèi)面發(fā)生膜殘留，有導(dǎo)致顆粒(particle)的可能。另外，使排氣口部降溫至與處理容器(主體)相同的溫度需要很長時(shí)間，因此，導(dǎo)致裝置使用中的等待時(shí)間以及維護(hù)時(shí)的停機(jī)時(shí)間延長，產(chǎn)生有礙生產(chǎn)能力以及生產(chǎn)率提高的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明著眼于上述問題，提出有效解決上述問題的方案。本發(fā)明的目的是提供一種立式熱處理裝置及其使用方法，使排氣口部可以和處理容器相同地迅速降溫，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)能力的提高。
本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于，包括收容被處理體的處理容器；包圍上述處理容器的周圍，加熱上述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在上述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱上述排氣口部的輔助加熱器；用于在上述主加熱器急速冷卻時(shí)，使上述輔助加熱器離開上述排氣口部的移動(dòng)裝置；用于使上述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置。
根據(jù)本發(fā)明，通過使輔助加熱器退避和以強(qiáng)制排氣裝置對(duì)排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣，可以使排氣口部與處理容器同樣地迅速降溫。從而實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)能力的提高。
優(yōu)選上述強(qiáng)制排氣裝置覆蓋上述排氣口部，并且包括在上述輔助加熱器退避時(shí)與該輔助加熱器的內(nèi)部連通的隔熱蓋板；與上述隔熱蓋板連接而使上述隔熱蓋板內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣用配管。在這種情況下，可以有效地使排氣口部降溫。而且，可以防止由于從排氣口部放熱所導(dǎo)致的不良影響。
另外，優(yōu)選上述隔熱蓋板具有水冷結(jié)構(gòu)。此時(shí)，可以使排氣口部更有效地降溫。
另外，優(yōu)選在上述主加熱器上連接用于使該主加熱器內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣管道(duct)，在該排氣管道上連接有上述強(qiáng)制排氣裝置的排氣用配管。此時(shí)，可以將經(jīng)過主加熱器的排氣管道的強(qiáng)制排氣力分流為輔助加熱器的強(qiáng)制排氣裝置的強(qiáng)制排氣力，可實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)的簡化和成本的降低。
另外，本發(fā)明的立式熱處理裝置的使用方法，其特征在于，是使用具有下述結(jié)構(gòu)的立式處理裝置的方法收容被處理體的處理容器；包圍上述處理容器的周圍而設(shè)置的、加熱上述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在上述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱上述排氣口部的輔助加熱器；用于在上述主加熱器急速冷卻時(shí)，使上述輔助加熱器離開上述排氣口部的移動(dòng)裝置；和用于使上述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置；并包括如下步驟在使上述主加熱器內(nèi)部急速冷卻同時(shí)，撤開上述輔助加熱器，通過在上述排氣口部周圍強(qiáng)制排氣，使上述處理容器及上述排氣口部急速降溫的步驟。
根據(jù)本發(fā)明，通過使處理容器及排氣口部急速降溫，可以迅速且均勻的對(duì)處理容器內(nèi)面及排氣口部進(jìn)行干式清洗。因此，可以防止膜殘留所導(dǎo)致的顆粒生成，并且實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)能力的提高。
另外，本發(fā)明的計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，所述存儲(chǔ)介質(zhì)含有控制立式熱處理裝置的使用方法的程序，其特征在于，所述立式熱處理裝置的使用方法，是使用具有如下結(jié)構(gòu)的立式熱處理裝置的方法收容被處理體的處理容器；包圍所述被處理體的周圍而設(shè)置的、加熱所述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在所述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱所述排氣口部的輔助加熱器；用于在所述主加熱器急速冷卻時(shí)使所述輔助加熱器從所述排氣口部撤開的移動(dòng)裝置；和用于使所述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置；并且包括，在急速冷卻所述主加熱器的同時(shí)，通過撤開所述輔助加熱器，并進(jìn)行所述排氣口部周圍的強(qiáng)制排氣，使所述處理容器及所述排氣口部急速降溫的步驟。


圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖。
圖2是圖1中的立式熱處理裝置的平面圖。
圖3是輔助加熱器的移動(dòng)裝置的側(cè)面圖。
圖4A是圖3中的移動(dòng)裝置的導(dǎo)軌設(shè)置平面圖。
圖4B是移動(dòng)裝置的導(dǎo)軌設(shè)置側(cè)面圖。
圖5A是說明輔助加熱器移動(dòng)的平面圖；圖5B是說明輔助加熱器移動(dòng)的平面圖。
圖6是導(dǎo)軌的截面圖。
圖7是輔助加熱器的加熱狀態(tài)的截面圖。
圖8是輔助加熱器的強(qiáng)制冷卻狀態(tài)的截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。
圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的立式熱處理裝置的縱截面圖。圖2是圖1中的立式熱處理裝置的平面圖。圖3是輔助加熱器的移動(dòng)裝置的側(cè)面圖。圖4A是圖3中的移動(dòng)裝置的導(dǎo)軌設(shè)置平面圖。圖4B是移動(dòng)裝置的導(dǎo)軌設(shè)置側(cè)面圖。圖5A是說明輔助加熱器移動(dòng)的平面圖；圖5B是說明輔助加熱器移動(dòng)的平面圖。圖6是導(dǎo)軌截面圖。圖7是輔助加熱器的加熱狀態(tài)的截面圖。圖8是輔助加熱器的強(qiáng)制冷卻狀態(tài)的截面圖。
圖1的立式熱處理裝置包括圖中未示的筐體；和設(shè)置在該筐體內(nèi)，收容被處理體(例如半導(dǎo)體晶片w)并進(jìn)行所定熱處理的立式處理容器(稱為反應(yīng)管)2。處理容器2由具有耐熱性和耐腐蝕性的石英(石英玻璃)形成。處理容器2的上部形成拱頂形，具體為倒置漏斗形，處理容器2的下部開口為爐口3。在處理容器2的下部開口端設(shè)置有凸緣(flange)部4。凸緣部4通過凸緣壓腳而固定于基盤(base plate)(圖未示)上。
在處理容器2的下側(cè)部設(shè)置有氣體導(dǎo)入口部，用于連接導(dǎo)入處理氣體或者不活潑氣體(例如N2)的氣體導(dǎo)入管(省略圖示)。在處理容器2的頂上部的中央，以“L”型彎曲形成有用于連接排氣管5的排氣口部6。在排氣管5上連接有可使處理容器2內(nèi)減壓至所定壓力(例如約110kgf)的壓力控制系統(tǒng)。壓力控制系統(tǒng)具有真空泵、壓力傳感器、壓力控制閥、控制器。
在處理容器2的周圍設(shè)置有圓筒形的主加熱器7，可以對(duì)處理容器2內(nèi)進(jìn)行加熱控制以達(dá)到所定溫度(例如300～1000℃)，且具有急速冷卻功能。在本實(shí)施例中，主加熱器7的主體7a由金屬制(例如SUS制)的水冷套筒(jacket)構(gòu)成，作為加熱元件(heat element)(省略圖示)采用可以急速升降溫度的碳線(carbon wire)。主加熱器7設(shè)置在基盤上。主加熱器7的上部用天板8覆蓋。排氣口部6貫通天板8并伸出。
在加工降溫時(shí)或者干式清洗等的維護(hù)時(shí)，使主加熱器7以及主加熱器7內(nèi)的處理容器2強(qiáng)制空冷。為此，在主加熱器7的下部設(shè)置有與用于將室溫的空氣送入主加熱器7內(nèi)的送風(fēng)機(jī)9連接的送風(fēng)噴嘴(nozzle)10，在主加熱器7的上部設(shè)置有與排氣扇11連接的排氣管道12。排氣管道12主要結(jié)構(gòu)包括安裝在天板8上的第一風(fēng)道12a；和連接該第一風(fēng)道12a與工場排氣系統(tǒng)之間的第二風(fēng)道12b。在第二風(fēng)道12b上設(shè)置有用于降低排氣溫度的熱交換器13。
在處理容器2的下方，設(shè)置有密封處理容器2的下部開口(爐口)3的蓋體14，可通過圖中未示的升降裝置進(jìn)行升降(能夠開閉)。在蓋體14的上方設(shè)置有石英制的晶舟(保持具)15，在上下方向上以所定間隔搭載保持多片、例如大約25～50片的晶片w。支柱16與設(shè)置于蓋體14中部的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)入裝置17連接。
另外，在蓋體14的中部，在不與支柱16干涉的狀態(tài)下，設(shè)置有熱插頭(thermoplug)18，該熱插頭18作為控制從爐口3放熱的裝置，具有平面形的加熱器和隔熱板。
另外，在處理容器2的下方設(shè)置有裝料區(qū)(loading area)19，用于在蓋體14落下時(shí)從處理容器2內(nèi)移出晶舟15，在該晶舟15和作為搬運(yùn)容器的裝載器(盒)之間進(jìn)行晶片w的轉(zhuǎn)移。
在主加熱器7的上部設(shè)置有用于加熱排氣口部6的輔助加熱器20。為使排氣口部6與處理容器2同樣迅速地降溫，在輔助加熱器20上設(shè)置有移動(dòng)裝置21，用于在主加熱器7急速冷卻時(shí)，使該輔助加熱器20從排氣口部6退避(離開)。
另外，設(shè)置有用于使排氣口部6的周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置22。如圖8所示，強(qiáng)制排氣裝置22主要結(jié)構(gòu)包括覆蓋輔助加熱器20退避時(shí)的排氣口部6，并與退避后的輔助加熱器20的內(nèi)部連通的隔熱蓋板23；以及與該隔熱蓋板23連接，使隔熱蓋板23內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣用配管24。以此，可以使隔熱蓋板23內(nèi)排氣口部6的周圍環(huán)境以及輔助加熱器20內(nèi)的環(huán)境強(qiáng)制排氣。從而，可以使排氣口部6高效降溫。
排氣用配管24可以與排氣管道12的與熱交換器13相比的上流部分連接。另外，隔熱蓋板23為金屬制(例如SUS制)，優(yōu)選在其表面設(shè)置冷卻水循環(huán)流路25構(gòu)成水冷結(jié)構(gòu)。
如圖8所示，在天板8上設(shè)置有用于使排氣口部6的垂直直立部的周圍絕熱的絕熱區(qū)(block)26。在絕熱區(qū)26的上面設(shè)置有金屬制(例如SUS制)的承載板27，用于承載輔助加熱器20，并可使其在水平方向上移動(dòng)。
如圖7所示，輔助加熱器20其主要結(jié)構(gòu)包括絕熱材料28，具有從背面的一側(cè)(圖7的右側(cè))可滑動(dòng)地覆蓋排氣口部6的形狀，即，下面一側(cè)和正面一側(cè)(圖7的左側(cè))開放的近似立方體的形狀；和安裝(埋設(shè))于該絕熱材料28的內(nèi)面的電阻發(fā)熱線29。優(yōu)選在輔助加熱器20的外側(cè)面設(shè)置具有冷卻水循環(huán)流路31的冷卻水套筒32。
絕熱材料28和絕熱區(qū)26分別由鑄件(mold article)構(gòu)成。然后，為使上述部件不發(fā)生粉化，將上述部件表面用氧化鋁織物(aluminacloth)覆蓋。
如圖4A、圖4B及圖5所示，移動(dòng)裝置21主要結(jié)構(gòu)包括為了引導(dǎo)輔助加熱器20能夠水平移動(dòng)，而在水平移動(dòng)方向上延伸的左右一對(duì)的前導(dǎo)軌33以及后導(dǎo)軌34；通過桿部35、36而安裝在輔助加熱器20的大約四角上，并沿導(dǎo)軌33、34進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo)輪37、38；以及使輔助加熱器20滑動(dòng)的空氣氣缸(air cylinder)39(如圖1所示)。為了避免與隔熱蓋板23的干涉，前導(dǎo)軌33安裝在與輔助加熱器20的載面相比的下部，例如天板8上，并使其不與絕熱區(qū)26干涉。同時(shí)，通過安裝于第一風(fēng)道12a后部的支柱40(如圖4B所示)，與輔助加熱器20大約等高地安裝后導(dǎo)軌34。各導(dǎo)軌33、34其結(jié)構(gòu)例如圖6所示，在金屬制板材41的一側(cè)面上設(shè)置有導(dǎo)輪引導(dǎo)用的導(dǎo)向槽42。
為了在利用固定于筐體上的熱交換器13后、加強(qiáng)導(dǎo)軌34的支撐結(jié)構(gòu)，在熱交換器13上，經(jīng)由水平安裝桿43并通過螺栓固定來安裝水平支撐部件44(如圖4A以及圖4B所示)。安裝桿43利用設(shè)置于熱交換器13上的已有的螺栓孔(tap)進(jìn)行螺栓固定。另外，在熱交換器13的上部，通過安裝桿43而安裝有用于空氣氣缸39的安裝部件45?？諝鈿飧?9的底端部通過托架(bracket)46安裝于該安裝部件45上。一方面，空氣氣缸39的活塞桿(piston rod)39a的前端部通過托架47而連接到輔助加熱器20的背面部。
輔助加熱器20在加熱時(shí)位于覆蓋排氣口部6的位置上。具體而言，如圖7所示，輔助加熱器20承載在絕熱區(qū)26上，位于收納在隔熱蓋板23的內(nèi)部的位置。
另一方面，在退避時(shí)，輔助加熱器20遠(yuǎn)離排氣口部6。具體而言，如圖8所示，輔助加熱器20的前端部位于隔熱蓋板23的開口端，形成使隔熱蓋板23內(nèi)和輔助加熱器20內(nèi)連通的狀態(tài)。
隔熱蓋板23的截面形成“門”型或倒置“U”型，其兩腳部安裝于左右一對(duì)的前導(dǎo)軌33的板材41上。隔熱蓋板23的前面部留有排氣口部6所通過的部分，由前面蓋板部23a覆蓋。另一方面，為了允許輔助加熱器20退避移動(dòng)而將隔熱蓋板23的背面部開口。
輔助加熱器20可以通過空氣氣缸39而從加熱位置向退避位置僅滑動(dòng)所定的量L(例如大約L＝185mm)。為了減小該滑動(dòng)時(shí)的摩擦阻力同時(shí)防止金屬屑等雜物產(chǎn)生，優(yōu)選將輔助加熱器20從絕熱區(qū)26上的承載位置(加熱位置)開始移動(dòng)后，立刻從承載面只上升所定的尺寸d(例如大約d＝15mm)。因此，在各導(dǎo)軌33、34的前端一側(cè)設(shè)置傾斜部33a、34b(如圖4B所示)。
并且，將輔助加熱器20的水冷套筒32的冷卻水循環(huán)流路31(如圖7所示)和冷卻水循環(huán)供給部(圖未示)連接的配管由軟性管構(gòu)成。
另外，在撤開位置上的輔助加熱器20的下方設(shè)置用于控制從輔助加熱器20的下方放熱的隔熱板48，并使其覆蓋輔助加熱器20的下面露出部分(如圖8所示)。該隔熱板48優(yōu)選采用水冷式，例如設(shè)置冷卻水循環(huán)流路49。其中，在本實(shí)施例中，在第一風(fēng)道12a的上部安裝有隔熱板48。
在根據(jù)由上述結(jié)構(gòu)構(gòu)成的立式熱處理裝置1中，在加工降溫或者干式清洗等維護(hù)時(shí)，可使排氣口部6與處理容器2相同地迅速降溫。因此，可以實(shí)現(xiàn)使裝置使用中的等待時(shí)間以及維護(hù)時(shí)的停機(jī)時(shí)間縮短，以及生產(chǎn)能力以及生產(chǎn)率的提高。而且，由于可使排氣口部6與處理容器2相同地迅速降溫，因此可以解決排氣口部6的內(nèi)表面的膜殘留，也可以解決由于膜殘留而導(dǎo)致發(fā)生顆粒的問題。
由于強(qiáng)制排氣裝置22包括覆蓋退避輔助加熱器20后的排氣口部6(覆蓋排氣口部6的周圍)，同時(shí)與退避后的輔助加熱器20的內(nèi)部連通的隔熱蓋板23；和與該隔熱蓋板23連接，使隔熱蓋板23內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣用配管24，因此，可以有效地使排氣口部6降溫，同時(shí)可以防止由于從排氣口部6放熱所帶來的熱影響。
另外，由于隔熱蓋板23采用水冷結(jié)構(gòu)，所以可以使排氣口部6更有效地降溫。
而且，由于在主加熱器7上連接有用于使主加熱器7內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣管道12，并在排氣管道12上連接有輔助加熱器20的強(qiáng)制排氣裝置22的排氣用配管24，因此，可以將主加熱器7的排氣管道12所產(chǎn)生的強(qiáng)制排氣力分流至輔助加熱器20的強(qiáng)制排氣裝置22的強(qiáng)制排氣力，可以實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)的簡化和成本的降低。
另外，在本實(shí)施方式中，通過使處理容器2以及排氣口部6急速降溫，而可以對(duì)處理容器2的內(nèi)表面以及排氣口部6的內(nèi)表面進(jìn)行迅速且均勻的干式清洗。從而，可以防止膜殘留導(dǎo)致的顆粒的發(fā)生，同時(shí)，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)能力的提高。
并且，在主加熱器7急速冷卻時(shí)，停止向主加熱器7供給電能。而且，在輔助加熱器20退避時(shí)(包括強(qiáng)制排氣時(shí))，停止向輔助加熱器20供給電能。
根據(jù)本實(shí)施例的立式熱處理裝置1，當(dāng)使排氣口部6的溫度從800℃降溫至100℃時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)需要大約110分鐘相比，可以縮短至大約65分鐘。
以上，結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，但是，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施例，可以在不偏離本發(fā)明的要點(diǎn)的范圍內(nèi)進(jìn)行設(shè)計(jì)的更改。另外，本發(fā)明可以不需要大幅改造就可以應(yīng)用于已有的立式熱處理裝置中。
另外，在上述立式熱處理裝置中實(shí)施的各步驟可以通過計(jì)算機(jī)裝置80進(jìn)行控制。為了實(shí)現(xiàn)該控制，在計(jì)算機(jī)裝置80中所應(yīng)用的程序以及包含該程序的計(jì)算機(jī)可以讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)也是本發(fā)明所要保護(hù)的對(duì)象。
權(quán)利要求
1.一種立式熱處理裝置，其特征在于，包括收容被處理體的處理容器；包圍所述被處理體的周圍而設(shè)置的、加熱所述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在所述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱所述排氣口部的輔助加熱器；用于在所述主加熱器急速冷卻時(shí)使所述輔助加熱器從所述排氣口部退避的移動(dòng)裝置；和用于使所述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置。
2.如權(quán)利要求1所述立式熱處理裝置，其特征在于，所述強(qiáng)制排氣裝置包括覆蓋所述排氣口部、并在所述輔助加熱器退避時(shí)與所述輔助加熱器的內(nèi)部連通的隔熱蓋板；和與所述隔熱蓋板連接、使所述隔熱蓋板內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣用配管。
3.如權(quán)利要求2所述立式熱處理裝置，其特征在于所述隔熱蓋板具有水冷結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求2或3所述立式熱處理裝置，其特征在于在所述主加熱器上連接有用于使所述主加熱器內(nèi)強(qiáng)制排氣的排氣管道；在所述排氣管道上連接有所述強(qiáng)制排氣裝置的排氣用配管。
5.一種立式熱處理裝置的使用方法，其特征在于是使用具有如下結(jié)構(gòu)的立式熱處理裝置的方法，收容被處理體的處理容器；包圍所述被處理體的周圍而設(shè)置的、加熱所述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在所述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱所述排氣口部的輔助加熱器；用于在所述主加熱器急速冷卻時(shí)使所述輔助加熱器從所述排氣口部撤開的移動(dòng)裝置；和用于使所述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置，其中，所述立式熱處理裝置的使用方法包括在急速冷卻所述主加熱器的同時(shí)，通過退避所述輔助加熱器，并進(jìn)行所述排氣口部周圍的強(qiáng)制排氣，來使所述處理容器以及所述排氣口部急速降溫的步驟。
6.一種計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，所述存儲(chǔ)介質(zhì)含有控制立式熱處理裝置的使用方法的程序，其特征在于所述立式熱處理裝置的使用方法，是使用具有如下結(jié)構(gòu)的立式熱處理裝置的方法，收容被處理體的處理容器；包圍所述被處理體的周圍而設(shè)置的、加熱所述處理容器并具有急速冷卻功能的主加熱器；在所述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱所述排氣口部的輔助加熱器；用于在所述主加熱器急速冷卻時(shí)使所述輔助加熱器從所述排氣口部撤開的移動(dòng)裝置；和用于使所述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置，其中，立式熱處理裝置的使用方法包括在急速冷卻所述主加熱器的同時(shí)，通過撤開所述輔助加熱器，并進(jìn)行所述排氣口部周圍的強(qiáng)制排氣，來使所述處理容器及所述排氣口部急速降溫的步驟。
全文摘要
本發(fā)明的立式熱處理裝置，其特征在于，包括如下部分收容被處理體的處理容器；包圍所述被處理體的周圍而設(shè)置，加熱所述處理容器，并具有急速冷卻功能的主加熱器；在所述處理容器的上部彎曲形成的排氣口部；用于加熱所述排氣口部的輔助加熱器；用于在所述主加熱器急速冷卻時(shí)使所述輔助加熱器從所述排氣口部撤開的移動(dòng)裝置；和用于使所述排氣口部周圍的環(huán)境強(qiáng)制排氣的強(qiáng)制排氣裝置。
文檔編號(hào)H01L21/205GK1842898SQ20058000080
公開日2006年10月4日 申請(qǐng)日期2005年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月26日
發(fā)明者中嵨亙, 及川拓也, 井上久司 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社