專利名稱：立式熱處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及立式熱處理裝置。
背景技術(shù)：
在半導體器件的制造中，有對被處理物體例如半導體晶片實施例如氧化、擴散、CVD、退火等各種熱處理的工藝，作為用于進行這些工藝的熱處理裝置的一種，使用一次可對多片晶片進行熱處理的立式熱處理裝置。
在這種立式熱處理裝置中，備有用于容納、熱處理多枚晶片的處理容器，與此同時，設置了覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器。以往的加熱器通過在筒狀絕熱材料的內(nèi)周上設置加熱元件而構(gòu)成。
但是，在所述立式熱處理裝置中，由于加熱元件和絕熱材料一體地形成，在發(fā)生加熱元件劣化或斷線等故障時，存在不能只更換加熱元件，而必須更換整個加熱器的問題。另一方面，作為加熱器，也提出了具有可單個更換的多個加熱元件的方案，但通常在立式熱處理裝置中，在從容納加熱器的筐體一側(cè)進行維護的結(jié)構(gòu)上，當進行位于筐體內(nèi)另一側(cè)(相反側(cè))的加熱元件的更換或保養(yǎng)等維護操作時，存在操作性即維護性非常差的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明考慮到上述情況，目的在于提供可容易地進行加熱元件的更換等的維護操作、謀求維護性提高的立式熱處理裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的立式熱處理裝置包括用于容納、熱處理多個被處理物體的處理容器，覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和以可從一側(cè)對其進行維護的方式容納所述加熱器的筐體，其特征在于，所述加熱器具有多個可單個更換的加熱元件，所述加熱器具有可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
按照本發(fā)明，在進行位于立式熱處理裝置筐體內(nèi)另一側(cè)的加熱元件的更換等維護操作時，通過使加熱器旋轉(zhuǎn)以便維護部位到達筐體的一側(cè)，可容易地進行維護操作，謀求維護性的提高。
本發(fā)明的立式熱處理裝置可包括使加熱器的旋轉(zhuǎn)固定的固定部件，所述加熱器由所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持。按照本發(fā)明，借助固定部件可固定加熱器，以便其在規(guī)定的角度不旋轉(zhuǎn)。
本發(fā)明的立式熱處理裝置的所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可包括使所述加熱器升降的升降部件，和可旋轉(zhuǎn)地支持所述加熱器的支持部件。按照本發(fā)明，可利用升降部件使加熱器上升或下降，利用支持部件支持加熱器。由此，可將加熱器抬起、可旋轉(zhuǎn)地支持，將加熱器降下來，令旋轉(zhuǎn)固定。
本發(fā)明的立式熱處理裝置的所述升降部件為螺釘式升降部件或液壓式升降部件，所述支持部件由球體、滾子、和含有聚四氟乙烯的低摩擦部件中任意一種構(gòu)成。按照本發(fā)明，可以以簡單的結(jié)構(gòu)將重量重的加熱器抬起，容易地使之旋轉(zhuǎn)，謀求維護性的提高。
按照本發(fā)明的立式熱處理裝置，最好所述支持部件配置在同一圓周上，在所述加熱器的底部設置配合所述支持部件的環(huán)狀導槽。按照本發(fā)明，可沿加熱器圓周方向可靠且容易地使之旋轉(zhuǎn)，謀求維護性的提高。
本發(fā)明的立式熱處理裝置包括用于容納、熱處理多個被處理物體的處理容器，覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和以可從一側(cè)對其進行維護的方式容納所述加熱器的筐體，其特征在于，所述加熱器具有可單個更換的多個加熱元件，所述加熱器具有可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)，所述加熱器沿水冷結(jié)構(gòu)的筒狀覆蓋體的內(nèi)周配備有多個加熱元件，各加熱元件的端子部貫通覆蓋體，在外周上突出，與連接件連接。按照本發(fā)明，加熱元件的端子部貫通覆蓋體，在外周上突出，與配備加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)相結(jié)合，使加熱元件的更換等維護變得容易，謀求維護性的提高。
本發(fā)明的立式熱處理裝置最好在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接件支持部件，所述連接件固定在所述連接件支持部件上。本發(fā)明的立式熱處理裝置在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接件支持部件，可將所述連接件和所述加熱元件的端子部的固定零件固定在所述連接件支持部件上。
按照本發(fā)明，在連接件支持部件上固定連接件或連接件和固定零件。容易拆卸或安裝加熱元件的端子部。
本發(fā)明的立式熱處理裝置的特征是，在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置從所述加熱器向半徑方向外方大致水平地突出的環(huán)狀連接件支持部件，在所述連接件支持部件上固定所述連接件或/和所述加熱元件端子部的固定零件。按照本發(fā)明，由于連接件支持部件從加熱器覆蓋體的外周面向加熱器半徑方向外方大致水平地突出，因而容易進行被固定的連接件或加熱元件的端子部的固定零件的拆卸、安裝操作。


圖1是表示本發(fā)明實施例的立式熱處理裝置的縱向剖面圖。
圖2是表示旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概略剖面圖。
圖3是表示起重構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大剖面圖。
圖4是起重構(gòu)件的底面圖。
圖5是表示利用旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器、利用固定構(gòu)件固定加熱器的結(jié)構(gòu)的放大的剖面圖。
圖6是表示作為支持構(gòu)件具有滾柱的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概略剖面圖。
圖7是表示作為支持構(gòu)件具有聚四氟乙烯的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的概略剖面圖。
具體實施方式
以下基于附圖詳述本發(fā)明實施例。圖1是表示本發(fā)明實施例的立式熱處理裝置的縱向剖面圖，圖2是表示旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)(旋轉(zhuǎn)支持組裝體)的結(jié)構(gòu)的概略剖面圖，圖3是表示起重構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大剖面圖，圖4是起重構(gòu)件的底面圖。此外，在圖2中，左半部表示加熱器的固定狀態(tài)，右半部表示頂起加熱器的狀態(tài)。
在圖1中，1是立式熱處理裝置，該立式熱處理裝置1包括形成外殼(日語漢字外郭)的筐體11，在該筐體11內(nèi)的上方設置用于容納被處理物體例如半導體晶片w、實施預定處理例如氧化處理的立式熱處理爐2。該熱處理爐2主要由以下部分構(gòu)成下部作為爐口3而被開口的細長的處理容器例如石英制反應管4，開閉該反應管4的爐口3的可升降的蓋體5，和設計成覆蓋所述反應管4的周圍、可將反應管(爐)4內(nèi)加熱控制在預定溫度例如300-1200℃的加熱器6。
在所述筐體11內(nèi)，也如圖2所示，用于安置構(gòu)成熱處理爐2的反應管4或加熱器6的例如SUS制的底板(加熱器安置部)7通過臺架29被水平設置。在底板7中形成用于從下向上插入反應管4的開口部7a。所述加熱器6被可從筐體11的一側(cè)面進行維護的方式容納。在筐體11的一側(cè)面設置用于進行加熱器6維護的維護口11a，該維護口11a平時用圖中未示出的蓋子堵塞。
反應管4例如為石英制，在圖示的例子(實施例)中由一層管構(gòu)成。在該反應管4的下端部形成向外的凸緣部4a，通過用凸緣保持構(gòu)件8將該凸緣部4a保持在底板7的下部，將反應管4保持在從下向上插通底板7的開口部7a的狀態(tài)。形成為了洗凈等目的從底板7下方拆卸反應管4的結(jié)構(gòu)。
在反應管4的凸緣部4a中設置導入處理氣體或清潔用的非活性氣體的多個氣體導入管9，氣體供給系統(tǒng)的配管連接在這些氣體導入管9上。而且，反應管4的頂部管徑逐漸縮小，在該頂部形成L字形的排氣口10，具有可對反應管4內(nèi)進行減壓控制的真空泵或壓力控制閥等的排氣系統(tǒng)的配管連接在該排氣口10上(圖中省略)。
在所述筐體11內(nèi)從底板7向下方設置操作區(qū)(裝運區(qū)域)12，該操作區(qū)12用于將在蓋體5上設置的熱處理用舟皿16搬入(裝載)到熱處理爐(即反應管4)2內(nèi)，將其從熱處理爐2中搬出(卸載)，或?qū)χ勖?6進行晶片W的搬運。為進行舟皿16的搬入、搬出，在該操作區(qū)12設置用于使蓋體5升降的升降機構(gòu)13。
所述蓋體5例如為SUS制的，通過多個緩動機構(gòu)例如彈簧14保持在保持板15上，該保持板15連接在所述升降機構(gòu)13上。這樣構(gòu)成蓋體5，以便通過與爐口3的開口端對接而將爐口3密閉。在蓋體5的下部中央部設置用于旋轉(zhuǎn)舟皿16的舟皿旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20。
所述舟皿16例如是石英制的，具有舟皿本體17和一條腿的腳部18，該舟皿本體17將大口徑例如直徑300mm的多個例如75-100枚左右的晶片W以水平狀態(tài)在上下方向上間隔放置，分多段支持，該腳部18連接在用于使舟皿本體17沿晶片的圓周方向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20的旋轉(zhuǎn)軸上，舟皿本體17和腳部18一體地形成。在所述腳部18形成凸緣部19，該凸緣部19借助螺釘與旋轉(zhuǎn)機構(gòu)20的旋轉(zhuǎn)軸連結(jié)。
在所述蓋體5上固定作為爐口保溫裝置的爐口加熱機構(gòu)21。該爐口加熱機構(gòu)21主要由以下部分構(gòu)成被裝載配置成覆蓋蓋體5的上表面的環(huán)狀蓋板22，在該蓋板22上沿圓周方向以適當間隔立設的多個支柱23，水平跨過這些支柱23的上端部設置的面狀發(fā)熱電阻體24，和在該發(fā)熱電阻體24的下方以適當間隔跨過支柱23設置的多個例如兩個隔熱板25。
所述蓋板22、支柱23和隔熱板25例如為石英制的，利用蓋板22保護蓋體5的上表面，使之免受具有腐蝕性的處理氣體影響。在所述發(fā)熱電阻體24和隔熱板25上設置被腳部18貫通的貫通孔26，該腳部18包含舟皿16的凸緣部19。此外，以從保持板15氣密地貫通蓋體5的狀態(tài)設置用于導通為所述發(fā)熱電阻體24供電的電纜的導通管27。在所述蓋板22上，按圖示的例子設置兩層覆蓋所述凸緣部19的周圍及上方的環(huán)狀隔熱蓋28。這些隔熱蓋28例如為石英制的，形成為對開狀，以便容易裝卸。
另一方面，所述加熱器6主要由水冷結(jié)構(gòu)的筒狀最好圓筒狀的覆蓋體30和在該覆蓋體30的內(nèi)周上可單個替換地設置的多個加熱元件31構(gòu)成。覆蓋體30具有位于下端部的環(huán)狀底板部30a，并具有成一體的位于上端部的環(huán)狀頂板部30b。反應管4的排氣口10從該頂板部30b的中央開口部32突出。覆蓋體30例如最好是SUS制的。在覆蓋體30上例如按螺旋狀等設置用于使冷卻水流過的通水路33。
加熱元件31由按細長的形狀編入了例如作為電阻發(fā)熱體的碳絲束，并在石英管內(nèi)封入該碳絲束的碳加熱器構(gòu)成，在兩端具有端子部34。作為加熱元件31，使用沿覆蓋體30的內(nèi)周的上下方向設置的主加熱元件31a、在覆蓋體30內(nèi)周的上部設置的上部加熱元件31b、在覆蓋體30內(nèi)周的下部設置的下部加熱元件31c、和在頂板部30b的開口部32設置的頂部加熱元件31d。上部加熱元件31b形成為蛇行狀，下部加熱元件31c及頂部加熱元件31d形成為螺旋狀。
各加熱元件31配設在覆蓋體30的內(nèi)周上，各加熱元件31的端子部34沿半徑方向貫通覆蓋體30，并突出于外周，與連接件35連接。在所述覆蓋體30的外周面的上部和下部設置環(huán)狀的法蘭盤狀部件(連接件支持部件)36，在該法蘭盤狀部件36安裝用于連接端子部34的連接件35，同時安裝用于支持固定端子部34的中間部分的固定零件37。連接件35通過電纜38與電力供給部電連接。
在進行位于筐體11內(nèi)的另一側(cè)的加熱元件31的更換等維護操作時，為使加熱器6旋轉(zhuǎn)，以便維護部位達到筐體11內(nèi)的一側(cè)(維護口11a側(cè))從而容易進行維護操作，在作為加熱器安置部的基板7上設置可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)(旋轉(zhuǎn)支持組裝體)40。該旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40由將加熱器6的底部(底板部30a的下表面)抬起或降下的多個例如4個螺釘式起重部件41和可旋轉(zhuǎn)地設置在各起重部件41的上部可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的底部的球體42(支持部件)構(gòu)成。
起重部件41主要由以下部分構(gòu)成圖3至圖4所示的螺釘棒部(升降部件)43，該部件43在下端部具有配合旋轉(zhuǎn)工具的例如六角的配合部43a；沿上下方向可移動地與該螺釘棒部43螺合的軸承架部44；在螺釘棒部43的上端部通過球體支持部(軸承)45可旋轉(zhuǎn)地設置的球體42(支持部件)。軸承架部44借助于多個例如3個螺釘46可拆裝地安裝在底板7的下面。所述起重部件41由于在螺釘棒部43的前端部具有可旋轉(zhuǎn)的球體42，可被稱為所謂的球閥(ペン)型旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
在所述底板7上設置孔部47，該孔部47與軸承架部44的筒狀的上端部配合，同時容許含有球體42的球體支持部45升降移動。所述球體支持部45設置在螺釘棒部43的前端部(上端部)，在球體42的一部分從該球體支持部45的上端部突出的狀態(tài)下，球體42被自由旋轉(zhuǎn)地容納、支持在球體支持部45內(nèi)。在所述軸承架部44上形成容納含有球體42的球體支持部45的容納凹部48，以便球體42不從底板7的上面突出。可常設所述起重部件41，但也可以僅在維護加熱器6時才安裝使用。
起重部件41例如最好是SUS制的。此外，在所述軸承架部44的上端側(cè)外周部形成凸緣部44a，借助螺釘46將該凸緣部44a安裝固定在底板7的下表面。在這種情況下，為了不拆卸螺釘46就可拆卸起重部件41，在凸緣部44a與螺接在底板7上的螺釘46對應的部位處設置螺釘46頭部46a可插通的孔部19，和容許螺釘46從該孔部49向圓周方向相對移動(即軸承架部44的轉(zhuǎn)動)，同時螺釘46的頭部46a不插通的長孔部49a。
為沿其圓周方向(繞軸心)穩(wěn)定地可旋轉(zhuǎn)或可轉(zhuǎn)動地支持加熱器6，將所述起重部件41(正確地說是作為支持部件的球體42)以加熱器6的軸心為中心配置在同一圓周上(即與加熱器同心的圓上)，在加熱器6的底部設置配合所述起重部件41的球體42的環(huán)狀導槽50。該導槽50形成為與加熱器6同心的圓上的環(huán)狀。此外，導槽50的剖面為最好V字狀的槽。
所述加熱器6平時通過自下方旋入的固定螺釘51被固定在底板7上，在維護加熱器6時拆卸固定螺釘51，用旋轉(zhuǎn)工具旋轉(zhuǎn)起重部件41的螺釘棒部43，從底板7上僅將加熱器6頂起規(guī)定的高度h就可以。由此可容易地旋轉(zhuǎn)加熱器6。此外，圖1中，39是在加熱器上部為覆蓋其與排氣口10間的開口部32而設置的環(huán)狀對開結(jié)構(gòu)的絕熱材料。
在進行加熱元件31的更換等維護的情況下，將反應管4由底板7拆卸，從加熱器6內(nèi)向下方抽出移到別的地方。而且，例如在進行圖1左側(cè)即筐體11的維護口11a相反側(cè)上某個加熱元件31的更換的情況下，由于是加熱器6的背后，手不易到達，操作性非常差。
這里，拆卸將加熱器6固定在底板7上的固定螺桿51，通過構(gòu)成加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40的起重部件41將加熱器6頂起(抬高)。此時，如果使扳手等旋轉(zhuǎn)工具與構(gòu)成起重部件41的螺釘棒部43的下端的配合部43a配合，旋轉(zhuǎn)螺釘棒部43，就可借助螺釘進給作用使螺釘棒部43上升移動。由此，起重部件上端的球體與加熱器6底部的導槽50配合，壓上加熱器6的底部，可容易地將重量重的加熱器6從底板7上抬起。
如果操作全部起重部件41，將加熱器6水平頂起，則通過手動使加熱器6旋轉(zhuǎn)，以便圖1左側(cè)的加熱元件31到達右側(cè)的維護口11a。由于在起重部件41的上部備有球體42，因而可使加熱器6圓滑且容易地旋轉(zhuǎn)。提到應該更換的加熱元件31位于圖1的右側(cè)，則將該加熱元件31的端子部34從法蘭盤狀部36的固定零件37以及連接件35取下，從加熱器6內(nèi)即覆蓋體30的內(nèi)側(cè)拆卸該加熱元件31。之后，可更換新的加熱元件，如此可容易地進行加熱元件的更換等維護。
按照以上結(jié)構(gòu)構(gòu)成的立式熱處理裝置1，由于具有用于容納、熱處理多個晶片w的作為處理容器的反應管4，覆蓋該反應管4周圍的筒狀加熱器6，安置該加熱器6的底板(加熱器安置部)7，和以可從一側(cè)進行維護的方式容納所述加熱器6的筐體11，所述加熱器6具有多個可單個更換的加熱元件31，設置了將加熱器6可旋轉(zhuǎn)地支持在所述底板7上的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40，因此，在進行位于筐體11內(nèi)另一側(cè)的加熱元件3 1的更換等維護操作的情況下，通過使加熱器6旋轉(zhuǎn)，以便維護部位到達筐體11內(nèi)的一側(cè)，可容易地進行維護操作，謀求維護性的提高。
此時，所述加熱器6在水冷結(jié)構(gòu)的筒狀覆蓋體30的內(nèi)周上配備多個加熱元件31，各加熱元件31的端子部34貫通覆蓋體30，突出于外周，與連接體35連接。如圖1所示，法蘭盤狀部件36從覆蓋體30的外周面向加熱器6的半徑方向的外方大致水平延伸，在其表面上連接體35和加熱元件固定零件37被整齊排列，因此，通過在覆蓋體30的外側(cè)將端子部34從連接體35取下，可容易地從覆蓋體30的內(nèi)側(cè)拆卸加熱元件31。這種拆卸的容易和備有加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40相結(jié)合，容易進行加熱元件31的更換等維護，謀求維護性的提高。
此外，由于所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40由抬起、降下加熱器6的底部的多個螺釘式起重部件41和可旋轉(zhuǎn)地設置在各起重部件41的上部可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6底部的球體42構(gòu)成，因而以簡單的結(jié)構(gòu)、可將重量重的例如340kg左右的加熱器6抬起并容易地使之旋轉(zhuǎn)，謀求維護性的提高。而且，由于所述起重部件41配置在同一圓周上，在加熱器6的底部設置了配合所述起重部件41的球體42的環(huán)狀導槽50，因而可可靠且容易地使加熱器6沿圓周方向旋轉(zhuǎn)，謀求維護性的提高。
下面描述本發(fā)明的另一實施例。
在圖1-4的實施例中，旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40可抬起、降下加熱器6的底部，在通常運轉(zhuǎn)時，使螺釘棒部43下降，如圖2左半部所示那樣固定加熱器6，在進行加熱元件31的更換等維護時，通過使螺釘棒部43上升，使加熱器6可旋轉(zhuǎn)。
與此相反，本方案作成不使旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)升降的結(jié)構(gòu)，平常支持加熱器6，另一方面在通常運轉(zhuǎn)時或需要維護時可固定加熱器6的旋轉(zhuǎn)。在圖5中示出了使加熱器6的旋轉(zhuǎn)固定的固定部件的一例。
在圖5中，在覆蓋體30的底板部30a和底部7設置可匹配的多個孔，作為固定部件的螺桿60以使預定的孔匹配的狀態(tài)插通覆蓋體30的底板部30a和底板7。此外，在圖5中旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40為可使球體42升降的構(gòu)造，但旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40也可以為可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6但不使支持部件升降的構(gòu)造。此外，在圖5中，使用螺桿60作為固定部件，使螺桿60插通設置在覆蓋體30的底板部30a和底部7上的孔，但固定部件可以是本領(lǐng)域技術(shù)人員可獲得的任意固定部件。例如，也可以是打入覆蓋體30的底板部30a和底部7之間的楔狀部件。
在圖1-4的實施例中，可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的底部的支持部件由球體42構(gòu)成。
支持部件可以是可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的本領(lǐng)域技術(shù)人員任意可獲得的任意代替的裝置。例如，支持部件可以是圖6所示的滾子61。此時，最好設置可在覆蓋體30的底板部30a的底面引導滾子61的導槽62。而且，支持部件可以是圖7所示的低摩擦部件63?？墒褂美缇鬯姆蚁?3作為低摩擦部件。聚四氟乙烯63周圍最好由支持體保持，頂面最好與覆蓋體30的底板部30a的底面對接。在此情況下，最好也在底板部30a的底面設置引導聚四氟乙烯63的導槽64。
在以上各實施例中，可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的支持部件(球體42、滾子61、聚四氟乙烯63)被一體地設置在使加熱器升降的升降部件(螺釘棒部43)的上部。但是支持部件(球體42、滾子61和聚四氟乙烯63)和升降部件(螺釘棒部43)可以是另一個部件。此時，支持部件可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6，升降部件可使加熱器6升降。
此外，在以上各實施例中，起重部件41是由螺釘棒部43和凸緣部44構(gòu)成的螺釘式起重部件，但也可以是例如液壓式的利用油壓使升降部件升降的機構(gòu)。
在圖1-4的實施例中，支持連接件37的連接件支持部件由環(huán)狀的法蘭盤狀部件36構(gòu)成，但連接件支持部件可以是任意形狀的，例如從加熱器6的覆蓋體外周面向加熱器半徑方向外方突出的任意形狀的板。
以上利用圖面詳細說明了本發(fā)明的實施例，但本發(fā)明不限于所述的實施例，可以在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)進行種種設計變更等。例如，作為熱處理裝置，除氧化處理以外，也可以構(gòu)成為便于進行CVD處理、擴散處理、退火處理等。作為所述舟皿的材料，除石英外，也可以是例如碳化硅或多晶硅(Si)等。作為被處理物體，除半導體晶片外，也可以是例如LCD基板或石英等。此外，反應管為內(nèi)管和外管的雙層管結(jié)構(gòu)也可以。作為爐口保溫裝置，也可以是保溫筒。
權(quán)利要求1.一種立式熱處理裝置，包括用于容納、熱處理多個被處理物體的處理容器，覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和以可從一側(cè)對其進行維護的方式容納所述加熱器的筐體，其特征在于，所述加熱器具有多個可單個更換的加熱元件，所述加熱器具有可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1的立式熱處理裝置，其特征在于，包括使加熱器的旋轉(zhuǎn)固定的固定部件，所述加熱器由所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)可旋轉(zhuǎn)地支持。
3.如權(quán)利要求1的立式熱處理裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)包括使所述加熱器升降的升降部件，和可旋轉(zhuǎn)地支持所述加熱器的支持部件。
4.如權(quán)利要求3的立式熱處理裝置，其特征在于，所述升降部件為螺釘式升降部件或液壓式升降部件，所述支持部件由球體、滾子、和含有聚四氟乙烯的低摩擦部件中任意一種構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求3的立式熱處理裝置，其特征在于，所述支持部件配置在同一圓周上，在所述加熱器的底部設置配合所述支持部件的環(huán)狀導槽。
6.一種立式熱處理裝置，包括用于容納、熱處理多個被處理物體的處理容器，覆蓋該處理容器周圍的筒狀加熱器，和以可從一側(cè)對其進行維護的方式容納所述加熱器的筐體，所述加熱器具有可單個更換的多個加熱元件，所述加熱器具有可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)，其特征在于，所述加熱器沿水冷結(jié)構(gòu)的筒狀覆蓋體的內(nèi)周配備有多個加熱元件，各加熱元件的端子部貫通覆蓋體，在外周上突出，與連接件連接。
7.如權(quán)利要求6的立式熱處理裝置，其特征在于，在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接件支持部件，所述連接件固定在所述連接件支持部件上。
8.如權(quán)利要求6的立式熱處理裝置，其特征在于，在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置連接件支持部件，在所述連接件支持部件上固定所述連接件和所述加熱元件端子部的固定零件。
9.如權(quán)利要求6的立式熱處理裝置，其特征在于，在所述加熱器的覆蓋體的外周面上設置從所述加熱器向半徑方向外方大致水平地突出的環(huán)狀連接件支持部件，在所述連接件支持部件上固定所述連接件或/和所述加熱元件端子部的固定零件。
專利摘要本實用新型容易進行加熱元件的更換等維護操作，謀求維護性的提高。具有用于容納多個被處理物體w并進行熱處理的處理容器4，覆蓋該處理容器4的周圍的筒狀加熱器6，安置該加熱器6的加熱器安置部7，和以可從一側(cè)進行維護的方式容納所述加熱器6的筐體11，所述加熱器6具有可單個更換的多個加熱元件31，在所述加熱器安置部7設置了可旋轉(zhuǎn)地支持加熱器6的旋轉(zhuǎn)支持機構(gòu)40。
文檔編號H01L21/22GK2600455SQ0229580
公開日2004年1月21日 申請日期2002年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月12日
發(fā)明者門部雅人, 中尾賢, 山賀健一 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社