專利名稱：刻板基材的承載治具、刻板基材及光盤母板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種刻板基材的承載治具、刻板基材的制作方法以及光盤母板(stamper)的制作方法，且特別是有關(guān)于一種能夠提升產(chǎn)能的刻板基材的承載治具、刻板基材的制作方法以及光盤母板的制作方法。
背景技術(shù)：
光盤片由于具有儲存容量大、保存容易、保存期限長、成本低廉、與資料不易損害等優(yōu)點(diǎn)，已逐漸取代一般傳統(tǒng)的磁性儲存媒體，而成為現(xiàn)代人不可或缺的媒體之一，例如播放音樂的雷射音碟(CD-Audio)、可同時播放影像及音樂的雷射影碟(Video CD)、可記錄式光盤片(CD-R)，以及存放計算機(jī)檔案資料的只讀存儲型光盤片(CD-ROM)等。由于雷射光電產(chǎn)品的生產(chǎn)制造技術(shù)以及多媒體影音壓縮技術(shù)日益成熟，未來光儲存媒體的發(fā)展方向皆朝向高容量、小尺寸發(fā)展，因此光盤尺寸上的研發(fā)更是如火如荼的進(jìn)行著。
圖1繪示為公知微光盤制作工藝中刻板基材的結(jié)構(gòu)示意圖。請參照圖1，一般微光盤在進(jìn)行其刻板基材的制作時，通常是采用直徑24公分或20公分的圓形玻璃基材100，并通過旋涂(spin coating)、軟烤、硬烤等程序形成一厚度均勻的光阻層102于基材100的表面上。接著令基材100以其形心為軸旋轉(zhuǎn)，并通過雷射曝光的方式將資料記錄于光阻層102上。經(jīng)雷射曝光之后的光阻層102仍須經(jīng)過顯影的步驟方可形成一資料記錄區(qū)域104，此資料記錄區(qū)域104中主要是由一些凹陷或凹槽(pits/groove)所構(gòu)成，且這些凹陷或凹槽通常會構(gòu)成一螺旋狀的記錄軌跡(track)。
公知的刻板制作工藝中，由于微光盤的資料記錄區(qū)域僅需3公分至4.5公分左右，因此公知的刻板制作工藝僅利用到基材中心的小部份區(qū)域，其它區(qū)域均未有效力地利用到，因此刻板基材在沖壓后，廢料的產(chǎn)出便會相當(dāng)?shù)囟?。此外，公知的刻板制作工藝僅能在基材上制作一個微光盤的資料記錄區(qū)域，并無法在同一基材上制作出多個資料記錄區(qū)域，故在制作上較為耗時。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在提供一種刻板基材的承載治具，其可使得雷射曝光制作工藝在同一基材上的不同位置形成多個資料記錄區(qū)域，以更有效地利用基材。
本發(fā)明的另一目的在提供一種刻板基材的制作方法，其可在同一基材上的不同位置形成多個資料記錄區(qū)域，以降低基材沖壓后廢料的產(chǎn)出，進(jìn)而降低成本。
本發(fā)明的再一目的在提供一種光盤母板的制作方法，可同時制作出多個微光盤母板，以使得微光盤母板的制作與開發(fā)更為快速。
為達(dá)上述和其它目的，本發(fā)明提出一種刻板基材的承載治具，適于固定一基材，此基材具有一中心貫孔，且基材上配置有一光阻層，上述的刻板基材的承載治具主要由一治具本體、一配重裝置以及一中心鎖固構(gòu)件所構(gòu)成。其中，治具本體具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，基材定位凹槽的中心位置上具有一凸起，且凸起的位置偏離治具本體的形心位置；配重裝置可活動地配置于治具本體上，用以使得承載有基材的治具本體的重心維持在承載治具的形心位置上；而中心鎖固構(gòu)件可與上述的凸起結(jié)合，以將基材鎖固于基材定位凹槽中。
本實(shí)施例中，基材上的中心貫孔例如為圓形貫孔或是多邊形貫孔等，而基材定位凹槽中的凸起例如為圓形凸起或是多邊形凸起等對應(yīng)的型態(tài)。此外，基材上例如具有一凹槽，此凹槽位于基材的中心位置上，其作用在于能夠讓中心鎖固構(gòu)件不會凸出于光阻層表面。
為達(dá)上述和其它目的，本發(fā)明提出一種刻板基材的承載治具，適于固定一表面上配置有光阻層的基材，上述的刻板基材的承載治具主要由一治具本體以及一配重裝置所構(gòu)成。其中，治具本體具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，基材定位凹槽底部例如具有至少一真空貫孔，且基材定位凹槽的中心位置偏離治具本體的形心位置；而配重裝置可活動地配置于治具本體上，以使承載有基材的治具本體的重心維持在形心位置上。
本實(shí)施例中，基材定位凹槽底部例如具有一環(huán)形或是圓形凹槽，而此環(huán)形凹槽或圓形凹槽底部具有上述的真空貫孔，這些真空貫孔將可以更有效地將基材吸附住。
本實(shí)施例中，基材上例如具有至少一輔助孔，其例如鄰近于基材的邊緣，輔助孔用以轉(zhuǎn)動基材使其在基材定位凹槽中的方位改變。此外，基材上例如具有多個位于基材邊緣的對位標(biāo)記，這些對位標(biāo)記對于基材轉(zhuǎn)動后的定位作業(yè)有所幫助。
本實(shí)施例中，配重裝置例如由一配重砝碼以及一止付螺栓所構(gòu)成，配重砝碼例如具有一定位孔，而此定位孔適于與上述的止付螺栓結(jié)合。此外，治具本體上例如具有一滑道，而上述的配重砝碼配置于滑道上，并通過止付螺栓定位于滑道上。
本實(shí)施例中，治具本體上例如具有至少一配重孔，此配重孔例如鄰近于配重裝置，其對于承載治具同樣具有配重的功能。
本實(shí)施例中，治具本體例如具有至少一卸載凹槽，此卸載凹槽例如位于基材定位凹槽的邊緣上，以利將基材從基材定位凹槽中取出。
本實(shí)施例承載治具，可于治具本體上增加配置至少一輔助定位構(gòu)件或定位栓，此輔助定位構(gòu)件或定位栓例如凸出于基材定位凹槽的側(cè)壁，用以固定基材定位凹槽中的基材。
為達(dá)上述和其它目的，本發(fā)明提出一種刻板基材的制作方法，主要包括下列步驟(a)提供一基材，此基材表面上已形成有一光阻層；(b)提供一承載治具，此承載治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏離承載治具的形心位置；(c)將基材固定于基材定位凹槽中，并使得承載有基材的承載治具的重心位于承載治具的形心位置上；(d)令承載治具以形心位置為軸旋轉(zhuǎn)；以及(e)于形心位置上方的基材形成一第一資料記錄區(qū)域。
本實(shí)施例上述刻板基材的制作方法中，在第一記錄區(qū)域形成之后更包括下列步驟(f)調(diào)整基材在基材定位凹槽中的方位；以及(g)于形心位置上方的基材形成一第二資料記錄區(qū)域。此外，可重復(fù)步驟(f)至(g)至少一次，以于基材上形成多個資料記錄區(qū)域。
為達(dá)上述和其它目的，本發(fā)明提出一種光盤母板的制作方法，包括下列步驟(a)提供一基材，此基材表面上已形成有一光阻層；(b)提供一承載治具，此承載治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏離承載治具的形心位置；(c)將基材固定于基材定位凹槽中，并使得承載有基材的承載治具的重心位于承載治具的形心位置上；(d)令承載治具以形心位置為軸旋轉(zhuǎn)；(e)于形心位置上方的基材形成一第一資料記錄區(qū)域；(f)調(diào)整基材在基材定位凹槽中的方位；(g)于形心位置上方的基材形成一第二資料記錄區(qū)域；(h)重復(fù)步驟(e)至(f)至少一次，以將基材制作成一刻板基材；(i)形成一金屬層于刻板基材上；以及(j)將金屬層與刻板基材剝離，其中金屬層即為一光盤母板。
本實(shí)施例中，金屬層的形成方式例如先形成一第一金屬層于刻板基材表面，此第一金屬層與刻板基材表面共形，接著再以例如電鑄的方式形成一上表面平坦的第二金屬層于第一金屬層上。
本實(shí)施例中，金屬層與刻板基材剝離的方式例如先將基材由金屬層上剝離，接著再通過化學(xué)藥劑將光阻層與金屬層上剝除。
上述刻板基材以及光盤母板的制作方法中，第一資料記錄區(qū)域與第二資料記錄區(qū)域例如通過一雷射曝光搭配一顯影的方式形成。
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉一較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下


圖1繪示為公知微光盤制作工藝中刻板基材的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2與圖3繪示為依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例微光盤制作工藝中刻板基材的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例的刻板基材與承載治具結(jié)合后的示意圖；圖6繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例另一種承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7繪示為依照本發(fā)明第二實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8繪示為依照本發(fā)明第三實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖9繪示為圖8中側(cè)邊鎖固構(gòu)件的細(xì)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖10繪示為依照本發(fā)明第三實(shí)施例另一種刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖；以及圖11繪示為依照本發(fā)明第四實(shí)施例光盤母板的制作工藝流程示意圖。
標(biāo)示說明100、200基材 102、210光阻層104、212’資料記錄區(qū)域202中心貫孔204凹槽 206輔助孔208對位標(biāo)記 212預(yù)定記錄區(qū)域300、400、500治具本體 302、402a、502a基材定位凹槽
304、404、504卸載凹槽 306、406輔助定位構(gòu)件308、308’、408凸起310中心鎖固構(gòu)件312、412、512滑道 314、414、514配重孔316、416、516配重砝碼 318、418、518定位孔320、420、520止付螺栓 402b、502b環(huán)狀凹槽410、510真空貫孔 502c圓形凹槽506定位栓 600、700側(cè)邊鎖固構(gòu)件602定位螺栓602a凹陷部602b錐形表面 604螺栓孔606插梢608槽道S800～S814光盤母板制作工藝步驟A配重裝置 B記號具體實(shí)施方式
本實(shí)施例主要將一刻板基材固定于一承載治具上，接著以承載治具的形心為軸旋轉(zhuǎn)，并通過雷射曝光制作工藝于基材上形成一資料記錄區(qū)域，接著再調(diào)整刻板基材在承載治具上的方位，重復(fù)旋轉(zhuǎn)與雷射曝光的制作工藝以于刻板基材上形成多個資料記錄區(qū)域。上述的刻板基材以及承載治具皆是經(jīng)過特殊的設(shè)計，本實(shí)施例將針對刻板基材以及承載治具的詳細(xì)結(jié)構(gòu)依序說明如后。
圖2與圖3繪示為依照本發(fā)明一實(shí)施例微光盤制作工藝中刻板基材的結(jié)構(gòu)示意圖。首先請參照圖2，本實(shí)施例所使用的基材200例如為一玻璃基材，此基材200的中心位置上具有一中心貫孔202、一凹槽204、至少一輔助孔206以及多個對位標(biāo)記208。其中，中心貫孔202例如為圓形或是多邊形等貫孔形式，本圖中僅繪示出圓形貫孔為例說明。基材200上的凹槽204例如位于中心貫孔202的周圍。輔助孔206例如鄰近于基材200的邊緣或是其它適當(dāng)位置。對位標(biāo)記208例如位于基材200的邊緣，且對位標(biāo)記208例如可將基材200的邊緣分隔為多個等分，本圖中僅繪示出8等分型態(tài)的對位標(biāo)記208為例說明。
接著請參照圖3，于上述的基材200的表面上形成一光阻層210，此光阻層210例如通過旋涂(spin on coating)、軟烤(soft bake)、硬烤(hard bake)等程序制作于基材200的表面上，以形成所謂的刻板基材(此處的刻板基材尚未完成刻板的動作)。由圖中可知，中心貫孔202、凹槽204以及輔助孔206上并未有光阻層210的分布。此外，由于光阻層210通常為透明或是半透明材質(zhì)，故基材200邊緣的對位標(biāo)記208在形成光阻層210之后仍能夠輕易辨識。
同樣請參照圖3，本實(shí)施例于基材200上預(yù)設(shè)多個預(yù)定記錄區(qū)域212，上述預(yù)定記錄區(qū)域212的數(shù)量可視預(yù)定記錄區(qū)域212本身所占的面積而定，而這些預(yù)定記錄區(qū)域212的位置則必須視與其搭配的承載治具而定。有關(guān)于預(yù)定記錄區(qū)域212分布位置與承載治具的關(guān)連將于圖6中進(jìn)行詳細(xì)的說明。
圖4繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖，而圖5繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例的刻板基材與承載治具結(jié)合后的示意圖。請參照圖5。請同時參照圖4與圖5，承載治具主要由一治具本體300、一配重裝置A以及一中心鎖固構(gòu)件310所構(gòu)成。其中，治具本體300具有一基材定位凹槽302，基材定位凹槽302適于固定一基材200。上述基材定位凹槽302的分布范圍必須涵蓋治具本體300的形心位置(“十”字所標(biāo)記的位置)，且基材定位凹槽302的中心位置偏離治具本體300的形心位置，故基材定位凹槽302的中心位置與治具本體300的形心位置相距一適當(dāng)距離。此外，治具本體300在基材定位凹槽302的邊緣具有一標(biāo)記B，此標(biāo)記B用以與基材200上的對位標(biāo)記208進(jìn)行對位。
基材定位302凹槽的中心位置上具有一凸起308，此凸起308例如為一圓形的凸起，凸起308適于與中心鎖固構(gòu)件310結(jié)合而將基材200固定于基材定位凹槽302中。此外，由于凸起308位于基材定位凹槽302的中心位置，故凸起308與治具本體300的形心位置同樣會相距一適當(dāng)距離。
治具本體300上例如具有至少一卸載凹槽304，而卸載凹槽304例如位于基材定位凹槽302的邊緣上，以利將基材200從基材定位凹槽302中取出。此外，治具本體300上例如配置有至少一輔助定位構(gòu)件306，輔助定位構(gòu)件306例如凸出于基材定位凹槽302的側(cè)壁，用以固定基材定位凹槽302中的基材200。
本實(shí)施例的治具本體300上例如具有一滑道312，在滑道312上可配置一配重裝置A，此配重裝置A是可活動地配置于治具本體300上，用以使得承載有基材200的治具本體300的重心維持在承載治具的形心位置上。上述的配重裝置A例如由一配重砝碼316以及一止付螺栓320所構(gòu)成。其中，配重砝碼316例如具有一定位孔318，此定位孔318適于與止付螺栓320結(jié)合，而配重砝碼316適于配置在滑道312上，并通過止付螺栓320與定位孔318的結(jié)合定位于滑道312上。此外，治具本體300上例如具有至少一配重孔314，此配重孔314例如鄰近于配重裝置A，其對于承載治具同樣具有配重的功能。
上述針對承載治具以及承載治具與基材200之間結(jié)合的方式進(jìn)行描述，以下將針對如何在基材200預(yù)定記錄區(qū)域212上記錄資料進(jìn)行說明。
請參照圖5，在將形成有光阻成210的基材200放置于基材定位凹槽302中之后，通過輔助孔206可轉(zhuǎn)動基材200的方位，讓基材200上的其中一對位標(biāo)記208對準(zhǔn)承載治具上的標(biāo)記B，而在對位標(biāo)記208與標(biāo)記B對準(zhǔn)之后，基材200上其中一個預(yù)定記錄區(qū)域212的中心位置即對應(yīng)于承載治具的形心位置。此外，上述基材200在轉(zhuǎn)動的同時，基材200的側(cè)壁會在輔助定位構(gòu)件306，例如是凸出于基材定位凹槽302的鋼珠等的輔助之下順利轉(zhuǎn)動至定位。
在基材200方位調(diào)整完畢之后，接著通過中心鎖固構(gòu)件310將基材200鎖固于基材定位凹槽302中。值得注意的是，由于基材200上具有凹槽204(繪示于圖3)，故中心鎖固構(gòu)件310并不會突出于光阻層210的表面。
在基材200固定于基材定位凹槽302之后，接著調(diào)整配重砝碼316在滑道312上的位置搭配上配重孔314的分布，以使得承載有基材200的承載治具的重心位置會對應(yīng)于其形心位置。此處，通過配重砝碼316、配重孔314調(diào)整重心的作法主要是為了確保承載治具在后續(xù)旋轉(zhuǎn)時的穩(wěn)定性。接著令承載治具以其形心為軸旋轉(zhuǎn)，而在旋轉(zhuǎn)的同時，例如通過雷射曝光的方式于形心位置上方的基材200形成一個資料記錄區(qū)域212’。由圖5中可以得知，本實(shí)施例在制作完成一個資料記錄區(qū)域212’之后，可將中心鎖固構(gòu)件310松開并轉(zhuǎn)動基材200，以進(jìn)行多個資料記錄區(qū)域212’的制作。
綜上所述，本實(shí)施例所公開的刻板基材的制作方法，主要包括下列步驟(a)提供一基材，此基材表面上已形成有一光阻層；(b)提供一承載治具，此承載治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏離承載治具的形心位置；(c)將基材固定于基材定位凹槽中，并使得承載有基材的承載治具的重心位于承載治具的形心位置上；(d)令承載治具以形心位置為軸旋轉(zhuǎn)；以及(e)于形心位置上方的基材形成一資料記錄區(qū)域。在步驟(e)之后，若需繼續(xù)進(jìn)行其它資料記錄區(qū)域的制作，則進(jìn)行步驟(f)調(diào)整基材在基材定位凹槽中的方位；以及(g)于形心位置上方的基材形成資料記錄區(qū)域。如此，即可于同一基材上形成多個資料記錄區(qū)域。
圖6繪示為依照本發(fā)明第一實(shí)施例另一種承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖。請同時參照圖4、圖5以及圖6，圖6中所繪示的承載治具在結(jié)構(gòu)上與圖4相近，惟其差異之處在于凸起308’的型態(tài)，以及省去對位標(biāo)記208、記號B的設(shè)計，或亦可省去輔助定位構(gòu)件306。在圖6中，由于凸起308’設(shè)計為一多邊形的凸起，所以基材上的中心貫孔也必須配合修正為多邊形的貫孔。當(dāng)基材放置于基材定位凹槽302中時，凸起308’便會與基材的多邊形的貫孔相契合，進(jìn)而達(dá)到自動對位的目的。
在此，本實(shí)施例以制作四個資料記錄區(qū)域的情況為例進(jìn)行說明，但并非限定本發(fā)明的凸起308’僅適用于四個資料記錄區(qū)域的制作。由圖6可知，凸起308’例如采用四邊形的設(shè)計，且基材上的中心貫孔也一并變更為四邊形貫孔。在四邊形凸起與四邊形貫孔的搭配下，基材在基材定位凹槽302中只有四種擺放情況，因此基材在基材定位凹槽302中的定位過程將變得十分簡便、快速。
圖7繪示為依照本發(fā)明第二實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖。請參照圖7，承載治具主要由一治具本體400以及一配重裝置A所構(gòu)成，治具本體400具有一基材定位凹槽402a，此基材定位凹槽402a的分布范圍涵蓋治具本體400的形心位置(“十”字所標(biāo)記的位置)?；亩ㄎ话疾?02a的中心位置偏離治具本體400的形心位置，故基材定位凹槽402a的中心位置與治具本體400的形心位置相距一適當(dāng)距離。
上述基材定位凹槽402a的中心位置上具有一凸起408，此凸起408可與基材的中心貫孔配合，以避免基材在基材定位凹槽402a不適當(dāng)?shù)幕瑒由踔撩摮龌亩ㄎ话疾?02a?；亩ㄎ话疾?02a底部具有至少一真空貫孔410，其實(shí)施的方式例如于基材定位凹槽402a底部設(shè)一環(huán)狀凹槽402b，并于環(huán)狀凹槽402b底部制作出真空貫孔410。此外，治具本體400在基材定位凹槽402a的邊緣具有一標(biāo)記B，此標(biāo)記B用以與基材200上的對位標(biāo)記208(繪示于圖3)進(jìn)行對位。
本實(shí)施例的治具本體400上例如具有一滑道412，在滑道412上可配置一配重裝置A，此配重裝置A是可活動地配置于治具本體400上，用以使得承載有基材的治具本體400的重心維持在承載治具的形心位置上。上述的配重裝置A例如由一配重砝碼416以及一止付螺栓420所構(gòu)成。其中，配重砝碼416例如具有一定位孔418，此定位孔418適于與止付螺栓420結(jié)合，而配重砝碼416適于配置在滑道412上，并通過止付螺栓420與定位孔418的結(jié)合定位于滑道412上。此外，治具本體400上例如具有至少一配重孔414，此配重孔414例如鄰近于配重裝置A，其對于承載治具同樣具有配重的功能。
有關(guān)于卸載凹槽404、輔助定位構(gòu)件406的部份，其與圖4所公開的卸載凹槽304、輔助定位構(gòu)件306相似，于此不再贅述。
圖8繪示為依照本發(fā)明第三實(shí)施例刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖。請參照圖8，本實(shí)施例的承載治具主要由一治具本體500以及一配重裝置A所構(gòu)成。其中，基材定位凹槽502a、環(huán)形凹槽502b、卸載凹槽504、真空貫孔510、滑道512、配重孔514、配重砝碼516、定位孔518以及止付螺栓520等構(gòu)件皆與第二實(shí)施例相雷同，于此不再贅述。本實(shí)施例與第二實(shí)施例差異之處在于治具本體500上取消凸起408以及輔助定位構(gòu)件506的設(shè)計，而采用至少一個定位栓506搭配一側(cè)邊鎖固機(jī)構(gòu)600的方式進(jìn)行基材的鎖固。
圖9繪示為圖8中側(cè)邊鎖固構(gòu)件的細(xì)部結(jié)構(gòu)示意圖。請參照圖9，本實(shí)施例的側(cè)邊鎖固機(jī)構(gòu)600例如由一定位螺栓602以及一插梢606所構(gòu)成，其中定位螺栓602的一端具有一凹陷部602a，而另一端具有一錐形表面602b。為了讓側(cè)邊鎖固機(jī)構(gòu)600能夠確實(shí)固定住基材定位凹槽502a中的基材，本實(shí)施例于治具本體500鄰近于基材定位凹槽502a側(cè)壁處開設(shè)一螺栓孔604以及一槽道608，其中螺栓孔604例如位于治具本體500表面上，而槽道608例如位于基材定位凹槽502a的側(cè)壁，螺栓孔604與槽道608在治具本體500中相連接，且槽道608中以組裝了上述插梢606。在固定基材時，僅需使用工作將定位螺栓602旋入螺栓孔604中，通過定位螺栓602的錐形表面602b推擠插梢606，使其沿著槽道608向基材定位凹槽502a伸出，達(dá)到側(cè)邊鎖固的功能。
圖10繪示為依照本發(fā)明第三實(shí)施例另一種刻板基材的承載治具的結(jié)構(gòu)示意圖。請參照圖10，本圖中所繪示的承載治具在結(jié)構(gòu)上與圖8相近，惟其差異之處在于基材定位凹槽502a底部的圓形凹槽502c以及側(cè)邊鎖固構(gòu)件700的型態(tài)及其組裝在治具本體500上的位置。本實(shí)施例中，側(cè)邊鎖固構(gòu)件700例如是一鎖固螺絲，其可從治具本體500的側(cè)邊伸入基材定位凹槽502a的側(cè)壁，以將基材鎖固于基材定位凹槽502a中。
圖11繪示為依照本發(fā)明第四實(shí)施例光盤母板的制作工藝流程示意圖。請參照圖11，本實(shí)施例光盤母板的制作方法，首先提供一基材(S800)，此基材表面上已形成有一光阻層，接著提供一承載治具(S802)，此承載治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范圍涵蓋治具本體的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏離承載治具的形心位置。接著將基材固定于承載治具的基材定位凹槽中(S804)，并使得承載有基材的承載治具的重心位于承載治具的形心位置上，緊接著令承載治具以形心位置為軸旋轉(zhuǎn)(S806)，并通過雷射曝光的方式形成資料記錄區(qū)域(S808)，其中資料記錄區(qū)域位于承載治具的形心位置上方。在基材上形成一個資料記錄區(qū)域之后，接著調(diào)整基材在基材定位凹槽中的方位并重復(fù)上述旋轉(zhuǎn)、雷射曝光的步驟，以形成多個資料記錄區(qū)域(S810)，此步驟(S810)中即完成了刻板基材的制作。
在刻板基材制作完成之后，接著形成一金屬層于刻板基材上(S812)，此金屬層的形成方式例如先以濺鍍的方式形成一第一金屬層(通常為鎳金屬層)于刻板基材表面，此第一金屬層與刻板基材表面共形，接著再以例如電鑄(electro-plating)的方式形成一上表面平坦且厚度較厚的第二金屬層于第一金屬層上。最后將金屬層與刻板基材剝離(S814)，此剝離后的金屬層即為一光盤母板。本實(shí)施例中，金屬層與刻板基材剝離的方式例如先將基材由金屬層上剝離，接著再通過化學(xué)藥劑將光阻層從金屬層上剝除。
雖然本發(fā)明已以第一實(shí)施例至第四實(shí)施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，所為之更動與潤飾，均應(yīng)包括在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種刻板基材的承載治具，適于固定一基材，該基材具有一中心貫孔，且該基材上配置有一光阻層，該刻板基材的承載治具包括一治具本體，該治具本體具有一基材定位凹槽，該基材定位凹槽的分布范圍涵蓋該治具本體的一形心位置，其中該基材定位凹槽的一中心位置上具有一凸起，且該凸起的位置偏離該治具本體的該形心位置；一配重裝置，可活動地配置于該治具本體上，以使承載有該基材的該治具本體的重心維持在該承載治具的該形心位置上；以及一中心鎖固構(gòu)件，該中心鎖固構(gòu)件適于與該凸起結(jié)合，以將該基材鎖固于該基材定位凹槽中。
2.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該中心貫孔包括圓形貫孔、多邊形貫孔。
3.如權(quán)利要求2所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該凸起包括圓形凸起、多邊形凸起。
4.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材還包括至少一輔助孔，該輔助孔鄰近于該基材邊緣。
5.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材還包括一凹槽，該凹槽位于該基材的該中心位置上。
6.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材還包括復(fù)數(shù)個對位標(biāo)記，該些對位標(biāo)記位于該基材邊緣。
7.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體還包括至少一配重孔，該配重孔鄰近于該配重裝置。
8.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體還包括至少一卸載凹槽，該卸載凹槽位于該基材定位凹槽的邊緣上。
9.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該配重裝置包括一配重砝碼，該配重砝碼具有一定位孔以及一止付螺栓，適于與該定位孔結(jié)合。
10.如權(quán)利要求9所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體還包括一滑道，其中該配重砝碼配置于該滑道上，并通過該止付螺栓將該配重砝碼定位于該滑道上。
11.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于還包括至少一輔助定位構(gòu)件，該輔助定位構(gòu)件配置于該治具本體上，且該輔助定位構(gòu)件凸出于該基材定位凹槽的側(cè)壁，以固定故該基材。
12.如權(quán)利要求1所述的刻板基材的承載治具，其特征在于還包括至少一定位栓，該定位栓配置于該治具本體上，且該定位栓凸出于該基材定位凹槽的側(cè)壁，以固定故該基材。
13.一種刻板基材的承載治具，適于固定一基材，該基材上配置有一光阻層，其特征在于該刻板基材的承載治具包括一治具本體，該治具本體具有一基材定位凹槽，該基材定位凹槽的分布范圍涵蓋該治具本體的一形心位置，該基材定位凹槽底部具有至少一真空貫孔，其中該基材定位凹槽的一中心位置偏離該治具本體的一形心位置；一配重裝置，可活動地配置于該治具本體上，以使承載有該基材的該治具本體的重心維持在該形心位置上。
14.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材上還包括至少一輔助孔，該輔助孔鄰近于該基材邊緣。
15.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體還包括至少一配重孔，該配重孔鄰近于該配重裝置。
16.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材還包括復(fù)數(shù)個對位標(biāo)記，該些對位標(biāo)記位于該基材邊緣。
17.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體還包括至少一卸載凹槽，該卸載凹槽位于該基材定位凹槽的邊緣上。
18.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材定位凹槽底部具有一環(huán)形凹槽，且該環(huán)形凹槽底部具有該真空貫孔。
19.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該基材定位凹槽底部具有一圓形凹槽，且該圓形凹槽底部具有該真空貫孔。
20.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該配重裝置包括一配重砝碼，該配重砝碼具有一定位孔以及一止付螺栓，適于與該定位孔結(jié)合。
21.如權(quán)利要求20所述的刻板基材的承載治具，其特征在于該治具本體更包括一滑道，其中該配重砝碼配置于該滑道上，并通過該止付螺栓將該配重砝碼定位于該滑道上。
22.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于還包括至少一輔助定位構(gòu)件，該輔助定位構(gòu)件配置于該治具本體上，且該輔助定位構(gòu)件凸出于該基材定位凹槽的側(cè)壁，以固定故該基材。
23.如權(quán)利要求13所述的刻板基材的承載治具，其特征在于還包括至少一定位栓，該定位栓配置于該治具本體上，且該定位栓凸出于該基材定位凹槽的側(cè)壁，以固定故該基材。
24.一種刻板基材的制作方法，其特征在于包括(a)提供一基材，該基材表面上已形成有一光阻層；(b)提供一承載治具，該承載治具具有一基材定位凹槽，其中該基材定位凹槽的分布范圍涵蓋該治具本體的一形心位置，且該基材定位凹槽的一中心位置偏離該承載治具的該形心位置；(c)將該基材固定于該基材定位凹槽中，并使得承載有該基材的該承載治具的重心位于該承載治具的該形心位置上；(d)令該承載治具以該形心位置為軸旋轉(zhuǎn)；以及(e)于該形心位置上方的該基材形成一第一資料記錄區(qū)域。
25.如權(quán)利要求24所述的刻板基材的制作方法，其特征在于該第一記錄區(qū)域形成之后還包括下列步驟(f)調(diào)整該基材在該基材定位凹槽中的方位；以及(g)于該形心位置上方的該基材形成一第二資料記錄區(qū)域。
26.如權(quán)利要求25所述的刻板基材的制作方法，更包括重復(fù)步驟(f)至(g)至少一次。
27.如權(quán)利要求25所述的刻板基材的制作方法，其特征在于該第一資料記錄區(qū)域與該第二資料記錄區(qū)域通過一雷射曝光搭配一顯影的方式形成。
28.一種光盤母板的制作方法，其特征在于包括(a)提供一基材，該基材表面上已形成有一光阻層；(b)提供一承載治具，該承載治具具有一基材定位凹槽，其中該基材定位凹槽的分布范圍涵蓋該治具本體的一形心位置，且該基材定位凹槽的一中心位置偏離該承載治具的該形心位置；(c)將該基材固定于該基材定位凹槽中，并使得承載有該基材的該承載治具的重心位于該承載治具的該形心位置上；(d)令該承載治具以該形心位置為軸旋轉(zhuǎn)；(e)于該形心位置上方的該基材形成一資料記錄區(qū)域；(f)調(diào)整該基材在該基材定位凹槽中的方位；(g)重復(fù)步驟(e)至(f)至少一次，每重復(fù)一次即于該基材上形成另一資料記錄區(qū)域，進(jìn)而將該基材制作成一刻板基材；(h)形成一金屬層于該刻板基材上；以及(i)將該金屬層由該刻板基材剝離，其中該金屬層即為一光盤母板。
29.如權(quán)利要求28所述的光盤母板的制作方法，其特征在于該金屬層的形成方式包括形成一第一金屬層于該刻板基材表面，該第一金屬層與該刻板基材表面共形；以及形成一上表面平坦的第二金屬層于該第一金屬層上。
30.如權(quán)利要求28所述的光盤母板的制作方法，其特征在于該金屬層由該刻板基材剝離的方式包括將該金屬層與該光阻層由該基材上剝離；以及將該光阻層從該金屬層上剝除。
31.如權(quán)利要求28所述的光盤母板之制作方法，其特征在于該第一資料記錄區(qū)域與該第二資料記錄區(qū)域通過一雷射曝光搭配一顯影的方式形成。
全文摘要
一種刻板基材的承載治具，適于固定一基材，此基材具有一中心貫孔，且基材上已配置有一光阻層，其主要由一治具本體、一配重裝置以及一中心鎖固構(gòu)件所構(gòu)成。其中，治具本體具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的中心位置上具有一凸起，且凸起的位置偏離治具本體一形心位置；配重裝置可活動地配置于治具本體上，用以使得承載有基材的治具本體的重心維持在承載治具的形心位置上；而中心鎖固構(gòu)件可與上述的凸起結(jié)合，以將基材鎖固于基材定位凹槽中。此外，本發(fā)明通過上述的承載治具進(jìn)行刻板基材以及后續(xù)的光盤母板的制作。
文檔編號G11B7/26GK1517990SQ03100519
公開日2004年8月4日 申請日期2003年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月14日
發(fā)明者陳界文, 陳俊宏 申請人:錸德科技股份有限公司